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公开(公告)号：CN117616336A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280046765.1
申请日：2022-07-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的第一课题在于提供一种即使从曝光处理后到实施显影处理的时间(显影前待机时间)发生变动，所形成的图案的线宽的变动也小的图案形成方法。另外，本发明的第二课题在于提供一种与上述图案形成方法相关的电子器件的制造方法。另外，本发明的第三课题在于提供一种适于形成上述图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物及抗蚀剂膜。本发明的图案形成方法具有：使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜的工序；对抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影的工序，上述组合物满足以下所示的要件A1或要件A2。要件A1：组合物包含具有通过曝光、酸、碱或加热的作用使极性降低的基团的树脂X1。要件A2：组合物包含具有极性基团的树脂X2、及通过曝光、酸、碱或加热的作用与上述极性基团反应的化合物。
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公开(公告)号：CN115244464A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202180019877.3
申请日：2021-03-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/17 , C07C381/12 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种能够获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：包含锍阳离子的盐，所述锍阳离子具有被含有酸分解性基团的基团取代的芳基且具有至少3个氟原子；及树脂，其通过酸的作用进行分解而极性增大，含有酸分解性基团的基团包含通过酸的作用进行分解而极性增大的基团，含有酸分解性基团的基团不包含氟原子。
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公开(公告)号：CN115023652A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011617.1
申请日：2021-01-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F212/08 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物、使用上述正型抗蚀剂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述正型抗蚀剂组合物含有(A)离子性化合物及(B)树脂，所述(B)树脂含有具有与上述离子性化合物中的离子性基团相互作用的相互作用性基团的重复单元(b1)，并且主链通过X射线、电子束或极紫外线的照射而分解。
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公开(公告)号：CN105051607B
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201480015627.2
申请日：2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物和膜、及制造电子元件的方法。根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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公开(公告)号：CN106716257B
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201580052713.5
申请日：2015-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种DOF及LER良好的图案形成方法、抗蚀剂图案及电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后，在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105008996B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201480011597.8
申请日：2014-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。本发明的上述技术特征确保在形成超细图案时，粗糙度性能及散焦性能高且分辨率及曝光宽容度卓越。
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公开(公告)号：CN107407887A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680017158.7
申请日：2016-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , C09D133/04 , G03F7/32 , G03F7/325 , H01L21/027
Abstract: 一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，且含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。一种图案形成方法，其具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，通过在抗蚀剂膜上涂布上述上层膜形成用组合物，在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案。
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公开(公告)号：CN107407886A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680016941.1
申请日：2016-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/095 , H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/185 , C08F2220/1858 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C09D133/066 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、通过上述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、包含上述图案形成方法的电子器件的制造方法，并且通过上述上层膜形成用组合物以高级别兼顾DOF、EL及液残留缺陷性能，所述图案形成方法具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，利用上层膜形成用组合物而在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案，所述图案形成方法中，上层膜形成用组合物含有ClogP值为2.85以上的具有重复单元(a)的树脂及ClogP为1.30以下的化合物(b)，上层膜相对于水的后退接触角为70度以上。
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公开(公告)号：CN106716257A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580052713.5
申请日：2015-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种DOF及LER良好的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案以及包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后，在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
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公开(公告)号：CN105051607A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015627.2
申请日：2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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