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公开(公告)号：CN107636450B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201680033546.4
申请日：2016-05-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N21/956 , H01L21/66
Abstract: 基板的检查方法、计算机存储介质以及基板检查装置。关于对通过多种不同的处理装置沿规定的搬送路径被反复处理的基板进行检查的方法，对由任一个处理装置处理过的基板的表面进行摄像来获取第一基板图像，对成为过第一基板图像的摄像对象且在由一个处理装置处理后由与这一个处理装置不同的处理装置进一步处理过的基板的表面进行摄像来获取第二基板图像，接着，基于第一基板图像和第二基板图像进行缺陷检查，根据从第二基板图像被检测出的缺陷是否从第一基板图像也被检测到来确定获取到第一基板图像之后且获取第二基板图像之前的处理是否为该缺陷的原因。
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公开(公告)号：CN104465460B
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201410641400.0
申请日：2011-07-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: G03F7/16 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。
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公开(公告)号：CN102809570A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201210135466.3
申请日：2012-05-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/956 , G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/9513 , G06T7/0004
Abstract: 本发明提供不使用检查用基板、能够防止产生由照明部的照度的降低引起的检查的不顺利的问题的技术。本发明的基板检查装置，具有：模式选择部，用于在检查模式和维护模式之间选择模式，所述检查模式以载置于设置在机箱内的载置台的基板为被摄体进行摄像来进行检查，所述维护模式用于确认照明部的照度；导光部件，设置于上述机箱内，用于将上述照明部的光导向摄像部的摄像元件；判定部，对在维护模式执行时经由上述导光部件被摄像元件取得的照明部的光的亮度是否在预先设定的容许范围内进行判定；和报知部，当由上述判定部判定为上述亮度在上述容许范围外时，用于报知需要进行照明部的更换。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108073049A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201711142462.7
申请日：2017-11-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/70133 , G03F7/70391 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F7/70491
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、曝光装置的调整方法以及存储介质。在对基板的表面整体曝光的曝光装置中，能够对基板面内的各部以适当的曝光量进行曝光。曝光装置具备：载置部，其用于载置基板；多个光照射部，所述多个光照射部分别独立地向所述基板的表面的左右方向上的互不相同的位置照射光来形成从所述基板的表面的一端至另一端的带状的照射区域；载置部用移动机构，其使所述载置部相对于所述照射区域沿前后方向相对地移动以对所述基板的表面整体曝光；以及受光部，其以在该照射区域的一端部与另一端部之间移动的方式接收光以检测所述照射区域的长边方向上的照度分布。通过这种结构，能够防止因所述照度分布异常而导致基板的各部的曝光量异常。
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公开(公告)号：CN107533016A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680026816.9
申请日：2016-05-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N21/956 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统的基板的检查方法，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。
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公开(公告)号：CN102664158B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201110351996.7
申请日：2011-11-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67288 , H01L21/67178 , H01L21/67276 , H01L21/67745
Abstract: 本发明提供一种即时地判断处理部有无异常并防止产生有大量的次品晶片的涂敷显影处理装置，其包括：晶片输送机构；缺陷检查部；控制晶片的输送的输送控制单元(200)；基于缺陷的状态进行该缺陷的分类的缺陷分类单元(203)；存储晶片被处理单元处理时的晶片输送机构的晶片的输送路径的存储单元(202)；和缺陷处理指定单元(204)，其基于由缺陷分类单元(203)分类的缺陷的种类和存储在存储单元(202)的基板的输送路径，指定产生有该被分类的缺陷的处理单元，并判定该被指定的处理部有无异常，输送控制单元(200)以绕过被缺陷处理指定单元(204)判定为异常的处理单元输送晶片的方式来进行晶片输送机构的控制。
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公开(公告)号：CN102314081B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110198010.7
申请日：2011-07-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/00 , H01L21/00 , H01L21/677
CPC classification number: G03F7/16 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。
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公开(公告)号：CN102664158A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201110351996.7
申请日：2011-11-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67288 , H01L21/67178 , H01L21/67276 , H01L21/67745
Abstract: 本发明提供一种即时地判断处理部有无异常并防止产生有大量的次品晶片的涂敷显影处理装置，其包括：晶片输送机构；缺陷检查部；控制晶片的输送的输送控制单元(200)；基于缺陷的状态进行该缺陷的分类的缺陷分类单元(203)；存储晶片被处理单元处理时的晶片输送机构的晶片的输送路径的存储单元(202)；和缺陷处理指定单元(204)，其基于由缺陷分类单元(203)分类的缺陷的种类和存储在存储单元(202)的基板的输送路径，指定产生有该被分类的缺陷的处理单元，并判定该被指定的处理部有无异常，输送控制单元(200)以绕过被缺陷处理指定单元(204)判定为异常的处理单元输送晶片的方式来进行晶片输送机构的控制。
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