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    Dispositif de production d'ions d'une espèce déterminée utilisant pour les séparer d'autres ions, une sélection en énergie, application à l'implantation ionique
    61.
    发明公开
    Dispositif de production d'ions d'une espèce déterminée utilisant pour les séparer d'autres ions, une sélection en énergie, application à l'implantation ionique 失效
    用于获得一定的离子种类由其它离子的能量选择的手段将它们分离的装置; 在离子注入应用。

    公开(公告)号：EP0155875A1

    公开(公告)日：1985-09-25

    申请号：EP85400333.2

    申请日：1985-02-22

    Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE

    Inventor： Bruel, Michel ,  Biasse, Béatrice ,  Cartier, Anne-Marie

    IPC: H01J37/317 ,  H01J37/05 ,  H05H3/02

    CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05

    Abstract: Le dispositif comprend des moyens (3) pour créer un faisceau d'ions isoénergétiques comprenant des ions qui contiennent une espèce déterminée et sont aptes à se décomposer en donnant des ions constitués de l'espèce ionisée, des moyens (4) pour interagir préférentiellement avec les ions contenant l'espèce et décomposer ceux-ci en faisant apparaître les ions constitués de l'espèce ionisée, et des moyens (5) pour effectuer une séparation énergétique entre les ions constitués de l'espèce ionisée et le reste du faisceau.

    Abstract translation: 该装置包括装置（3），用于在等能离子束创建，其包含含有指定种类和能够被分裂构成电离物种从而得到离子离子，装置（4）用于与所述离子包含的种类和分裂优先相互作用 起来从而使构成该离子化物种出现在离子，并且用于分离（5），基于能量，构成从所述光束的其余部分的电离物质的离子。

    Sekundärelektronen-Spektrometer und Verfahren zu seinem Betrieb
    62.
    发明公开
    Sekundärelektronen-Spektrometer und Verfahren zu seinem Betrieb 失效
    Sekundärelektronen-Spektrometer和Verfahren zu seinem Betrieb。

    公开(公告)号：EP0087152A2

    公开(公告)日：1983-08-31

    申请号：EP83101650.6

    申请日：1983-02-21

    Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT

    Inventor： Lischke, Burkhard, Prof.Dr.Ing. ,  Plies, Erich, Dr.rer.nat. ,  Schmitt, Reinhold, Dipl.-Ing. ,  Frosien, Jürgen, Dr.Ing.

    IPC: H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/05

    CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/05 ,  H01J37/266 ,  H01J2237/2443 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/2449 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24585

    Abstract: Bei einem Sekundärelektronen-Spektrometer für Elektronenstrahlgeräte sollen die elektrischen Felder von Sekundärelktronen-Spektrometer und Sekundärelektronen-Detektor praktisch vollständig gegen die Umgebung abgeschirmt sein. Es wird ein Sekundärelektronen-Spektrometer für Elektronenstrahlgeräte angegeben, welches mit dem Detektor (DT) zu einer nach außen hin streufeldfreien Einheit zusammengefaßt ist. Das Energiefilter (EF) und die Vorrichtung zur Erzeugung eines Ablenkfeldes für die Sekundärelektronen sind optisch dicht aufgebaut. Das Absaugfeld für die Sekundärelektronen hinter dem Energiefilter (EF) ist durch einen spannungsführenden Detektor (E 3 ), eine Rohrelektrode (E 4 ) und eine verschiebbare Gegenelektrode (GE) bestimmt. Hochenergetische Rückstreu-Elektronen (RE) können störungsfrei passieren.

    Abstract translation: 在用于电子束单元的二次电子光谱仪中，二次电子光谱仪和二次电子检测器的电场应该被实际上完全从环境中筛选出来。 提供了用于电子束单元的二次电子光谱仪，其与检测器（DT）组装以形成不具有外部散射场的单元。 能量滤波器（EF）和用于产生二次电子的偏转场的装置以光学密封的方式构造。 能量过滤器（EF）后面的二次电子的正场由活检测器（E3），管电极（E4）和可移动的相对电极（GE）控制。 高能量的反向散射电子（RE）可以通过而没有干扰。

    FOCUSED ION BEAM MICROFABRICATION COLUMN
    63.
    发明公开
    FOCUSED ION BEAM MICROFABRICATION COLUMN 失效
    聚焦离子束微细加工柱

    公开(公告)号：EP0079931A1

    公开(公告)日：1983-06-01

    申请号：EP82901884.0

    申请日：1982-05-03

    Applicant: Hughes Aircraft Company

    Inventor： WARD, William J. ,  WANG, Victor ,  VAHRENKAMP, Richard P. ,  SELIGER, Robert L.

    IPC: H01J37 ,  H01L21

    CPC classification number: H01J37/3007 ,  H01J37/05

    Abstract: Une colonne de microfabrication (10) d'un faisceau d'ions focalises produit un faisceau d'ions a partir d'une source d'ions (12), et focalise le faisceau a l'aide d'un objectif (24) sur le plan de l'electrode (36). Le filtre ExB (44) separe les especes d'ions au niveau d'une partie de faible energie du faisceau. Le faisceau d'especes selectionnees est d'abord accelere par une lentille de pre-acceleration (38) qui possede un potentiel pouvant etre commande en vue de commander l'energie finale du faisceau sur la cible. Le faisceau est accelere par une lentille d'acceleration finale (54) et est degrossi et focalise sur la cible par cette lentille. Un deflecteur de faisceau (64) deflechit le faisceau pour effectuer un travail programme du faisceau d'ions sur la cible (60).

    Abstract translation: 聚焦离子束的微制造柱（10）从离子源（12）产生离子束，并且将具有透镜（24）的束聚焦在 电极（36）的平面。 ExB滤光器（44）在光束的低能量部分分离离子种类。 所选择的物种光束首先被具有可控电位的预加速透镜（38）加速，以控制目标上的最终光束能量。 光束通过最终加速透镜（54）加速，并通过该透镜锐化并聚焦在目标上。 光束偏转器（64）偏转光束以执行目标（60）上的离子束的编程工作。

    POST COLUMN FILTER WITH ENHANCED ENERGY RANGE
    65.
    发明授权
    POST COLUMN FILTER WITH ENHANCED ENERGY RANGE 有权
    具有增强型能量范围的柱后过滤器

    公开(公告)号：EP3065160B1

    公开(公告)日：2017-12-20

    申请号：EP15192573.2

    申请日：2015-11-02

    Applicant: FEI Company

    Inventor： Henstra, Alexander ,  Tiemeijer, Peter

    IPC: H01J37/05 ,  H01J37/26

    CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/14 ,  H01J37/22 ,  H01J37/263 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/2802

    Abstract: The invention relates to a post-column filter (a PCF) for a (Scanning) Transmission Electron Microscope (a (S)TEM). Traditionally these filters use excitations of the optical elements before the slit plane that are identical in both the EFTEM and the EELS mode. Although this eases the task for the person skilled in the art of developing and tuning a PCF, as it reduces the number of degrees of freedom to a manageable amount. Inventors found ways to determine settings of the optical elements before the slit plane for EELS mode that are different from the EFTEM mode and where the performance of the PCF in EELS mode is improved (especially the relative energy range that can be imaged) without degrading the performance of the PCF in EFTEM mode.

    PLASMA DENSIFICATION METHOD
    66.
    发明公开
    PLASMA DENSIFICATION METHOD 审中-公开
    等离子体浓密法

    公开(公告)号：EP3226663A1

    公开(公告)日：2017-10-04

    申请号：EP17163264.9

    申请日：2017-03-28

    Applicant: Scholtz e Fontana Consultoria Ltda - ME

    Inventor： Scholtz, Juliano Sadi ,  Fontana, Luis César

    IPC: H05H1/46 ,  H01J37/32

    CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/05 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32146 ,  H01J2237/0473 ,  H05H1/24 ,  H05H2001/4675

    Abstract: A plasma is formed between electrodes to be energized from an electric power source, containing a partially ionized mass having a luminescence region including neutral atoms (NA), primary electrons (PE), secondary electrons (SE), and ions. The method comprises the interspersed steps of: accelerating the primary electrons (PE) toward one of said electrodes (10) polarized by a short, positive, high voltage pulse, impacting primary electrons (PE) against said electrode (10) and ejecting secondary electrons (SE) from it; subsequently, accelerating the secondary electrons (SE) toward the luminescence region by polarization of said electrode (10) by a negative voltage pulse, colliding the secondary electrons with neutral atoms (NA) and producing positive ions (PI) and derived electrons (DE); the negative pulse must have a period of time sufficient to accelerate the positive ions (PI) of the luminescent region towards the electrodes 10 or parts, striking the surface of said electrodes or parts; repeating the previous steps in order to obtain a steady state plasma with a desired degree of ionization. The control of the intensity and the period of the positive and negative pulses allow the control of the degree of ionization and the volume of the luminescent region of the plasma.

    Abstract translation: 等离子体形成在电极之间以从电源激励，包含具有包括中性原子（NA），一次电子（PE），二次电子（SE）和离子的发光区域的部分电离质量。 该方法包括以下散布的步骤：通过短的正向高电压脉冲使一次电子（PE）加速朝向所述电极（10）中的一个，使一次电子（PE）撞击所述电极（10）并且喷射二次电子 （SE）; 随后，通过负电压脉冲使所述电极（10）极化，使二次电子（SE）朝向发光区加速，使二次电子与中性原子（NA）碰撞并产生正离子（PI）和衍生电子（DE） ; 负脉冲必须具有足以将发光区域的正离子（PI）朝向电极10或部件加速的时间周期，该电极或部件撞击所述电极或部件的表面; 重复之前的步骤以获得具有期望程度的电离的稳态等离子体。 对正脉冲和负脉冲的强度和周期的控制允许控制等离子体的电离程度和发光区域的体积。

    CHARGED-PARTICLE MICROSCOPE WITH ASTIGMATISM COMPENSATION AND ENERGY-SELECTION
    67.
    发明公开
    CHARGED-PARTICLE MICROSCOPE WITH ASTIGMATISM COMPENSATION AND ENERGY-SELECTION 审中-公开
    带有补偿和能量选择的带电粒子显微镜

    公开(公告)号：EP3203493A1

    公开(公告)日：2017-08-09

    申请号：EP16153875.6

    申请日：2016-02-02

    Applicant: FEI Company

    Inventor： SED'A, Bohuslav ,  TUMA, Lubomír ,  HENSTRA, Alexander

    IPC: H01J37/05 ,  H01J37/153

    CPC classification number: H01J37/153 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0451 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/1532 ,  H01J2237/2826

    Abstract: A method of producing a corrected beam of charged particles for use in a charged-particle microscope, comprising the following steps:
    - Providing a non-monoenergetic input beam 3a of charged particles;
    - Passing said input beam through an optical module comprising a series arrangement of:
    ▪ A stigmator 33, thereby producing an astigmatism-compensated, energy-dispersed intermediate beam 3b with a particular monoenergetic line focus direction;
    ▪ A beam selector 37, comprising a slit 43-43b' that is rotationally oriented so as to match a direction of the slit to said line focus direction, thereby producing an output beam 3d comprising an energy-discriminated portion of said intermediate beam.

    Abstract translation: 一种产生用于带电粒子显微镜的带电粒子的校正束的方法，包括以下步骤： - 提供带电粒子的非单能输入射束3a; - 使所述输入光束通过光学模块，所述光学模块包括以下系列装置：·一个散光装置33，由此产生具有特定单能线聚焦方向的散光补偿的能量散射中间光束3b; ▪光束选择器37，包括狭缝43-43b'，狭缝43-43b'被旋转地定向以便使狭缝的方向与所述线聚焦方向匹配，从而产生包括所述中间光束的能量区分部分的输出光束3d。

    CHICANE BLANKER ASSEMBLIES FOR CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEMS AND METHODS OF USING THE SAME
    69.
    发明公开
    CHICANE BLANKER ASSEMBLIES FOR CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEMS AND METHODS OF USING THE SAME 审中-公开
    SCHIKANENAUSTASTERANORDNUNG货物的承载梁系统和及其使用方法

    公开(公告)号：EP3002775A1

    公开(公告)日：2016-04-06

    申请号：EP15150310.9

    申请日：2015-01-07

    Applicant: FEI COMPANY

    Inventor： Kagarice, Kevin ,  Otis, Charles ,  Parker, N. William

    IPC: H01J37/04 ,  H01J37/05

    CPC classification number: H01J37/045 ,  H01J37/05 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749 ,  H01J2237/32

    Abstract: A chicane blanker assembly for a charged particle beam system includes an entrance and an exit, at least one neutrals blocking structure, a plurality of chicane deflectors, a beam blanking deflector (620), and a beam blocking structure. The entrance is configured to accept a beam of charged particles propagating along an axis. The at least one neutrals blocking structure intersects the axis. The plurality of chicane deflectors includes a first chicane deflector (610), a second chicane deflector, a third chicane deflector, and a fourth chicane deflector sequentially arranged in series between the entrance and the exit and configured to deflect the beam along a path that bypasses the neutrals blocking structure and exits the chicane blanker assembly through the exit. In embodiments, the chicane blanker assembly includes a two neutrals blocking structures. In embodiments, the beam blocking structure is arranged between the third chicane deflector and the fourth chicane deflector.

    Abstract translation: 用于带电粒子束系统中的急弯裸露组件包括在入口和出口处，所述至少一个中性阻挡结构，急弯偏转复数，一个光束消隐偏转器（620），和一个光束阻挡结构。 入口被配置为接受沿轴传播的带电粒子的束。 所述至少一个中性阻挡结构相交的轴线。 急弯偏转器的多元性包括第一急弯偏转器（610），第二急弯偏转器，第三急弯偏转器，并在入口和出口之间并配置串联布置的第四急弯偏转器按顺序沿着路径做旁路到光束偏转 中性粒子阻挡结构并通过出口离开弯道裸组件。 在实施例中，急弯裸组件包括一个两个中性阻挡结构。 在实施例中，束阻挡结构在第三急弯偏转器和所述第四急弯偏转器之间布置。

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