公开(公告)号：CN107078025A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580045586.6

申请日：2015-08-18

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树 ,  本间猛 ,  米泽诗织

IPC: H01L21/027 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50

Abstract: 一种光固化性组合物，其含有满足OA＝NA/(NC,A‑NO,A)的聚合性化合物(A)，其中NA、NC,A和NO,A分别表示(A)中的原子总数、碳原子数和氧原子数；和含有至少一种包括光聚合引发剂(B)的化合物(X)的非聚合性组分(E)，比例在相对于(A)和(E)的总重量为10％至50％的范围内。组分(E)具有250以下的重均分子量。化合物(X)满足OX＝NX/(NC,X‑NO,X)。NX、NC,X和NO,X分别表示相应化合物(X)中的原子总数、碳原子数和氧原子数。组合物满足：OA‑OE>1.00且OAE

公开(公告)号：CN106537557A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201580037057.1

申请日：2015-06-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间猛 ,  伊藤俊树 ,  大谷智教 ,  岩下和美

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  B32B27/00 ,  C09J4/02 ,  C09J11/06

Abstract: 在纳米压印过程中，光固化产物经常与基板分离并且由于光固化产物与基板之间的粘合性不足而附着至模具。这导致图案分离的缺陷。一种用于在基板与光固化性组合物之间形成粘着层的粘着层组合物，其包括具有至少两个官能团的化合物(A)和溶剂(B)。所述官能团包括：至少一个能够结合至基板的官能团，其选自由羟基、羧基、硫醇基、氨基、环氧基和(封端的)异氰酸酯基组成的组；和至少一个氢供给性基团，其作为能够结合至光固化性组合物的官能团。

公开(公告)号：CN106463356A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580024398.5

申请日：2015-04-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 加藤顺 ,  川崎阳司 ,  米泽诗织 ,  伊藤俊树

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/50 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C08F222/1006 ,  C08F2/50 ,  C08F220/10 ,  C08F222/10 ,  C08F2222/1026 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/266 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/4846 ,  H05K3/0017 ,  H05K3/061 ,  H05K2203/092

Abstract: 提供一种纳米压印用固化性组合物，其即使当在低曝光量下通过光纳米压印方法使所述固化性组合物固化时，也能够形成具有充分固化的表面且图案倒塌缺陷倾向较小的固化产物。提供形成此类固化产物的纳米压印方法。提供即使在低曝光量下固化时图案倒塌缺陷倾向也较小的固化产物，此类固化产物的制造方法，光学组件的制造方法，电路板的制造方法和电子组件的制造方法。一种固化性组合物，其在固化状态下满足式(1)：Er1/Er2≧1.10(1)，其中，Er1表示所述固化性组合物的固化产物的表面折减弹性模量(GPa)，和Er2表示所述固化产物的内部折减弹性模量(GPa)。

公开(公告)号：CN104039836B

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201280062769.5

申请日：2012-11-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 松藤奈央子 ,  伊藤俊树 ,  川端香奈江

IPC: C08F2/50 ,  H01L21/027 ,  C07C271/12 ,  C07C271/24

CPC classification number: B29C59/026 ,  B29L2031/3425 ,  C08F2/50 ,  H01L21/266 ,  H01L21/3081 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明提供具有高聚合速率和高聚合转化率的光固化性组合物。还提供具有高产量的图案化方法。光固化性组合物含有自由基聚合性单体(A)、光聚合引发剂(B)和用作增感剂并且具有下述通式(1)的化合物(C)。X1和X2选自由氢原子、烷基、苯基、萘基、和其中部分或全部氢原子被氟取代的烷基组成的组。X1和X2可相同或不同。R1‑R10独立地选自由氢原子、卤素原子、烷基、烃氧基、苯基、萘基和其中部分或全部氢原子被氟取代的烷基组成的组。R1‑R10可相同或不同。

公开(公告)号：CN104246976A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201380021750.0

申请日：2013-04-23

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树 ,  饭村晶子

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

CPC classification number: B29C35/0805 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29K2025/06 ,  B29K2025/08 ,  B29K2105/0002 ,  B29K2105/0085 ,  B29K2995/0027 ,  C08F112/08 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0273 ,  H05K1/181 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/064

Abstract: 提供一种光固化物的制造方法，通过其可改进转印精度并且可获得小的表面粗糙度。所述方法包括以下步骤：将光固化性组合物配置在基板上；使模具与光固化性组合物接触；用光照射光固化性组合物；以及使模具从光固化性组合物脱模。接触在冷凝性气体气氛中进行，冷凝性气体在接触时的温度条件下和在当光固化性组合物侵入基板与模具之间的间隙或模具上设置的凹部时冷凝性气体受到的压力条件下冷凝，并且光固化性组合物包括相对于冷凝性气体的重量变化率为-1.0％至3.0％的气体溶解抑制剂。

公开(公告)号：CN103907174A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201280051649.5

申请日：2012-10-19

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树 ,  松藤奈央子 ,  川端香奈江

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

CPC classification number: B05D3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/022 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明提供膜的制造方法，包括：在基材上涂布光固化性组合物以形成涂布膜，该光固化性组合物含有聚合性单体、光聚合引发剂和通过光刺激而产生气体的感光性气体产生剂；使模具与该涂布膜接触；通过该模具用光照射该涂布膜以使该涂布膜固化并且在该涂布膜中产生气体；和用光照射该涂布膜后使该模具从该涂布膜脱离以在该基材上形成具有预定的图案形状的膜(固化膜)，其中用光对该涂布膜的照射中，该涂布膜中的聚合性单体的聚合反应的反应速率高于该涂布膜中的感光性气体产生剂的气体产生反应的反应速率。

公开(公告)号：CN102548744A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080038170.9

申请日：2010-08-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树

IPC: B29D11/00

CPC classification number: B29D11/00355 ,  Y10T428/24752

Abstract: 具有组成分布的塑料部件的制造方法包括：将含有放射线聚合性的第一单体的第一放射线聚合性组合物填充到其上形成了放射线照射表面的铸塑单元中；通过用放射线照射铸塑单元的放射线照射表面而得到第一组合物的聚合物，以使第一放射线聚合性组合物的一部分聚合；将第一放射线聚合性组合物的未聚合部分从铸塑单元中除去；通过将含有放射线聚合性的第二单体的第二放射线聚合性组合物填充到通过该除去而产生的铸塑单元的间隙中而使其与第一组合物的聚合物接触；使第二放射线聚合性组合物分散在第一组合物的聚合物中；和使在铸塑单元内分散的第二放射线聚合性组合物和第一组合物的聚合物全部固化。

公开(公告)号：CN101038436B

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200710088522.1

申请日：2007-03-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树 ,  水谷夏彦 ,  山口贵子 ,  稻生耕久

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  C09C3/12

CPC classification number: G03F7/165 ,  C07F7/12 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755

Abstract: 本发明提供使用更少数量的处理步骤形成低缺陷的微粒图案，点阵图案或孔阵图案的光敏硅烷偶联剂，以及使用这种光敏硅烷偶联剂的构图方法，其中所使用的是具有被邻-硝基苄氧羰基保护的仲氨基的光敏硅烷偶联剂。

公开(公告)号：CN101256357A

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200810004856.0

申请日：2008-02-04

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树 ,  山口贵子

IPC: G03F7/004 ,  C08F112/14 ,  C08F8/28 ,  C07C49/84 ,  C08G8/36

CPC classification number: G03F7/039 ,  C07C37/055 ,  C07C49/84 ,  C07C225/22 ,  C08G8/28 ,  C08L61/14 ,  C07C39/04

Abstract: 本发明提供了能形成具有低LER(线边缘粗糙度)的光刻胶图案的感光化合物。本发明还提供了其中感光化合物溶解于溶剂中的感光组合物，使用该感光组合物的光刻胶图案形成方法，和使用该光刻胶的器件制造方法。本发明的感光化合物是在分子中具有两个或更多个由下面的通式(1)表示的结构单元的感光化合物，其中R1－R10选自氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、苯基、萘基和部分或全部氢原子被氟原子取代的烷基；且X是取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚萘基。

公开(公告)号：CN118648087A

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202380020432.6

申请日：2023-01-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤祐斗 ,  伊藤俊树 ,  河田功

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

Abstract: 本发明的目的是提供即使在固化性组合物的液膜厚度为厚的情形中也有利于抑制充填速度降低的技术。一种膜形成方法，包括：将固化性组合物(102)配置在基材(101)上的配置步骤；在配置步骤之后使固化性组合物(102)与模具(107)的膜形成区域接触的接触步骤；在接触步骤之后使固化性组合物(102)固化的固化步骤；和在固化步骤之后使固化性组合物(102)和模具(107)相互分离的分离步骤。在所述接触步骤中，存在充填所述基材(101)和所述模具(107)之间的空间的气体。所述气体相对固化性组合物(102)的溶解度系数为0.5kg/m3·atm至10kg/m3·atm。平均液膜厚度大于或等于70nm，所述平均液膜厚度是通过将固化性组合物(102)的体积除以所述膜形成区域的表面积获得的值。