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公开(公告)号：CN108702229A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082269.6
申请日：2016-12-23
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： H.T.斯蒂恩斯特拉
摘要： 一种用于在第一时基中的第一开始时间值初始化第一模块(120)中的第一操作的方法，该方法包括生成时钟信号(402,116)，基于该时钟信号(116)在第一模块(120)中生成第二时基(403)，确定第二时基中的第二同步值(405)，确定与第二时基中第二同步值对应的第一时基中的第一同步值(406)，基于第一时基中的第一同步值和开始时间值确定第二时基中的开始触发值(410)，并基于第一模块(120)中第二时基的开始触发值和当前值来初始化第一模块(120)中的第一操作(411)。
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公开(公告)号：CN105745577B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201480061165.8
申请日：2014-09-08
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
CPC分类号： H01J37/023 , B01J19/12 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70891 , G03F7/709 , G03F7/70975 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/3007 , H01J37/3177
摘要： 本发明涉及一种用于使射束指向目标的投影透镜组件。该组件包括透镜支撑体(52)，其跨过平面(P)并具有连接区域(58)和侧边(56)。透镜支撑体被布置成用于沿着插入方向(X)与平面(P)平行地插入处理单元的载物架(42)中。投影透镜组件包括从连接区域发出的管线(60‑64)，以及用于容纳上述管线的管线导向体(70‑81)。该导向体包括第一导向部(72)，用于引导管线从连接区域，沿着平面到达超出侧边的外侧区域(B)。导向体还包括第二导向部(78)，用于将管线从外侧区域(B)朝向管线导向体的倾斜边(79)引导。
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公开(公告)号：CN104795303B
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201510083714.8
申请日：2010-05-19
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70475 , G06T1/20 , G06T1/60 , H01J37/045 , H01J37/3002 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/3175 , H01J2237/31761 , H01J2237/31764 , H04N1/405
摘要： 本发明提出一种使用带电粒子光刻机器根据图案数据将晶片曝光的方法，其中该带电粒子光刻机器生成用于将所述晶片曝光的多个带电粒子小束，该方法包括：提供所述图案数据作为向量格式的剂量映射；栅格化所述图案数据，所述栅格化包括渲染向量剂量映射以生成多级灰度数据和将所述多级灰度图案数据递色以生成两级黑/白数据；将所述两级黑/白图案数据供应给所述带电粒子光刻机器；和基于所述两级黑/白数据将所述带电粒子光刻机器生成的小束接通或切断；其中所述方法包括对所述向量剂量映射和/或所述多级灰度数据和/或所述两级黑/白数据作出修正调整，以修正小束位置、尺寸、电流或其他特性的变化。
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公开(公告)号：CN103650097B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201280034520.3
申请日：2012-05-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317
摘要： 带电粒子多小束设备。本发明涉及用于在带电粒子多小束设备中操纵多个带电粒子小束中的一个或多个带电粒子束的方法和装置。操纵器装置包括：平面衬底，包括在衬底的平面中的通孔阵列，布置这些通孔中的每个，用于传送至少一个带电粒子小束通过该通孔，其中每个通孔设置有围绕该通孔布置的一个或多个电极；以及电子控制电路，用于提供控制信号到每个通孔的一个或多个电极，其中布置电子控制电路，用于为每个单独通孔的一个或多个电极提供至少实际上模拟可调电压。
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公开(公告)号：CN107111251A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580072964.X
申请日：2015-11-12
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： M·P·丹斯伯格 , S·赫斯达尔 , J·P·R·乔葛尼尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687
CPC分类号： B65G47/90 , B25J9/0087 , B25J9/043 , G03F7/7075 , H01L21/67201 , H01L21/67225 , H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/68707
摘要： 本发明涉及用于将基材转移入光刻装置(301)中的真空腔室中以及从光刻装置中的真空腔室转移的装置和方法。加载锁定系统包括：加载锁定腔室(310)以及转移装置，加载锁定腔室设置有开口(311)，用于允许基材通过而进出加载锁定腔室，转移装置包括至少部分地布置在加载锁定腔室中的子框架、通过其近端连接至子框架的臂、以及连接至臂的远端的基材接纳单元。臂包括至少三个铰接臂部分，其中，第一臂部分和第二臂部分通过其近端铰接地连接至子框架。第三臂部分铰接地连接至第一臂部分和第二臂部分的远端。各臂部分被布置成形成四连杆机构。
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公开(公告)号：CN106933063A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710159862.2
申请日：2013-03-20
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/32 , B82Y10/00 , B82Y40/00
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
摘要： 一种电子射束光刻系统，包括：子束发生器，用于生成多个电子子束；子束操纵器，其包括孔径阵列，用于操纵所述多个电子子束；对准框架，其被布置成支撑所述子束操纵器；被布置成支撑所述对准框架的框架；用于产生等离子体的等离子体发生器，其中所述等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室，其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基，并且其中所述等离子体发生器的室被集成到所述对准框架中。
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公开(公告)号：CN101496129B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN200780028626.1
申请日：2007-07-13
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 彼得·克勒伊特 , 张艳霞 , 马蒂杰恩·J·范布吕根 , 斯泰恩·威廉·赫尔曼·卡雷尔·斯腾布林克
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/063
CPC分类号： H01J37/12 , H01J2237/0453 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/153 , H01J2237/26 , H01J2237/3175
摘要： 本发明涉及一种多光束带电粒子光学系统，包括具有至少一个电极的静电透镜结构，提供有光圈，其中通过所述电极在所述光圈处实现的透镜视场的有效尺寸被制成最终较小。该系统可以包括发散带电粒子光束部分，其中包含该透镜结构。透镜的外形尺寸被制成最终较小，特别是小于1毫米，更特别是小于几十微米。在进一步的设计中，透镜与限流光圈(CLA)组合，相对于所述结构的透镜对准(排列)，使得通过所述限流光圈在所述透镜中实现的虚拟光圈(VA)位于使总象差最小化的最佳位置。
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公开(公告)号：CN104321701B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201380025372.3
申请日：2013-03-20
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/32 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F15D1/025 , G03F7/70925 , G21K2201/06 , H01J9/38 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J37/32862 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/327 , Y10T137/2082 , Y10T137/87571
摘要： 本发明涉及用于运输自由基的装置。该装置包括等离子体发生器和导向体。等离子体发生器包括其中可以形成等离子体的室(2)。该室具有用于接收输入气体的进口(5)，和用于排除在室中产生的等离子体和自由基中的至少一者的一个或多个出口(6)。该导向体是中空的，且布置成朝向要除去的污染沉积物所在的区域或空间引导在等离子体中形成的自由基。该室进口连接到压力装置(40)，该压力装置用于向室中提供脉动的压力，以便在导向体中产生流。
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公开(公告)号：CN102735170B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201210091620.1
申请日：2012-03-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： G·德博尔 , T·A·乌姆斯 , N·弗奇尔 , G·C·A·库维利尔斯
摘要： 本发明涉及一种光刻系统，包括OCOC、用于移动目标诸如晶片的可移动目标载体，以及差分干涉仪模块，其中所述干涉仪模块适用于向着第二镜子发射三个参考束，并且向着第一镜子发射三个测量束，以便确定所述第一镜子和第二镜子之间的位移。在一个优选实施例中，相同模块适还用于测量绕着两个垂直轴的相对旋转。本发明还涉及一种用于测量这种位移和旋转的干涉仪模块和方法。
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公开(公告)号：CN103456671B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310379402.2
申请日：2008-07-11
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 吉多·德 , 布尔 , 米歇尔·彼得·丹斯贝格 , 彼得·克勒伊特
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/67 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70308 , G03F7/70783 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/2007 , H01L21/6875 , H01L21/68757
摘要： 本发明涉及晶片工作台及光刻系统。光刻系统中的晶片工作台（8），所述晶片工作台（8）在晶片加工过程中支撑所述晶片（1），所述晶片工作台（8）具有配备有节（7）的顶侧（2），所述节用于支撑所述晶片（1），其中，所述节具有高度，所述晶片工作台（8）包括位于所述晶片工作台的晶片承载部分（2）周围的周围沟槽，所述沟槽具有比所述节（7）的高度大的宽度，其中，所述晶片工作台的外缘包括圈，所述圈设置用于在由所述节7）支撑所述晶片（1）时与所述晶片（1）保持非常小的垂直距离。
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