等离子体生成装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102469676B

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:CN201110362975.5

    申请日:2011-11-16

    Abstract: 一种等离子体生成装置包括:电源(10),其电极之一连接到N个真空室(2-1至2-3)的真空室壁(15-1至15-3);振荡器(11),其在每个预定周期输出脉冲信号;N个脉冲放大电路(13-1至13-3),其并联连接到振荡器以及电源的另一电极,并且每个脉冲放大电路放大脉冲信号并且将放大的脉冲信号提供给设置在N个真空室中的N个电极中的对应的一个电极;以及至少(N-1)个定时生成电路(12-1至12-3),其连接在振荡器和至少(N-1)个脉冲放大电路之间,并且使脉冲信号延迟分别不同的延迟时间,使得在任何特定时间,脉冲信号仅被供给其中一个脉冲放大电路。

    用于形成无定形硬碳涂层的方法和设备

    公开(公告)号:CN103572249A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310341531.2

    申请日:2013-08-07

    CPC classification number: C23C16/0272 C23C16/26 C23C16/515

    Abstract: 本发明涉及用于形成无定形硬碳涂层的方法和设备。在等离子加工设备中包括限定加工腔的圆柱形电极、置于所述加工腔的中心区域中的杆状电极、并且所述杆状电极和所述圆柱形电极之间的距离是1至10mm,通过连续进行以下一系列的步骤来执行无定形且硬的碳涂层的形成:在存在氩气、氢气和氮气的情况下使衬底受到等离子氮化预处理,在该预处理的衬底上形成中间层,并且在存在碳源的情况下使该衬底受到等离子CVD处理以形成无定形且硬的碳涂层。根据本发明,形成类金刚石碳(DLC)涂层,同时确保在高强度电场的施加下高密度等离子的稳定形成成为可能。

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