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公开(公告)号：CN106989701B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201610912552.9
申请日：2016-10-20
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明的实施例提供了一种用于确定制造工具和工件之间的空隙的系统和方法。在示例性实施例中，该方法包括在工具中接收衬底从而在其间限定间隙。在衬底的与间隙相反的底面上设置的变换器提供穿过衬底传导的声波信号。变换器还接收来自限定间隙的衬底的顶面的第一回声和来自进一步限定间隙的工具的底面的第二回声。基于第一回声和第二回声测量间隙的宽度。在一些实施例中，工具的底面是喷嘴的底面，且在变换器接收第一回声和第二回声时，喷嘴在间隙中提供液体或气体。本发明的实施例还提供了测量厚度的方法。
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公开(公告)号：CN106324982B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201510843150.3
申请日：2015-11-26
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F1/82
Abstract: 本发明涉及一种用于防止雾度的掩模表膜指示物。具体而言，本发明提供一种表膜掩模组合件，其包含掩模、表膜框架和表膜薄膜。所述表膜框架具有附着到所述掩模的底侧和由所述表膜薄膜覆盖的顶侧。所述表膜框架包含在其内表面上的涂层且所述涂层经配置以监测所述表膜掩模组合件内部的环境变化。在实施例中，所述环境变化包含所述表膜掩模组合件内部增大的湿度和/或增大的化学离子密度。还揭示制造和使用所述表膜掩模组合件的方法。
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公开(公告)号：CN107463065A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710358246.X
申请日：2017-05-19
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F1/72
CPC classification number: G06T7/0004 , G03F1/24 , G03F1/26 , G03F1/72 , G03F1/84 , G06T7/001 , G06T7/11 , G06T2207/10004 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148 , H01L21/0273
Abstract: 本发明的实施例提供了一种修复掩模的方法，包括检查掩模以定位掩模的缺陷的缺陷区域。获取缺陷区域的空中影像的相位分布。确定成像系统的点扩散函数。基于缺陷区域的空中影像的相位分布和点扩散函数来确认掩模的一个或多个修复区域。对掩模的一个或多个修复区域执行修复工艺以形成一个或多个修复部件。
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公开(公告)号：CN107037687A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201611024469.4
申请日：2016-11-15
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F1/72
CPC classification number: G03F1/72 , C23C16/047 , C23C16/45523 , G03F1/22 , G03F1/26 , G03F1/74 , G03F1/82 , H01L21/02277 , H01L21/02334 , H01L21/02337 , H01L21/0262 , H01L21/02664 , H01L21/28556 , H01L21/321
Abstract: 本公开的实施例提供半导体装置的制造方法，此方法包含以辐射光束照射基底的第一表面。当照射基底的第一表面时，将前驱气体引入靠近第一表面，以沉积包含第一材料的一层。在沉积此层之后，从靠近第一表面处将前驱气体移除。在移除前驱气体之后与在形成另一层于此层上方之前，当照射此层的第二表面时，将清洁气体引入靠近此层的第二表面，以将第一材料转变为第二材料。
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公开(公告)号：CN1854889A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200510114359.2
申请日：2005-10-24
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/38
Abstract: 本发明提供一种光罩制造系统与光罩制造方法该光罩制造系统包括至少一个曝光单元，用以选取一配方以供随后在一处理单元内执行的一烘烤程序使用，一缓冲单元耦合至该曝光单元以将该光罩的基板由该曝光单元移动至该后处理单元，而不会使该光罩的基板曝露至环境当中；以及该后处理单元是耦合至该缓冲单元与该曝光单元，并利用该曝光单元选取配方的相关烘烤参数，在该光罩的基板上执行一烘烤程序。本发明可避免发生于曝光程序和烘烤程序之间过度的时间延迟，且可降低微粒污染，亦能避免化学放大光致抗蚀剂遭受射线污染。
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公开(公告)号：CN107664917A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201610854281.6
申请日：2016-09-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种移除极紫外光(EUV)表膜粘胶的方法，包括：接收极紫外光(EUV)掩模；EUV掩模具有设置于其上方的EUV表膜；EUV表膜至少部分经由设置于EUV掩模上的粘胶连接至EUV掩模；移除EUV表膜从而暴露出粘胶；通过针对EUV掩模上置有粘胶的区域实行局部粘胶移除工艺，局部粘胶移除工艺的实行不影响EUV掩模上不具有粘胶的其它区域。局部粘胶移除工艺可包括注射清洗化学物质至粘胶上，并移除由清洗化学物质及粘胶所产生的废弃化学物质。局部粘胶移除工艺也可包括施用等离子体至粘胶的等离子体工艺。局部粘胶移除工艺还可包括发射聚焦激光束于粘胶的激光工艺。
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公开(公告)号：CN106989701A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201610912552.9
申请日：2016-10-20
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC classification number: G01N29/44 , B08B3/04 , B08B5/02 , B08B13/00 , G01B17/00 , G01B21/16 , G01N2291/044 , H01L21/02041 , H01L21/02282 , H01L21/02623 , H01L21/288 , H01L21/67253 , H01L22/10 , G01B17/02
Abstract: 本发明的实施例提供了一种用于确定制造工具和工件之间的空隙的系统和方法。在示例性实施例中，该方法包括在工具中接收衬底从而在其间限定间隙。在衬底的与间隙相反的底面上设置的变换器提供穿过衬底传导的声波信号。变换器还接收来自限定间隙的衬底的顶面的第一回声和来自进一步限定间隙的工具的底面的第二回声。基于第一回声和第二回声测量间隙的宽度。在一些实施例中，工具的底面是喷嘴的底面，且在变换器接收第一回声和第二回声时，喷嘴在间隙中提供液体或气体。本发明的实施例还提供了测量厚度的方法。
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公开(公告)号：CN106873307A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201611017298.2
申请日：2016-11-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种修复光掩模的方法。上述方法包括接收一光掩模，其包括一图案化特征部件。图案化特征部件产生一相移且具有一透光率。辨识光掩模上的一缺陷区。形成一修复特征部件于光掩模上的缺陷区上方。形成修复特征部件包括形成一第一图案化材料层于缺陷区上方以及形成一第二图案化材料层于第一图案化材料层上方，以形成修复特征部件。修复特征部件产生上述相移且具有上述透光率。
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