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公开(公告)号：CN104749888A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410858486.2
申请日：2014-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 提供了修整光致抗蚀剂图案的组合物和方法。光致抗蚀剂修整组合物包括：基体聚合物，其包括从以下通式(I)的单体形成的单元，其中：R1选自氢、氟、C1-C3烷基、和C1-C3氟烷基；R2选自C1-C15亚烃基；且R3选自C1-C3氟烷基；不含氟的芳酸；和溶剂。所述组合物和方法特别适用于半导体设备的制造。
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公开(公告)号：CN104698749A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201510148671.7
申请日：2011-01-25
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： 刘骢 , C·吴 , G·泊勒斯 , G·P·普罗科波维奇 , C-B·徐
Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物各自包含1)两个或更多个羟基取代基和2)一个或多个光酸不稳定基团。
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公开(公告)号：CN102207678B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201110063151.8
申请日：2011-01-25
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： 刘骢 , C·吴 , G·泊勒斯 , G·P·普罗科波维奇 , C-B·徐
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07C271/16 , C07C269/04
CPC classification number: C07C271/16 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32
Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种包含多个羟基部分的新含氮化合物以及包含该含氮化合物的光致抗蚀剂组合物。优选含氮化合物包含1)多个羟基取代基(即2个或更多个)和2)一个或多个光酸不稳定基团。
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公开(公告)号：CN103852973A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201310757277.4
申请日：2013-11-29
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/40 , C07C309/03 , C07C309/06 , C07D239/26 , C07D241/12 , C07D263/32 , C07D277/22 , C07D333/48 , G03F7/0397 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/30 , G03F7/405
Abstract: 本发明提供了一种新的离子型热酸生成剂组合物。同样提供了光刻胶组合物、抗反射涂覆组合物，和化学修整外涂层组合物，和使用这些组合物的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103186046A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201210586171.8
申请日：2012-12-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/09 , C07D493/18 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07C381/12
CPC classification number: C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/0392
Abstract: 一种光致生酸剂，包括式(I)所示的化合物：其中，式(I)中各Ra独立地是H、F、C1-10非氟化有机基团、C1-10氟化有机基团，或包括至少一种上述基团的组合，前提是至少一个Ra是F或C1-10氟化有机基团，所述C1-10氟化和非氟化有机基团各自任选地包含O,S,N或包括至少一种上述杂原子的组合；L1是连接基团，所述连接基团包含包括O,S,N,F的杂原子或者包括至少一种上述杂原子的组合；G+是式(II)的鎓盐：其中在式(II)中，X是S或I，各R0独立地是C1-30烷基，多环或单环C3-30环烷基，多环或单环C4-30芳基，或包括至少一种上述基团的组合，前提是各R0是C6单环芳基时至少一个R0是被取代的，其中当X是I时，a是2，X是S时,a是3，p是0或1，q是1-10的整数。
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公开(公告)号：CN102799068A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201210264011.1
申请日：2012-05-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 一种光刻胶组合物包含酸敏感聚合物，和具有如下通式的环状锍化合物：(Ra)1-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基，C6-30芳基，C7-30芳烷基，或包含前述至少一种的组合，Ar是单环，多环，或稠合多环C6-30芳基，每个Rb独立地为H，F，直链或支链的C1-10氟烷基，或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基，L是C1-30的连接基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含至少一种前述杂原子的组合，X是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或稠合多环脂环基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含前述至少一种的组合，并且1是0到4的整数，m是3到20的整数，n是0到4的整数，且p是0到2的整数。
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公开(公告)号：CN102621806A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201110462560.5
申请日：2011-11-15
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , C07D313/10 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C07D493/08 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 内酯类光致酸发生剂和树脂以及包含其的光致抗蚀剂。提供新型包含内酯的光致酸发生剂化合物(“PAGs”)和包含该PAG化合物光致抗蚀剂组合物。这些光致抗蚀剂组合物可应用于电子设备的生产。提供一种下式表示光致酸发生剂化合物，其中每个R相同或不同，为氢和非氢取代基；Y是连接基团；每个Rf独立地选自氢、氟、和氟代(C1-C10)烷基；M是阳离子；n是0到6的整数；以及m是1到10的整数。
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公开(公告)号：CN102180822A
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN201010625168.3
申请日：2010-12-14
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07C381/12 , C07D407/12 , C07J9/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C313/04 , C07C321/28 , C07C381/12 , C07C2603/74 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/162 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶。提供了一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物，其中W，Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基；任选取代的氟烷氧基；或任选取代的氟代碳环芳基；W’，Y’相互独立地为与W，Y相同基团；W”，Y”相互独立地为与W，Y相同基团；n，n’和n”各自相同或不同，并且分别为正整数；U，U’和U”各自相同或不同，并且分别为连接基团；R，R’和R”各自相同或不同，并且分别为任选取代的碳脂环基团，任选取代的杂脂环基团，任选取代的碳环芳基，或任选取代的杂芳香族基团；X+是反离子。
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公开(公告)号：CN104698749B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201510148671.7
申请日：2011-01-25
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： 刘骢 , C·吴 , G·泊勒斯 , G·P·普罗科波维奇 , C-B·徐
Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物各自包含1)两个或更多个羟基取代基和2)一个或多个光酸不稳定基团。
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