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公开(公告)号:CN108193487A
公开(公告)日:2018-06-22
申请号:CN201810108779.7
申请日:2018-02-05
申请人: 北京纳米生色科技有限公司
IPC分类号: D06M11/83 , D06M11/46 , D06M11/44 , C23C14/00 , C23C14/35 , C23C14/20 , C23C14/08 , D06M101/10 , D06M101/06
CPC分类号: D06M11/83 , C23C14/00 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/205 , C23C14/35 , D06M11/44 , D06M11/46 , D06M16/00 , D06M2101/06 , D06M2101/10
摘要: 一种能实现防霉抗菌的织物,其包括基布和防霉抗菌层,所述防霉抗菌层为采用真空沉积技术形成,靶材包括Ti、Fe、Al、Zn、Cu、W、Mg、Au、Ag、Cr、Ni、V、Co、C、N、O、Si、Pt中的一种或几种元素。该产品采用真空沉积技术,能使织物表面形成防霉抗菌层,该防霉抗菌的抑制细菌滋生特性能够提高织物的防霉抗菌性。
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公开(公告)号:CN107937868A
公开(公告)日:2018-04-20
申请号:CN201711485263.6
申请日:2017-12-29
申请人: 科大天工智能装备技术(天津)有限公司
IPC分类号: C23C14/00
CPC分类号: C23C14/00
摘要: 本专利公开了一种新型便于冷却的真空镀膜机,包括镀膜箱和散热片,所述镀膜箱下侧设置有固定支架,所述固定支架与所述镀膜箱固定连接,所述镀膜箱上铰接有箱门,所述箱门上设置有观察窗,所述观察窗与所述箱门固定连接,所述镀膜箱内部开设有镀膜腔,所述散热片位于所述镀膜箱外壁,所述散热片与所述镀膜箱固定连接;在装置外壁设置有多层散热片,并在散热片中安装有冷却水进水管和冷却管回水管,并在镀膜腔外侧设置有四个蛇形冷却水道,可以直接与冷却水管相连,冷却时,可以多管道同时进水,大范围的通过冷却水流以及散热片带走内部的热量,对内部的镀膜腔进行快速散热,从而增加散热效率,提高设备的使用寿命。
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公开(公告)号:CN103814431B
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:CN201280043595.8
申请日:2012-09-10
申请人: 应用材料公司
IPC分类号: H01L21/203 , H01L21/31
CPC分类号: C23C14/345 , C23C14/00 , C23C14/3471 , H01J37/32165 , H01J37/3405
摘要: 一种溅射沉积介电薄膜的方法,可包含:在处理腔室中的基板基座上提供基板,所述基板被定位成面向溅射靶材;将来自第一电源的第一射频频率和来自第二电源的第二射频频率同时施加到溅射靶材;和在基板与溅射靶材之间的处理腔室中形成等离子体,用于溅射所述靶材;其中第一射频频率小于第二射频频率,第一射频频率被选择以控制等离子体的离子能量并且第二射频频率被选择以控制等离子体的离子密度。可选择在所述处理腔室之内的表面的自偏压;这是通过在基板基座与地面之间连接阻塞电容器来实现的。
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公开(公告)号:CN103805942B
公开(公告)日:2016-12-28
申请号:CN201310035357.9
申请日:2013-01-29
申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC分类号: C23C14/54 , C23C14/00 , C23C14/044 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/3464 , C23C14/505 , C23C14/541 , C23C14/56 , C23C14/564 , C23C14/568 , C23C14/5806
摘要: 本发明公开的用于形成太阳能电池的装置包括限定具有衬底支撑件的腔室的外壳。溅射源被配置成在位于衬底支撑件上的衬底的至少一部分表面上方沉积第一类型的颗粒。蒸发源被配置成在衬底的部分表面上方沉积多个第二类型的颗粒。在溅射源和蒸发源之间提供冷却单元。提供用于根据蒸发源发射出的质量通量的速率控制蒸发源的控制系统。本发明还公开了用于形成太阳能电池中的薄膜的装置和方法。
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公开(公告)号:CN104105846B
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201280068996.9
申请日:2012-11-07
申请人: 西门子公司
发明人: 约尔格·许尔霍夫
IPC分类号: F01D25/00 , F01D25/26 , C23C16/00 , C23C4/129 , C23C4/126 , C23C4/12 , C23C14/00 , F04D29/08 , F16L23/032
CPC分类号: F01D25/24 , C23C4/06 , C23C4/08 , C23C14/00 , C23C24/04 , C23C30/005 , F01D25/243 , F01D25/265 , F04D29/023 , F04D29/083 , F04D29/403 , F05D2230/311 , F05D2230/313 , F05D2230/314 , F05D2230/90 , F05D2240/55 , F05D2300/132 , F05D2300/17 , F05D2300/22 , F16L9/22
摘要: 一种流体机械部件,所述流体机械部件具有至少两个子部件(4,5),所述子部件通过接合部(3)分开并且在接合部(3)上分别具有密封面(6,7),其中两个密封面(6,7)中的至少一个凸圆形地构成,使得构成两个密封面(6,7)的线接触,并且其中在密封面(6,7)中的至少一个上具有:具有硬质材料的覆层(9,10),所述覆层至多为30μm厚并且借助于气相沉积法来施加;或具有含铬的合金的覆层(9,10),所述覆层至多为30μm厚并且借助于气相沉积法来施加或者至多为300μm厚并且借助于热喷镀法来施加。
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公开(公告)号:CN105839050A
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201610293184.4
申请日:2016-05-05
申请人: 安徽伽宝真空科技有限公司
发明人: 耿万青
IPC分类号: C23C14/00
CPC分类号: C23C14/00
摘要: 一种电容器真空镀膜机雾化熔锌槽装置,涉及电容器生产设备技术领域,其特征在于:包括箱体、端板、箱盖、熔化管、加热层和加热管,所述的端板固定设置在箱体的端部,箱盖可拆卸的设置在箱体的上部,加热层固定设置在箱体的内部,加热管固定且均匀的设置在加热层的内部,所述的熔化管固定设置加热层的内侧,熔化管的中部上侧设置有开口,熔化管的两端透过端板延伸到箱体的外部,箱盖的上部设置出料口,出料口与熔化管上部的开口连通,所述的箱盖上部且位于出料口的边侧铰接有压板,压板的内侧设置有高温耐火棉层。本发明使用方便,使用方便,进料、雾化出料均匀稳定,雾化效果好,便于后续持续生产。
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公开(公告)号:CN103057135B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201210401157.6
申请日:2012-10-19
申请人: 株式会社日本制钢所
发明人: 西田正三
IPC分类号: B29D7/01
CPC分类号: B05C13/02 , B05B13/0221 , B29C45/0053 , B29C45/14336 , B29C2045/0079 , C23C14/00
摘要: 本发明提供一种使注射成形机和成膜装置以高运转率工作并廉价地制造高均质的具有薄膜的成形品的制造方法及制造装置。利用第一搬送装置(14)将由注射成形机(4)成形的成形品(1)搬送至临时载物台(12)。反复进行注射成形工序,在临时载物台(12)上集中相当于多次注射成形工序的成形品(1)。第二搬送装置(15)将集中于临时载物台(12)上的全部成形品(1)一起搬送至成膜装置(5)。在成膜装置(5)中对成形品(1)进行成膜,利用第三搬送装置(16)向外部搬送成形品(1)。在成膜工序的实施期间继续实施注射成形工序。
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公开(公告)号:CN103366940B
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201310114481.4
申请日:2013-04-03
申请人: 通用汽车环球科技运作有限责任公司
发明人: Y.王
CPC分类号: B22F1/025 , B22F2999/00 , C23C14/16 , H01F1/0577 , H01F41/0293 , C23C14/00 , B22F2202/01
摘要: 本发明涉及制造磁体的方法,具体地,一种制造永磁体的方法包括通过物理气相沉积在合金粉末上形成涂层的步骤。该合金粉末包括钕、铁、硼和其他金属。涂层包括选自由镝、铽、铁和其合金组成的组的组分。在涂层的形成期间使得合金粉末振动。最后,从涂覆的粉末形成永磁体,该永磁体具有非均匀分布的镝和/或铽。还提供了采用振动输送带制造永磁体的方法。
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公开(公告)号:CN105209668A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201480017086.7
申请日:2014-03-12
申请人: 萨尔茨吉特法特尔有限公司
CPC分类号: C25D5/10 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/06 , C22C38/12 , C22C38/14 , C22C38/16 , C22C38/18 , C22C38/20 , C22C38/24 , C22C38/26 , C22C38/28 , C22C38/34 , C22C38/38 , C23C2/02 , C23C2/06 , C23C2/12 , C23C2/40 , C23C14/00 , C23C14/14 , C23C14/16 , C23C16/06 , C23C28/02 , C23C28/021 , C23C28/023 , C23C30/00 , C25D3/22 , C25D7/0614
摘要: 本发明涉及改善高锰钢带的可焊性的方法,所述钢带含有(以重量%计)6至30%的锰、最高1%的碳、最高15%的铝、最高6%的硅、最高6.5%的铬、最高4%的铜以及添加的总计最高0.7%的钛和锆和总计最高0.5%的铌和钒,余量的铁和不可避免的钢伴生元素,其用含锌腐蚀保护层涂覆。
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公开(公告)号:CN103814431A
公开(公告)日:2014-05-21
申请号:CN201280043595.8
申请日:2012-09-10
申请人: 应用材料公司
IPC分类号: H01L21/203 , H01L21/31
CPC分类号: C23C14/345 , C23C14/00 , C23C14/3471 , H01J37/32165 , H01J37/3405
摘要: 一种溅射沉积介电薄膜的方法,可包含:在处理腔室中的基板基座上提供基板,所述基板被定位成面向溅射靶材;将来自第一电源的第一射频频率和来自第二电源的第二射频频率同时施加到溅射靶材;和在基板与溅射靶材之间的处理腔室中形成等离子体,用于溅射所述靶材;其中第一射频频率小于第二射频频率,第一射频频率被选择以控制等离子体的离子能量并且第二射频频率被选择以控制等离子体的离子密度。可选择在所述处理腔室之内的表面的自偏压;这是通过在基板基座与地面之间连接阻塞电容器来实现的。
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