-
公开(公告)号：CN105612460B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201480055807.3
申请日：2014-09-11
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： P·A·J·廷尼曼斯 , A·J·登博夫 , J·L·克罗策 , S·G·J·马斯杰森
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F9/7069 , G01B9/02011 , G01B9/02015 , G01B11/272 , G01B2290/70 , G03F9/7049 , G03F9/7088
Abstract: 设备、系统和方法用于使用独立于偏振的干涉仪来检测衬底上的特征的对准。设备、系统和方法包括接收从衬底上的标记衍射或散射的光的光学元件。光学元件可以将衍射光分裂成由一个或多个检测器进行检测的多个子光束。衍射光可以可选地或者在检测之后的处理期间进行组合。系统可以基于具有任何偏振角度或状态的接收到的衍射光来确定对准和/或重叠。
-
公开(公告)号：CN105612460A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201480055807.3
申请日：2014-09-11
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： P·A·J·廷尼曼斯 , A·J·登博夫 , J·L·克罗策 , S·G·J·马斯杰森
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F9/7069 , G01B9/02011 , G01B9/02015 , G01B11/272 , G01B2290/70 , G03F9/7049 , G03F9/7088
Abstract: 设备、系统和方法用于使用独立于偏振的干涉仪来检测衬底上的特征的对准。设备、系统和方法包括接收从衬底上的标记衍射或散射的光的光学元件。光学元件可以将衍射光分裂成由一个或多个检测器进行检测的多个子光束。衍射光可以可选地或者在检测之后的处理期间进行组合。系统可以基于具有任何偏振角度或状态的接收到的衍射光来确定对准和/或重叠。
-
公开(公告)号：CN114667446A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202080065378.3
申请日：2020-09-03
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G01N21/95 , G01N21/956 , G03F7/20
Abstract: 披露了一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法。所述方法包括：接收表示由所述区域所散射的辐射的一部分的辐射信息；以及在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分，以用于获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息，其中所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息。
-
公开(公告)号：CN108112267A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201680054143.8
申请日：2016-08-23
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： A·波洛 , S·G·J·马斯杰森 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·D·克斯顿 , R·J·哈弗林
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于确定包括周期性结构的对准目标的位置的对准传感器。对准传感器包括解多路复用器(700)以解多路复用多个强度通道(一个示出为在光纤702处的输出)。解多路复用器包括串联设置的多个级以及许多解多路复用部件(706，708a,b，710a-d，712a-h)，每个解多路复用部件可操作用于划分输入辐射束为两个辐射束部分。第一级具有设置用于接收入射辐射束作为输入辐射束的第一解多路复用部件(706)。每个后续级设置使其具有两倍于前一级的解多路复用部件的数目，在第一级之后每个级的每个解多路复用部件接收从前一级的解多路复用部件输出的辐射束部分的一个作为输入。
-
公开(公告)号：CN108112267B
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201680054143.8
申请日：2016-08-23
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： A·波洛 , S·G·J·马斯杰森 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·D·克斯顿 , R·J·哈弗林
Abstract: 一种光刻设备包括被配置用于确定包括周期性结构的对准目标的位置的对准传感器。对准传感器包括解多路复用器(700)以解多路复用多个强度通道(一个示出为在光纤702处的输出)。解多路复用器包括串联设置的多个级以及许多解多路复用部件(706，708a,b，710a‑d，712a‑h)，每个解多路复用部件可操作用于划分输入辐射束为两个辐射束部分。第一级具有设置用于接收入射辐射束作为输入辐射束的第一解多路复用部件(706)。每个后续级设置使其具有两倍于前一级的解多路复用部件的数目，在第一级之后每个级的每个解多路复用部件接收从前一级的解多路复用部件输出的辐射束部分的一个作为输入。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112513742B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN201980051246.2
申请日：2019-07-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·A·J·廷尼曼斯 , 帕特里克·华纳 , V·T·滕纳 , M·范德斯卡
IPC: G03F7/20
Abstract: 披露了一种用于获得对由一对结构散射辐射进行描述的按计算方式确定的干涉电场的方法，所述一对结构包括位于衬底上的第一结构和第二结构，所述方法包括：确定与由所述第一结构散射的第一辐射相关的第一电场；确定与由所述第二结构散射的第二辐射相关的第二电场；和按计算方式确定所述第一电场和所述第二电场的干涉，以获得按计算方式确定的干涉电场。
-
公开(公告)号：CN116758012A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310622332.2
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
Abstract: 公开了一种确定与衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法、掩模版、衬底。方法包括：获得结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定感兴趣的特性。
-
公开(公告)号：CN107850862B
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201680041723.3
申请日：2016-06-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·G·C·比恩 , A·J·登博夫 , R·J·F·范哈伦 , P·A·J·廷尼曼斯 , A·雅玛 , I·A·莱利娜 , E·M·休瑟博斯 , H·E·切克利 , 柳星兰 , L·J·P·维尔希斯 , V·E·卡拉多 , L·P·范迪克
Abstract: 描述了一种表征多个衬底的形变的方法。该方法包括以下步骤：‑针对多个n个不同对准测量参数λ并且针对多个衬底测量对准标记的位置；‑将位置偏差确定为n个对准标记位置测量值与标称对准标记位置之间的差值；‑将位置偏差分组成数据集；‑确定平均数据集；‑从数据集中减去平均数据集以获取多个可变数据集；‑对可变数据集执行盲源分离方法，由此将可变数据集分解为表示可变数据集的主成分的特征晶片集合；‑将特征晶片集合细分成标记形变特征晶片集合和衬底形变特征晶片集合。
-
公开(公告)号：CN107077079A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580058279.1
申请日：2015-08-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·博兹库尔特 , M·J·J·加克 , P·A·J·廷尼曼斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G06T7/0004 , G03F7/705 , G03F7/70591 , G03F7/70633 , G06T7/11 , G06T2207/10061 , G06T2207/20224 , G06T2207/30148
Abstract: 基于目标的图像的强度测量目标结构的属性。方法包括(a)获得目标结构的图像；(b)限定(1204)多个候选感兴趣区域，各候选感兴趣区域包括在图像中的多个像素；(c)至少部分基于在感兴趣区域内的像素的信号值来限定(1208，1216)用于候选感兴趣区域的优化度量值；(d)限定(1208，1216)目标信号函数，目标信号函数限定了图像中的各像素对目标信号值的贡献。各像素的贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值。
-
公开(公告)号：CN119452310A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380050535.7
申请日：2023-08-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·A·J·廷尼曼斯 , E·G·范普特恩
Abstract: 披露了一种暗场量测方法。根据与衍射阶的第一部分相关的第一衍射辐射数据的测量参数确定第一部分电场，并且根据与所述衍射阶的第二部分相关的第二衍射辐射数据的测量参数确定第二部分电场。所述衍射阶的所述第一部分和所述衍射阶的第二部分与检测光瞳平面或其共轭平面的相应的部分相关。根据所述第一部分电场和所述第二部分电场确定所述衍射阶的电场。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
31
records
(took 0.033 seconds)
