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公开(公告)号：CN107229185A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710184709.5
申请日：2017-03-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及能量敏感性组合物、固化物及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供热重量稳定性优异的能量敏感性组合物、以及使其固化而得到的固化物及固化物的制造方法。本发明提供一种能量敏感性组合物，其包含选自下述组中的至少1种化合物成分(P)、和(Q)式(a1)表示的锍盐，所述组由(P1)基于阳离子性及/或酸催化性方式的聚合性以及/或者交联性化合物、(P2)在酸的作用下在显影液中的溶解性增大的化合物、和(Px)自由基聚合性或交联性的化合物构成。
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公开(公告)号：CN107129740A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201710052951.7
申请日：2017-01-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D163/00 , C08G59/50 , F16L58/10
CPC classification number: C09D163/00 , C08G59/5073 , F16L58/1009
Abstract: 本发明涉及对管道内表面的内衬施工方法及用于管道内表面的内衬剂。本发明的课题在于提供使用内衬剂的(所述内衬剂在室温附近的温度下极其缓慢地固化，但在被加热时快速固化)对管道内表面的内衬施工方法和适合用于该方法中的内衬剂。本发明的解决手段为：在包含(I)环氧化合物和(II)固化剂的用于管道内表面的内衬剂中，使用包含可通过水解而生成特定结构的咪唑化合物的化合物的固化剂。用于管道内表面的内衬剂可包含(III)水。
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公开(公告)号：CN106687447A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580046344.9
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
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公开(公告)号：CN106575080A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580033498.4
申请日：2015-06-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供：即使在低温下对聚苯并噁唑前体进行热处理的情况下，也带来拉伸伸长率之类的机械特性和耐药品性优异、着色受到抑制、透明性高的聚苯并噁唑树脂的能量敏感性树脂组合物；使用上述能量敏感性树脂组合物的聚苯并噁唑膜或聚苯并噁唑成形体的制造方法；以及使用上述能量敏感性树脂组合物的图案制造方法。本发明所涉及的能量敏感性树脂组合物含有：聚苯并噁唑前体、溶剂、以及在光和热中的至少一种的作用下分解并产生碱和酸中的至少一种的化合物(A)，所述聚苯并噁唑前体是使芳香族二胺二醇与二甲酰化合物或二羧酸二卤化物反应而获得的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106292205A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610454609.5
申请日：2016-06-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种图案形成方法，所述图案形成方法中，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，能够以几乎不残留显影残渣的方式进行曝光后的显影。本发明的解决手段为，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，在曝光后的显影中使用下述显影液，所述显影液含有包含非质子性极性有机溶剂的有机溶剂作为溶剂。
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公开(公告)号：CN103764625B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280040595.2
申请日：2012-06-15
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C235/34 , C07C235/38 , C07D233/60 , C07D295/18 , C09K3/00 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/085
CPC classification number: G03F7/085 , C07C231/02 , C07C235/34 , C07C235/38 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供适合用于得到能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。本发明的化合物以下述式（1）表示。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
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公开(公告)号：CN105283432A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201480030734.2
申请日：2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07C43/215 , C07C69/54 , C08F16/12 , C08F16/32 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种包含新型的含有乙烯基的化合物的组合物。本发明涉及的组合物包含下述通式(1)所示的含有乙烯基的化合物。式中，W1和W2为下述通式(2)(式中，环Z为芳香族烃环、X为单键或-S-所示的基团、R1为单键或碳原子数1～4的亚烷基、R2为一价烃基等特定取代基、m为0以上的整数。)所示的基团、下述通式(4)所示的基团(式中，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)、羟基或(甲基)丙烯酰氧基；环Y1和环Y2为芳香族烃环；R为单键或特定二价基团；R3a和R3b为氰基、卤原子或一价烃基；n1和n2为0～4的整数。
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公开(公告)号：CN105189431A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480018921.9
申请日：2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C43/215 , C07C43/23 , C07C69/54 , C07C309/66 , C08F16/12 , C08F16/32 , G03F7/027
CPC classification number: C07C43/215 , C07C41/22 , C07C41/24 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C57/50 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/30 , C07C309/66 , C07C2603/18 , G03F7/027
Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以-S-表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。
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公开(公告)号：CN103764625A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280040595.2
申请日：2012-06-15
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C235/34 , C07C235/38 , C07D233/60 , C07D295/18 , C09K3/00 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/085
CPC classification number: G03F7/085 , C07C231/02 , C07C235/34 , C07C235/38 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供适合用于得到能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。本发明的化合物以下述式（1）表示。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
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