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公开(公告)号：CN110945433A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049089.7
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了设计以减少具有大范围的尺寸、材料、行进速率和入射角的污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性。根据本公开的方面，提供有包括第一腔室和第二腔室、具有第一表面的第一结构、和第二结构的物体平台。第二结构配置成支撑第二腔室中的物体，所述第二结构可相对于第一结构移动。第二结构包括第二表面，所述第二表面与第一结构的第一表面相对，从而限定在第一结构与第二结构之间的间隙，所述间隙在第一腔室与第二腔室之间延伸。第二结构还包括第一腔室内的第三表面。所述物体平台还包括设置在所述第三表面的至少一部分上的捕获器，所述捕获器包括多个挡板。
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公开(公告)号：CN108713167A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201780016112.8
申请日：2017-01-26
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/705 , G03F7/70783
Abstract: 一种设备，包括：用于调节辐射束的照射系统；用于支撑图案形成装置的支撑件，图案形成装置能够在辐射束的截面中向辐射束赋予图案以形成经图案化的辐射束；被构造为保持衬底的衬底台；用于将经图案化的辐射束投射到衬底的目标部分上的投射系统；以及控制系统，控制系统被配置为：接收表征图案分布的图案数据，接收表征辐射束的辐射数据，基于图案数据和辐射数据确定图案的耗能分布，通过在图案形成装置的热机械模型中应用耗能分布来确定图案的变形，并且基于图案的变形确定用于控制设备的部件的控制信号。
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公开(公告)号：CN108351598A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680063283.1
申请日：2016-10-06
Applicant: ASML控股股份有限公司
Abstract: 一种量测系统包括：产生光的辐射源、光学调制单元、反射器、干涉仪和检测器。光学调制单元将光的第一偏振模式与光的第二偏振模式在时间上分离开。反射器将光朝衬底引导。干涉仪干涉从衬底上的图案所衍射的光或者从衬底所反射的光，并且由干涉产生输出光。检测器接收来自干涉仪的输出光。输出光的第一偏振模式和第二偏振模式在检测器处在时间上被分离开。
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公开(公告)号：CN108139695A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680059924.6
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML控股股份有限公司
Abstract: 公开了用于测量目标(例如，对准标记(例如，在衬底上))的方法和设备。在“飞入”方向执行目标与测量系统的测量斑点之间的相对运动(例如，目标朝向测量斑点的运动)，使得可以进行针对目标的第一测量。之后，在相反的“飞入”方向进行目标与测量斑点之间的相对运动，使得可以进行针对目标的第二测量。通过对这两个测量进行组合(例如，平均)，消除误差，并且可以实现更高的测量精度。
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公开(公告)号：CN108112267A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201680054143.8
申请日：2016-08-23
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： A·波洛 , S·G·J·马斯杰森 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·D·克斯顿 , R·J·哈弗林
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于确定包括周期性结构的对准目标的位置的对准传感器。对准传感器包括解多路复用器(700)以解多路复用多个强度通道(一个示出为在光纤702处的输出)。解多路复用器包括串联设置的多个级以及许多解多路复用部件(706，708a,b，710a-d，712a-h)，每个解多路复用部件可操作用于划分输入辐射束为两个辐射束部分。第一级具有设置用于接收入射辐射束作为输入辐射束的第一解多路复用部件(706)。每个后续级设置使其具有两倍于前一级的解多路复用部件的数目，在第一级之后每个级的每个解多路复用部件接收从前一级的解多路复用部件输出的辐射束部分的一个作为输入。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107111249A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071512.X
申请日：2015-12-07
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70066 , G03F7/702 , G03F7/70866
Abstract: 一种光刻设备在图案化装置(MA)与图案化装置遮蔽刀片(REB‑X,Y)之间注入气体，以帮助保护图案化装置免受污染。可以通过布置在图案化装置的至少一侧的一个或多个气体供应喷嘴(200)，将气体注入到在图案化装置与图案化装置刀片之间限定的空间中。一个或多个气体供应喷嘴耦合到框架，图案化装置支承结构(MT)相对于该框架移动。每个喷嘴可以被构造和布置为在反射图案化装置的至少图案化区域上方供应气体。
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公开(公告)号：CN107111248A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071474.8
申请日：2015-12-02
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： T·本图里诺 , G·舒尔茨 , D·N·加尔布勒特 , D·N·伯班克 , S·E·德尔皮于尔特 , H·沃格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , L·J·A·凡鲍克霍文 , C·C·沃德
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。
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公开(公告)号：CN107003624A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580068285.5
申请日：2015-11-19
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70133 , G01N21/4738 , G01N2201/061 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G02B5/04 , G02B27/106 , G03F7/70091 , G03F7/70191 , G03F7/70208
Abstract: 一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统，其通过(1)分割照射束为子光束，(2)引导子光束沿着不同光学分支，(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束，并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布，从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。
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公开(公告)号：CN106796406A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580045832.8
申请日：2015-05-29
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明涉及一种测量设备，包括：光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括第一光阑和第二光阑，第一光阑用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过，第二光阑用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及所述光学系统下游的辐射检测器，其用以接收所述非零阶辐射。
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公开(公告)号：CN104662480B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380049621.2
申请日：2013-08-27
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G01B11/2513 , G01D5/347 , G03F7/70716 , G03F7/70783 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑件，构造成保持图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备还包括编码器头，设计成扫描图案形成装置的表面，以确定在沿图案形成装置的长度的第一方向上的变形和在基本上垂直于图案形成装置的表面的第二方向上的变形。
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