公开(公告)号：JPWO2013046440A1

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：JP2011546501

申请日：2011-09-30

Applicant: 株式会社シンクロン

Inventor： 一郎 塩野 ,  一郎 塩野 ,  充祐 宮内 ,  充祐 宮内 ,  友松 姜 ,  友松 姜

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/02

CPC classification number: B05D1/00 ,  C23C14/022 ,  C23C14/06 ,  C23C14/22 ,  C23C14/546

Abstract: 実用に耐えうることは勿論、耐摩耗性能がより高められた撥油膜を効率よく成膜することができる成膜方法を提供する。複数の基板14を保持するための基体保持面を持つ基板ホルダ12が真空容器10内に回転可能に配設された成膜装置1において、前記基体保持面の一部の領域のみに向けてイオンビームが照射可能となるような構成、配置及び/又は向きで真空容器10内に設置されたイオン源38と、前記基体保持面の全領域に向けて撥油膜の成膜材料が供給可能となるような配置及び向きで真空容器10内に設置された蒸発源34とを有し、蒸発源34の作動開始前にイオン源38の作動を停止させるように構成したものである。

Abstract translation: 能够耐受实际应用的，当然，是提供一种薄膜形成装置，能够有效地沉积更增强的斥油性膜的耐磨性的方法。 在成膜装置1中，基板支架12可旋转地设置在所述真空容器具有衬底保持表面，用于保持多个衬底14的10中，仅向衬底固定表面的离子的一部分区域 配置光束能够照射，安装在布置和/或取向的真空容器10的离子源38，防油性膜的成膜材料可朝向衬底固定表面的整个区域被提供 和蒸气源34安装在布置和取向这样，其构成为在启动蒸发源34的操作之前停止所述离子源38的动作将真空容器10内。

公开(公告)号：JP2010522827A

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：JP2010500959

申请日：2008-03-25

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： クレア，トッド ピー セイント ,  アール フェクティー，カーティス ,  リウ，ウェイ

IPC: C23C18/31 ,  C23C18/06

CPC classification number: B05D7/22 ,  B01D63/061 ,  B01D63/066 ,  B01D67/0046 ,  B01D67/0069 ,  B01D2323/42 ,  B05C7/04 ,  B05D1/00 ,  B05D3/0493 ,  C04B38/0096 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1628 ,  C23C18/1644 ,  C23C18/1678 ,  C23C18/42 ,  C04B35/00 ,  C04B38/0006

Abstract: 平均直径が３ｍｍ以下の複数のスルーチャネルを有するハニカム構造のような基体に、均一な膜コーティングを適用する方法および装置。 本方法には、成膜材料を含む液体前駆体を基体に提供する工程と、基体に圧力差を与える工程とが含まれる。 圧力差によって、液体前駆体は、スルーチャネルを均一に移動し、成膜材料がスルーチャネルの壁に堆積して、スルーチャネルの壁に成膜がなされる。 本装置は、基体を保持し、複数のスルーチャネルに圧力差を維持することのできるチャンバを含む。

公开(公告)号：JP2010045150A

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：JP2008207666

申请日：2008-08-12

Applicant: Sony Corp ,  ソニー株式会社

Inventor： SUMINO KOJI

IPC: H01L29/06 ,  B82B3/00 ,  G02F1/13 ,  H01L21/208 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10 ,  H05B33/28

CPC classification number: H01B1/04 ,  B05D1/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y20/00 ,  G02F1/13338 ,  G02F2001/13324 ,  G02F2202/36 ,  G06F3/045 ,  H01B1/24 ,  H01L21/02527 ,  H01L21/02628 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0048

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To further improve orientation property of thin film forming materials, uniformity and controllability in thickness of a thin film, and stability in forming the thin film. SOLUTION: A method of manufacturing a carbon nanotube thin film 18 includes the first step of preparing a carbon nanotube dispersion liquid 8 including the carbon nanotube dispersed by mixing the carbon nanotube and surface active agent, the second step of forming a dispersion liquid film 31 formed of the carbon nanotube dispersion liquid 8 at the internal circumferential side of an annular dispersion liquid film holding ring 35, the third step of moving the carbon nanotube dispersion liquid 8 to the surface of a substrate 37 in the form of a film by relatively sliding the cylindrical substrate 37 arranged along the internal circumference of the dispersion liquid film holding ring 35 between the central part and external circumferential part of internal space of the dispersion liquid film holding ring 35 and the dispersion liquid film 31 under the condition that these are placed in contact, and the fourth step of forming the carbon nanotube thin film 18 by drying up the dispersion liquid film formed on the surface of the substrate 37. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了进一步提高薄膜形成材料的取向性能，薄膜厚度的均匀性和可控性，以及薄膜形成的稳定性。 解决方案：制造碳纳米管薄膜18的方法包括：制备包含通过混合碳纳米管和表面活性剂而分散的碳纳米管的碳纳米管分散液8的第一步骤，形成分散液 在环状分散液膜保持环35的内周侧由碳纳米管分散液8形成的膜31，将碳纳米管分散液8以薄膜形式移动到基板37的表面的第三工序 在分散液膜保持环35和分散液膜31的内部空间的中心部分和外周部分之间沿着分散液膜保持环35的内周布置的圆柱形基板37相对滑动，条件是它们是 并且通过干燥分散体1形成碳纳米管薄膜18的第四步骤 在基板37的表面上形成的鱿鱼膜。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JPWO2006080362A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：JP2007500553

申请日：2006-01-25

Applicant: 国立大学法人 北海道大学 ,  国立大学法人 北海道大学 ,  協立化学産業株式会社

Inventor： 下村　政嗣 ,  政嗣 下村 ,  藪　浩 ,  浩 藪 ,  美季 児島 ,  美季 児島 ,  幹彦 壷内 ,  幹彦 壷内 ,  尾上　慎弥 ,  慎弥 尾上

IPC: C08G59/68

CPC classification number: B05D5/02 ,  B05D1/00

Abstract: 本発明に係るハニカム構造体は、光架橋性材料を用いて自己組織化現象を利用して製造される。これにより、ハニカム構造体は、光架橋性材料が露光されることによって形成される3次元架橋構造体を有していることから耐熱性や耐薬品性に優れた特性をもつことが可能となる。このハニカム構造体は、疎水性有機溶媒が完全に蒸発し、かつ水滴が残存している、あるいは水滴の跡が崩れていない時に露光のタイミングを設定することにより良好なハニカム上のパターン構造が形成されたハニカム構造体が得られる。

公开(公告)号：JPS60190269A

公开(公告)日：1985-09-27

申请号：JP2611685

申请日：1985-02-13

Applicant: Maakuetsuto Univ

Inventor： SUCHIIBUN RUISU RIIGAN

IPC: B05D7/14 ,  B05D1/00 ,  B05D1/18 ,  B05D1/20 ,  B05D3/00 ,  B05D3/10 ,  B05D5/00 ,  B05D7/00 ,  B05D7/04 ,  B05D7/24 ,  C03C17/34 ,  C08J7/04 ,  C08J7/18 ,  G03F7/00

CPC classification number: B82Y30/00 ,  B05D1/00 ,  B05D1/18 ,  B05D1/185 ,  B05D7/56 ,  B05D2401/10 ,  B05D2401/20 ,  B05D2451/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C17/3405 ,  C08J7/18 ,  G03F7/00

公开(公告)号：KR102232034B1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：KR1020190068426A

申请日：2019-06-11

Applicant: 세메스 주식회사

Inventor： 조천수

IPC: H01L21/67 ,  B05D1/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05D1/00 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70033 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67276

Abstract: 약액 경화 장치는 사각형 구조를 갖는 기판의 제1 변 내지 제4 변에 도포시킨 약액을 경화시키기 위한 것으로써, 제1 경화부, 제2 경화부, 제3 경화부, 제어부를 포함할 수 있다. 상기 제1 경화부는 상기 기판의 제1 변에 대응하는 길이를 갖도록 구비되고, 상기 제1 변 및 상기 제1 변과 마주하는 제2 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제2 경화부는 상기 제1 변과 수직하는 제3 변에 대응하도록 구비되고, 상기 제3 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제3 경화부는 상기 제3 변과 마주하는 제4 변에 대응하도록 구비되고, 상기 제4 변에 도포시킨 약액을 경화시킬 수 있다. 상기 제어부는 상기 제1 경화부, 상기 제2 경화부, 및 상기 제3 경화부의 온/오프(on/off)를 제어하도록 구비될 수 있다.

公开(公告)号：KR102224357B1

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：KR1020180120286A

申请日：2018-10-10

Applicant: (주)플렉솔루션

Inventor： 이정원 ,  김성수 ,  마펑

IPC: C08J5/18 ,  B05D1/00 ,  B29C41/02 ,  C08L65/00 ,  H01B1/12

CPC classification number: B05D1/00 ,  B05D1/60 ,  B29C41/02 ,  C08J5/18 ,  C08L65/00 ,  H01B1/12 ,  H01B1/127

Abstract: 본 발명은 도데실 설페이트가 도핑된 PEDOT 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 Fe(DS)
3 등의 도데실 설페이트 금속염을 포함하는 산화제막을 코팅한 후 기상중합법으로 PEDOT 필름을 형성하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 도데실 설페이트가 도핑된 PEDOT 필름은 금속을 대체할 수 있을 정도로 전기전도도가 우수하고, 기계적 내구성, 광투과도 및 수용액 안정성이 우수한 효과가 있다.

公开(公告)号：JP6429891B2

公开(公告)日：2018-11-28

申请号：JP2016551827

申请日：2015-02-13

Applicant: ピーアールシー−デソト インターナショナル,インコーポレイティド

Inventor： キール, チャールズ ,  アルバース, リチャード

IPC: B32B27/40 ,  B05D1/36 ,  B05D3/10 ,  B05D7/14 ,  B05D7/24 ,  C23C28/00 ,  B32B9/00

CPC classification number: C07C215/10 ,  B05D1/00 ,  B05D2503/00 ,  C09D175/04 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/1295 ,  C23C28/00 ,  Y10T428/31551

公开(公告)号：JP2018517596A

公开(公告)日：2018-07-05

申请号：JP2018513936

申请日：2016-05-27

Applicant: アクテガ メタル プリント ゲーエムベーハー

Inventor： ランダ ベンジオン ,  クラシリニコフ アントン ,  ファヒマ モシェ ,  ヤクヘル ヴァディム ,  エドガー バラク

IPC: B41M1/22 ,  B41F19/00 ,  B41F16/00 ,  B41J2/01 ,  B05D1/28 ,  B05D7/24 ,  B05C1/08 ,  B41F31/08

CPC classification number: B05C19/06 ,  B05B7/1481 ,  B05B9/00 ,  B05B9/01 ,  B05C1/00 ,  B05C1/0808 ,  B05C1/0817 ,  B05C11/023 ,  B05D1/00 ,  B05D1/12 ,  B05D1/28 ,  B05D3/007 ,  B05D3/12 ,  B41C1/184 ,  B41F19/001 ,  B41F19/002 ,  B41F19/005 ,  B41F31/18 ,  B41J2/0057 ,  B41M1/00 ,  B41M1/04 ,  B41M1/22 ,  B41M3/00 ,  B41M3/001 ,  B41M5/00 ,  B41M5/0017 ,  B44C1/24 ,  B44C1/28 ,  B44F9/10 ,  C09D1/00 ,  C09D5/38 ,  C23C24/04

Abstract: 基材の表面上に印刷する方法であって、i)粒子の単層によりドナー表面(12)をコーティングするステップと、ii)基材表面(80)を処理して、少なくとも選択された領域を粘着性にレンダリングするステップと、iii)ドナー表面に基材表面を接触させて、ドナー表面から基材表面の粘着性の領域のみに粒子が転写されることをもたらすステップとを含む方法が開示される。基材(20)に印刷した後、ドナー表面(12)が、基材への粒子の転写により露出されたドナー表面の領域を、新たな粒子により復元することにより単層の連続性が修復されるコーティングステーション(14)に戻る。

公开(公告)号：JP6196983B2

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：JP2014546423

申请日：2012-12-06

Applicant: ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス.ピー.エー.

Inventor： マラーニ, アレッシオ ,  ヴラッシチ, イヴァン ,  トルテッリ, ヴィート ,  ファルコ, イヴァン

IPC: C08L27/16 ,  C08K5/00 ,  C08F2/44 ,  C08F259/08 ,  C08F214/22

CPC classification number: C08F214/22 ,  B05D1/00 ,  C08F214/18 ,  C08F214/222 ,  C08J3/24 ,  C08K5/28 ,  B05D2506/10 ,  C08J2327/16