公开(公告)号：CN101784693A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200880103599.4

申请日：2008-08-18

Applicant: 株式会社爱发科 ,  夏普株式会社

Inventor： 矶部辰德 ,  小松孝 ,  佐藤重光 ,  大空弘树 ,  谷口英男 ,  川口昌男

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  H01B13/00

CPC classification number: C23C14/352 ,  C03C17/2453 ,  C03C2217/231 ,  C03C2217/948 ,  C03C2218/155 ,  C03C2218/156

Abstract: 本发明提供一种能够抑制由处理基板的充电所引起的异常放电的发生，能够对大面积的处理基板形成良好薄膜的溅射方法。向在溅射室(12)内与处理基板(S)相对并且以规定间隔并列设置的多片靶(41a)至(41h)中各成对的靶施加电力，并按照规定的频率交替改变极性，将各个靶交替转换为阳极电极、阴极电极，在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电，形成等离子体气氛，对各个靶进行溅射。在溅射中间歇地停止向各个靶施加电力。

公开(公告)号：CN1904132B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200610107627.2

申请日：2006-07-28

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 小林大士 ,  谷典明 ,  小松孝 ,  清田淳也 ,  中村肇 ,  新井真

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明的课题是提供在靶上不留下非侵蚀区域而且在进行反应性溅射的情况下能形成均匀的膜质的膜的溅射装置。本发明的溅射装置(2)的特征在于：具备在真空室(21)内隔开一定的间隔并列地设置的至少4片的靶(241)和逐一地连接以便对并列地设置的靶中的2片靶交替地施加负电位和正电位或接地电位的交流电源(E)，将各交流电源(E)连接到互不相邻的2片靶(241)上。

公开(公告)号：CN102131949A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200980133226.6

申请日：2009-10-21

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 渡井美和 ,  齐藤一也 ,  小松孝 ,  水野雄介 ,  太田淳 ,  黑岩俊二

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/56 ,  H01L31/04

CPC classification number: H01L31/202 ,  C23C14/042 ,  C23C14/56 ,  H01L21/02104 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/02642 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/046 ,  H01L31/18 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: 该掩模包括：平板状的第一部分(44)，具有在相当于基板(11)的成膜区域(S1)的位置形成的开口部(41)和侧部，以平板状的第一部分(44)与所述基板(11)的被成膜面(11a)重叠的方式配置所述基板(11)；第二部分(43)，沿着所述第一部分(44)的所述侧部设置，覆盖所述基板(11)的侧面的至少一部分，在多张所述掩模(40、40a、40b、140、142、240、240a、240b、340、340a、340b)向其侧方排列时，彼此邻接的两张所述掩模的所述第二部分(43)分别互相重合，从而形成重合部(B)。

公开(公告)号：CN102047440A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN200980119948.6

申请日：2009-07-03

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 渡井美和 ,  齐藤一也 ,  小松孝 ,  崎尾进 ,  若井雅文 ,  黑岩俊二

IPC: H01L31/04

CPC classification number: H01L31/075 ,  H01L31/03762 ,  H01L31/046 ,  H01L31/0463 ,  H01L31/0465 ,  Y02E10/548

Abstract: 一种太阳能电池单元的制造方法，包括：刻划工序，在基板(11)上通过依次层积第一电极层(13)、光电转换层(14)和第二电极层(15)而形成光电转换体(12)之后，形成将光电转换体(12)电分离为多个划分部的槽，在所述刻划工序中，形成第一槽(18)、第二槽(19)、第三槽(24)、以及第四槽(50)，在所述刻划工序之后，具有形成绝缘层(31、51)的绝缘层形成工序以及形成配线层(30)的配线层形成工序，所述配线层(30)从露出于所述第二槽(19)的底面的所述第一电极层(13)，经过所述第二槽(19)的内部和所述绝缘层(31、51)的表面，到达配置在所述第四槽(50)的与所述第二槽(19)相反的一侧的所述第二电极层(15)的表面，电连接所述多个划分部。

公开(公告)号：CN102312206B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201010215176.0

申请日：2010-06-29

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 大野遥平 ,  矶部辰德 ,  新井真 ,  赤松泰彦 ,  小松孝

IPC: C23C14/35

Abstract: 提供一种溅射方法，以简单的方法防止被处理基板外周部的膜层下垂，实现均匀的膜厚分布。在同一平面上并列设置至少三个靶对，在该靶的后方平行配置磁回路，由前述并列设置方向两端的靶对上连接的溅射电源根据规定的电力比供给电力，该电力大于被前述两端的靶对夹持的靶对上连接的溅射电源所供给的电力，并且，提高与前述磁回路并列设置方向垂直的方向上的两端部的磁场强度。

公开(公告)号：CN102131949B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN200980133226.6

申请日：2009-10-21

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 渡井美和 ,  齐藤一也 ,  小松孝 ,  水野雄介 ,  太田淳 ,  黑岩俊二

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/56 ,  H01L31/04

CPC classification number: H01L31/202 ,  C23C14/042 ,  C23C14/56 ,  H01L21/02104 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/02642 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/046 ,  H01L31/18 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: 该掩模包括：平板状的第一部分(44)，具有在相当于基板(11)的成膜区域(S1)的位置形成的开口部(41)和侧部，以平板状的第一部分(44)与所述基板(11)的被成膜面(11a)重叠的方式配置所述基板(11)；第二部分(43)，沿着所述第一部分(44)的所述侧部设置，覆盖所述基板(11)的侧面的至少一部分，在多张所述掩模(40、40a、40b、140、142、240、240a、240b、340、340a、340b)向其侧方排列时，彼此邻接的两张所述掩模的所述第二部分(43)分别互相重合，从而形成重合部(B)。

公开(公告)号：CN1978698B

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200610160965.2

申请日：2006-12-06

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 李尚浩 ,  小松孝 ,  中村肇 ,  新井真 ,  清田淳也 ,  谷典明

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明的内容为：磁控管溅射电极可以使磁铁组装件的磁铁之间产生的管状磁束的轮廓调节变得简单易行。在支撑板上安装中央磁铁和周边磁铁，构成在靶前方形成管状磁束的磁铁组装件。对包含中央磁铁和周边磁铁的支撑板相对两侧进行分割，分割后的中央部分与一块基础板固定在一起，分割下来的分割部分借助可使其相对中间部分作前后、左右以及上下方向移动的位置变更装置安装在的基础板上。

公开(公告)号：CN102150281A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135565.8

申请日：2009-09-10

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 渡井美和 ,  齐藤一也 ,  小松孝 ,  黑岩俊二 ,  水野雄介 ,  崎尾进 ,  平冈贤介

IPC: H01L31/04

CPC classification number: H01L31/0236 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/02363 ,  Y02E10/50

Abstract: 该太阳能电池包括：光电转换体，被设置成第一电极层、光电转换层和第二电极层依次重叠在基板上；和纹理层，配置在所述基板和所述第一电极层之间，由在可见光区域透明的材料构成，在与所述第一电极层接触的面具有连续的凹凸形状。

公开(公告)号：CN1693531A

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN200510068427.6

申请日：2005-04-29

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 新井真 ,  石桥晓 ,  小松孝 ,  谷典明 ,  清田淳也 ,  太田淳 ,  杉浦功 ,  中村久三

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/35

CPC classification number: H01J37/3423 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3426

Abstract: 在现有技术的溅射靶构型下，在通过施加负DC电压或者高频电压到靶上产生等离子体期间，会导致电流从靶流向接地护罩。因此会产生一个问题，即由于靶的外周表面上不产生等离子体使靶外周的非腐蚀区域保留下来而不被溅射。这会由于充电诱发不正常放电，或者通过在非腐蚀区域上重沉积膜而在基片表面上形成颗粒，其对膜形成的重现性产生影响，减少靶的服务效能。这种问题能够通过本发明加以解决，其中在靶(T)体的溅射表面(Ts)和外周表面(Tc)彼此交叉的区域上形成围绕靶(T)体的倾斜表面(T2)。

公开(公告)号：CN101427609B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200780014739.6

申请日：2007-04-18

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 小松孝 ,  中村久三 ,  片桐弘明 ,  谷典明 ,  斋藤一也

IPC: H05B33/14 ,  H05B33/12 ,  H01L27/32 ,  G09F9/30 ,  G09F9/40

CPC classification number: C09K11/565 ,  H01L27/3267 ,  H05B33/14

Abstract: 本发明提供能够由薄膜晶体管驱动且高亮度的显示装置。在基板(111)上形成低电压驱动的无机发光层(121)和控制晶体管(105)，并且由控制晶体管(105)控制施加到无机发光层(121)上的电压。由于无机发光层(121)抗热或抗破坏性强，所以可以由溅射法形成。在同一基板上形成顶部发射型显示装置和底部发射型显示装置，可以从同一位置放射发光光线。