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公开(公告)号：CN111564405B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202010489010.1
申请日：2015-07-07
申请人： 应用材料公司
发明人： P·K·库尔施拉希萨 , K·D·李 , 金柏涵 , Z·J·叶 , S·P·贝赫拉 , G·巴拉苏布拉马尼恩 , J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 , J·J·陈
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/02
摘要： 本发明涉及用于处理基板的方法。所公开的技术用于在处理腔室中提高击穿电压、同时在超过约300摄氏度的温度下大幅减少静电夹盘的电压泄漏的方法和设备。
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公开(公告)号：CN116490963A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202180072290.9
申请日：2021-09-22
申请人： 应用材料公司
发明人： Z·J·叶 , D·R·B·拉吉 , R·豪莱德 , A·凯什里 , S·G·卡马斯 , D·A·迪兹尔诺 , J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 , S·斯里瓦斯塔瓦 , K·R·恩斯洛 , 韩新海 , D·帕德希 , E·P·哈蒙德
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 示例性半导体处理系统可包括处理腔室及至少部分设置在处理腔室内的静电吸盘。静电吸盘可包括至少一个电极和加热器。一种半导体处理系统可包括电源，向电极提供信号来提供静电力，以将基板紧固至静电吸盘。所述系统还可包括滤波器，所述滤波器通信耦合在电源与电极之间。所述滤波器被配置为在维持基板上的静电力的同时移除因操作加热器而引入吸附信号中的噪声。滤波器可包括有源电路系统、无源电路系统或两者，并且可包括调整电路以设置滤波器的增益，使得来自滤波器的输出信号电平对应于用于滤波器的输入信号电平。
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公开(公告)号：CN113692637A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202080029359.5
申请日：2020-02-17
申请人： 应用材料公司
摘要： 本文描述的实施例涉及用于实质减低通过卡紧电极的射频(RF)耦合的发生的设备和方法。卡紧电极设置在定位于基板支撑件上的静电卡盘中。基板支撑件耦合至工艺腔室主体。RF源用于在与基板支撑件相邻的工艺容积中产生等离子体。阻抗匹配电路设置在RF源和设置在静电卡盘中的卡紧电极之间。静电卡盘滤波器耦合在卡紧电极与卡紧功率源之间。
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公开(公告)号：CN107731728B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201710946426.X
申请日：2015-07-07
申请人： 应用材料公司
发明人： P·K·库尔施拉希萨 , K·D·李 , 金柏涵 , Z·J·叶 , S·P·贝赫拉 , G·巴拉苏布拉马尼恩 , J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 , J·J·陈
IPC分类号： H01L21/683
摘要： 本发明涉及一种基板支撑组件。所公开的技术用于在处理腔室中提高击穿电压、同时在超过约300摄氏度的温度下大幅减少静电夹盘的电压泄漏的方法和设备。
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公开(公告)号：CN107578976B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201710811999.1
申请日：2014-01-16
申请人： 应用材料公司
摘要： 本申请公开了具有可拆卸式气体分配板的喷淋头的实施例。在一些实施例中，一种使用于基板处理腔室的喷淋头，可包括：主体，所述主体具有第一侧与相对的第二侧；气体分配板，所述气体分配板设置成邻近于所述主体的所述第二侧；以及夹具，所述夹具围绕所述气体分配板的周围边缘设置以将所述气体分配板以可移除方式耦接至所述主体，其中所述主体通过所述夹具电耦接至所述气体分配板。
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公开(公告)号：CN107578976A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710811999.1
申请日：2014-01-16
申请人： 应用材料公司
摘要： 本申请公开了具有可拆卸式气体分配板的喷淋头的实施例。在一些实施例中，一种使用于基板处理腔室的喷淋头，可包括：主体，所述主体具有第一侧与相对的第二侧；气体分配板，所述气体分配板设置成邻近于所述主体的所述第二侧；以及夹具，所述夹具围绕所述气体分配板的周围边缘设置以将所述气体分配板以可移除方式耦接至所述主体，其中所述主体通过所述夹具电耦接至所述气体分配板。
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公开(公告)号：CN110291408B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201880012154.9
申请日：2018-01-25
申请人： 应用材料公司
发明人： Z·J·叶 , J·D·平森二世 , J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 , A·A·哈贾
摘要： 一种电压‑电流传感器，所述电压‑电流传感器实现更精确测量被输送到高温处理区域的RF功率的电压、电流和相位。所述传感器可包括平面主体、测量开口、电压拾取器以及电流拾取器，所述平面主体包括非有机的电绝缘材料，所述测量开口形成于平面主体中，所述电压拾取器设置在测量开口周围，并且所述电流拾取器设置在测量开口周围。由于传感器的平面配置和材料成分，传感器可设置在等离子体处理腔室的高温表面附近或与等离子体处理腔室的高温表面接触。
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公开(公告)号：CN111118477A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911345534.7
申请日：2016-05-16
申请人： 应用材料公司
发明人： P·K·库尔施拉希萨 , 段子青 , A·A·哈贾 , Z·J·叶 , A·K·班塞尔
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/36 , C23C16/52 , C23C16/455 , C23C16/50 , H01J37/32 , H01L21/683
摘要： 公开了赋予掺杂硼的碳膜静电夹持及极佳颗粒性能的渐变原位电荷捕捉层。本发明大体上关于具有渐变组成的处理腔室调整层。在一实施例中，该调整层为硼-碳-氮化物(BCN)膜。该BCN膜在该膜的底部处可具有较高的硼成分。随着该BCN膜被沉积，硼的浓度可能接近零，同时碳及氮的相对浓度提高。可借着在初期使硼前体、碳前体及氮前体一同流入来沉积该BCN膜。经过第一时段之后，可降低硼前体的流动速率。在沉积该调整层期间，可在硼前体的流动速率降低时，施加RF功率以生成等离子体。
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公开(公告)号：CN109314039A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780024022.3
申请日：2017-01-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/683 , H01L21/67 , H05H1/46 , H01J37/32
摘要： 提供了一种用于加热的基板支撑基座的方法及装置。在一个实施例中，该加热的基板支撑基座包括：主体，包括陶瓷材料；多个加热元件，封装在该主体内。柱耦合至该主体的底面。多个加热器元件、顶电极及屏蔽电极安置在该主体内。该顶电极安置在该主体的顶面附近，而该屏蔽电极安置在该主体的该底面附近。导电杆被安置成穿过该柱且耦合至该顶电极。
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