公开(公告)号：CN102314081A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110198010.7

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  富田浩 ,  早川诚 ,  吉田达平

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。

公开(公告)号：CN101060093B

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200710101348.X

申请日：2007-04-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田上光广 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67769 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/14 ,  Y10S414/141

Abstract: 本发明提供一种尽可能缩小基板收纳部的基板的收纳空间，以实现装置的小型化、增大基板的收纳数量，并且提高生产率的基板搬送处理装置。该基板搬送处理装置包括：配置收容晶片的载体的载体块；具有晶片的处理单元的处理块；将晶片交接至处理单元的主臂；配置在载体块和处理块之间，能够收纳晶片的架单元；以及将晶片交接至架单元的交接臂。架单元具有能够从主臂与交接臂交叉的两个方向进行晶片交接的开口部，并且，将支撑晶片的多个载置架相互隔开间隔而叠层，将主臂和交接臂形成为以在截面方向上与载置架的厚度重叠的位置关系相对于基板收纳部进退。

公开(公告)号：CN119846908A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202411389185.X

申请日：2024-10-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中岛清次 ,  渡边刚史 ,  大园启 ,  榎木田卓

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及基板处理装置。抑制随着高生产率化而引起的基板处理装置的大型化。基板处理装置具备：送入送出模块，其具有载置多个构成为能够容纳基板的容器的容器载置部；和处理模块，其与送入送出模块沿宽度方向相邻地设置，并具有多个对基板实施处理的处理单元，在送入送出模块的处理模块侧设有用于交接基板的交接单元层叠而成的交接模块，以用于与该处理模块之间的交接，送入送出模块还具有在容器载置部和交接模块之间输送基板的第1输送机构，处理模块还具有在交接模块和处理单元之间输送基板的第2输送机构，第1输送机构具有支承基板的支承部，并构成为能够使支承于支承部的基板在俯视时沿与宽度方向交叉的进深方向通过交接模块。

公开(公告)号：CN112400217A

公开(公告)日：2021-02-23

申请号：CN201980046663.8

申请日：2019-07-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田之上隼斗 ,  鸟野崇 ,  大川理 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/304 ,  B23K26/53 ,  H01L21/683

Abstract: 一种基板处理系统，用于对基板进行处理，所述基板处理系统具有：第一改性装置，其用于针对将第一基板的表面与第二基板的表面进行接合所得到的重合基板，在所述第一基板的内部形成沿面方向从中心部至少朝向该第一基板的作为去除对象的周缘部延伸的内部面改性层；第二改性装置，其用于在所述第一基板的内部形成沿所述周缘部与中央部的边界在厚度方向上延伸的周缘改性层；以及分离装置，其以所述内部面改性层为基点将所述第一基板的背面侧分离。

公开(公告)号：CN107180775B

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201710337989.9

申请日：2012-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  酒田洋司 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  中岛常长

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板处理系统和基板搬送方法。在具有处理站(3)和交接站(5)的涂敷显影处理系统中，交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元(141)、至少对清洗后的晶片的背面，在搬入到曝光装置之前检查能否进行该晶片的曝光的晶片检查单元(101)、具有在清洗单元(141)和检查单元(142)之间搬送晶片的臂的晶片搬送装置(120)。清洗单元(141)和检查单元(142)在交接站(5)的正面侧，在上下方向设置有多层，晶片搬送装置(120)设置于与清洗单元(141)和检查单元(142)相邻的区域。

公开(公告)号：CN104465460B

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201410641400.0

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  富田浩 ,  早川诚 ,  吉田达平

IPC: H01L21/67

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。

公开(公告)号：CN103177992B

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201210487648.7

申请日：2012-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 牧准之辅 ,  矢野光辉 ,  中野征二 ,  渡边刚史 ,  丰田康典 ,  榎木田卓 ,  饭田成昭 ,  原田浩树

IPC: H01L21/677

CPC classification number: G06F17/00 ,  B25J13/085 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供一种搬送装置和搬送方法，在利用电机的旋转驱动力使装载有被搬送部件的被驱动单元移动从而搬送被搬送部件时，能够检测搬送时发生的异常。该搬送装置将被搬送部件装载于被驱动单元进行搬送，该搬送装置的特征在于，包括：驱动单元，利用电机的旋转驱动力使驱动侧传动轮旋转，从而使架设在该驱动侧传动轮的传动带移动，使连结于该传动带的被驱动单元在规定的方向上移动；和监视被驱动单元的搬送状态的搬送监视单元，搬送监视单元检测出使被驱动单元移动时所需的上述电机的转矩值，基于所检测的转矩值，计算出该转矩值的相对时间的转矩微分值，并利用所计算的转矩微分值检测搬送状态。通过具有上述特征的搬送装置能够完成上述课题。

公开(公告)号：CN103021915B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201210356691.X

申请日：2012-09-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 榎木田卓 ,  中原田雅弘 ,  木山秀和 ,  饭田成昭 ,  宫田亮

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明使基板处理系统的覆盖区域变小。本发明的基板处理系统（1）包括：处理站（3），其在上下方向上多层地设置有多个处理单元；盒式部件载置台（12），其载置收容多个晶片（W）的盒式部件；和配置在处理站（3）和盒式部件载置台（12）之间的晶片搬送机构（21），在该基板处理系统（1）中，在处理站（3）和晶片搬送机构（21）之间，配置有多层地设置有多个交接单元而构成的交接块（22），该多个交接单元暂时收容在盒式部件载置台（12）和处理站（3）之间被搬送的晶片和在各处理单元的各层之间被搬送的基板。晶片搬送机构（21）包括：在盒式部件载置台（12）和交接块（22）之间搬送晶片的第一搬送臂；和在交接单元的各层之间搬送晶片的第二搬送臂。

公开(公告)号：CN102456601B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201110328464.1

申请日：2011-10-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梶原英树 ,  牧准之辅 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67265 ,  H01L21/67742

Abstract: 本申请提供能够可靠且容易地检测出保持部件的形状是否存在异常的保持部件的形状判定装置和方法。在使作为保持部件的叉(3A)前进时，按照使该叉(3A)通过其前方的方式，在叉(3A)的行进方向的侧面设置行传感器(4)。在使叉(3A)相对于行传感器(4)进退时，取得使该叉(3A)的上下方向的位置与叉(3A)的进退方向的位置对应的数据。根据该取得的数据，计算上下方向的位置对上述进退方向的位置取二次微分的值，根据该微分值来判定保持部件的形状有无异常。

公开(公告)号：CN102315091B

公开(公告)日：2015-10-14

申请号：CN201110197922.2

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/67745

Abstract: 本发明提供一种涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质，在单位块发生异常时，进行维修时，抑制涂敷显影装置的生产率降低并且抑制处理块的设置面积。构成涂敷显影装置，具备：层叠的前段处理用的单位块；在各个对应的层叠的后段处理用的单位块之间设置、在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接用的涂敷处理用的交接部；在各段的涂敷处理用的交接部之间进行基板的搬送用的能够自由升降的辅助移载机构；在上述前段处理用的单位块层叠的显影处理用的单位块。在各层之间交接基板，能够避免不可以使用的单位块搬送基板。此外，显影用的单位块和前段处理用的单位块层叠，抑制设置面积。