背面照射式图像传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN101771065A

    公开(公告)日:2010-07-07

    申请号:CN200910265670.5

    申请日:2009-12-28

    发明人: 金文焕

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 一种背面照射式图像传感器的制造方法,包括如下步骤:通过贯穿第一衬底的正面注入离子而形成离子注入层;通过在第一衬底的正面上形成器件隔离区而限定像素区;在该像素区上形成感光器件和读出电路;在第一衬底的正面上形成层间介电层和金属线;将第二衬底与形成有金属线的第一衬底的正面接合;去除位于离子注入层下面的第一衬底的下部;在去除所述下部之后对第一衬底的背面进行湿蚀刻;以及在第一衬底的背面的感光器件上形成微透镜。根据本发明的方法能够稳定且有效地去除背面照射式图像传感器中的衬底的后侧。

    背部照明图像传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN101645416A

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200810181259.5

    申请日:2008-11-18

    发明人: 黄俊 沈喜成

    IPC分类号: H01L21/82 H01L27/146

    摘要: 本发明提供一种背部照明图像传感器的制造方法。在该方法中,在第一衬底的前部的整个区域中形成离子注入层;在所述第一衬底的前部中形成器件隔离区域以定义像素区域;在所述像素区域中形成光感测单元和读出电路;在所述第一衬底上形成层间绝缘层和金属线;将第二衬底接合至其上形成有金属线的所述第一衬底的前部;除去第一衬底位于所述离子注入层之下的下部,使得在第一衬底的背部的光感测单元是可用的。本发明的制造方法可以采用离子注入技术稳定有效地去除衬底的背部,而且,通过采用Epi晶片而不是SOI晶片作为原料晶片,可显著降低制造成本。