非易失性存储装置及其操作方法

    公开(公告)号:CN101404180A

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:CN200810213021.6

    申请日:2008-08-20

    IPC分类号: G11C16/02 G11C16/26

    摘要: 本发明提供一种非易失性存储装置及其操作方法。所述非易失性存储装置可包括:一条或多条主串,每条主串可包括第一和第二子串,第一和第二子串可分别包括多个存储单元晶体管;电荷供应线,可被构造为向每条主串的第一和第二子串提供电荷或阻止电荷达到每条主串的第一和第二子串。其中,每条主串可包括:第一地选择晶体管,可连接到第一子串;第一子串选择晶体管,可连接到第一地选择晶体管;第二地选择晶体管,可连接到第二子串;第二子串选择晶体管,可连接到第二地选择晶体管。

    非易失性存储器及其制造方法

    公开(公告)号:CN101626023A

    公开(公告)日:2010-01-13

    申请号:CN200910140052.8

    申请日:2009-07-10

    摘要: 本发明提供了一种非易失性存储器及其制造方法,该非易失性存储器包括:第一半导体层,沿第一方向延伸;第二半导体层,平行于第一半导体层延伸并与第一半导体层分隔开;隔离层,在第一半导体层与第二半导体层之间;第一控制栅极电极,在第一半导体层与隔离层之间;第二控制栅极电极,在第二半导体层与隔离层之间,其中第二控制栅极电极和第一控制栅极电极分别设置在隔离层的相反侧;第一电荷存储层,在第一控制栅极电极与第一半导体层之间;以及第二电荷存储层,在第二控制栅极电极与第二半导体层之间。

    半导体器件
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109727979B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN201811260335.1

    申请日:2018-10-26

    IPC分类号: H01L27/088 H01L29/423

    摘要: 一种半导体器件包括:基板,所述基板具有其间具有场绝缘层的第一有源区和第二有源区,所述场绝缘层接触所述第一有源区和所述第二有源区;以及栅电极,所述栅电极在所述基板上并且横贯所述第一有源区、所述第二有源区和所述场绝缘层。所述栅电极包括在所述第一有源区上方的第一部分、在所述第二有源区上方的第二部分和与第一部分和第二部分接触的第三部分。栅电极包括分别在第一部分、第二部分和第三部分中具有第一厚度、第二厚度和第三厚度的上栅电极,其中,第三厚度大于第一厚度并且小于第二厚度。

    半导体器件
    8.
    发明公开
    半导体器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN109727979A

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201811260335.1

    申请日:2018-10-26

    IPC分类号: H01L27/088 H01L29/423

    摘要: 一种半导体器件包括:基板,所述基板具有其间具有场绝缘层的第一有源区和第二有源区,所述场绝缘层接触所述第一有源区和所述第二有源区;以及栅电极,所述栅电极在所述基板上并且横贯所述第一有源区、所述第二有源区和所述场绝缘层。所述栅电极包括在所述第一有源区上方的第一部分、在所述第二有源区上方的第二部分和与第一部分和第二部分接触的第三部分。栅电极包括分别在第一部分、第二部分和第三部分中具有第一厚度、第二厚度和第三厚度的上栅电极,其中,第三厚度大于第一厚度并且小于第二厚度。