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公开(公告)号:CN105372945A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201510196867.3
申请日:2015-04-23
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F7/70258 , G03F7/705
Abstract: 本发明提供了方法。该方法包括:在图案化的衬底上形成光刻胶层;从图案化的衬底收集第一覆盖数据;基于来自集成电路(IC)图案的第二覆盖数据至来自图案化的衬底的第一覆盖数据的映射来确定覆盖补偿;根据覆盖补偿对光刻系统实施补偿工艺;以及之后通过光刻系统对光刻胶层实施光刻曝光工艺,从而将IC图案成像至光刻胶层。本发明涉及具有增强的覆盖质量的光刻工艺和系统。
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公开(公告)号:CN102147820B
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN201010546487.5
申请日:2010-11-12
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G06F17/50
CPC classification number: G06F17/5081
Abstract: 本发明涉及一种分解集成电路布局的方法以及储存有多个计算机指令的计算机可读取媒体。本发明的各种实施例提供确保集成电路的布局是可分开的。在一方法实施例中,在具有一布局库的一客户场所产生一布局以作为输入,其中布局库提供已确认为可分开的且能够使用的示例性布局,和可避免导致冲突的布局。本发明的实施例亦提供一实时奇循环(real-time odd cycle)检查器,其中在布局产生期间,该检查器在冲突区域和奇循环出现时,实时将它们识别出来。为了减少内存的使用,可以分开各种装置的布局,以针对冲突来检查每一单独的布局或少数布局,而不是整个应用电路的一个大的布局。一旦在客户场所准备好布局,它就被发送到制造场所分解成二光罩并流片完成(taped-out)。本发明亦有揭露其它实施例。
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公开(公告)号:CN102147821A
公开(公告)日:2011-08-10
申请号:CN201010546498.3
申请日:2010-11-12
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G06F17/50
CPC classification number: G06F17/5081
Abstract: 本发明涉及一种分解集成电路布局的方法。本发明的各种实施例提供确保集成电路的布局是可分开的。在一方法实施例中,在具有一布局库的一客户场所产生一布局以作为输入,其中布局库提供已确认为可分开的且能够使用的示例性布局,和可避免导致冲突的布局。本发明的实施例亦提供一实时奇循环(real-time odd cycle)检查器,其中在布局产生期间,该检查器在冲突区域和奇循环出现时,实时将它们识别出来。为了减少内存的使用,可以分开各种装置的布局,以针对冲突来检查每一单独的布局或少数布局,而不是整个应用电路的一个大的布局。一旦在客户场所准备好布局,它就被发送到制造场所分解成二光罩并流片完成(taped-out)。本发明亦有揭露其它实施例。
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