公开(公告)号：JPWO2014003023A1

公开(公告)日：2016-06-02

申请号：JP2014522649

申请日：2013-06-25

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 永井　智樹 ,  智樹 永井 ,  信也 峯岸 ,  信也 峯岸 ,  曽根　卓男 ,  卓男 曽根 ,  祐司 浪江 ,  祐司 浪江

IPC: H01L21/027 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F297/02 ,  C08L53/00 ,  G03F7/40

CPC classification number: C09D153/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F297/02 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337

Abstract: 本発明は、下記式(I)で表されるブロック及び下記式(II)で表されるブロックを含むブロック共重合体を含有するパターン形成用組成物である。下記式(I)及び(II)中、R1及びR3は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基である。R2は、1価の有機基である。R4は、炭素数1〜5の(1+b)価の炭化水素基である。R5は、ヘテロ原子を有する1価の基である。m及びnは、それぞれ独立して、10〜5,000の整数である。aは、0〜5の整数である。bは、1〜3の整数である。

Abstract translation: 本发明是一种图案形成组合物包含嵌段共聚物，包括由块表示的块和由下式（I）表示的下述式（II）。 在下面的式（I）和（II）中，R1和R3各自独立地为氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基。 R2是一价有机基团。 R 4是一个（1 + B）价烃基具有1至5个碳原子的基团。 R5是具有杂原子的一价基团。 m和n为10〜5000各自独立地为整数。 a为0〜5的整数。 b为1〜3的整数。

公开(公告)号：JPWO2008056795A1

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：JP2008543149

申请日：2007-11-09

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社 ,  セントラル硝子株式会社

Inventor： 永井　智樹 ,  智樹 永井 ,  琢磨 江畑 ,  琢磨 江畑 ,  誠 志水 ,  誠 志水 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  成塚　智 ,  智 成塚 ,  昌生 藤原 ,  昌生 藤原

IPC: C08F20/38 ,  C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

Abstract: 感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂であり、下記一般式(10)で表される繰り返し単位を有する樹脂。(前記一般式(10)中、R1は水素原子等を表し、M+は所定のカチオンを表し、nは1〜5の整数を表す)

公开(公告)号：JPWO2007069640A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：JP2007550196

申请日：2006-12-13

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 永井　智樹 ,  智樹 永井 ,  琢磨 江畑 ,  琢磨 江畑 ,  信司 松村 ,  信司 松村

IPC: C07C381/12 ,  C08F20/18 ,  C08F20/38

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/06 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0397

Abstract: 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に解像性能に優れ、DOF、LERに優れ、さらに液浸耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物、ならびにその製造方法を提供する。新規化合物は下記式(1)で表され、液浸耐性に優れる感放射線性樹脂組成物がえられる。式(1)において、R1はメチル基または水素原子を表し、R2、R3、またはR4はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1〜10の1価の有機基を表し、nは0〜3の整数を表し、Aはメチレン基、直鎖状もしくは分岐状の炭素数2〜10アルキレン基またはアリーレン基を表し、X−はS+の対イオンを表す。

公开(公告)号：JPWO2006093057A1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：JP2007505904

申请日：2006-02-24

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 圭二 今野 ,  圭二 今野 ,  田中　正人 ,  正人 田中 ,  桃子 石井 ,  桃子 石井 ,  高橋　純一 ,  純一 高橋 ,  永井　智樹 ,  智樹 永井

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0752 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0332 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10T428/31515 ,  Y10T428/31612 ,  Y10T428/31663

Abstract: 本発明の課題は、レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液およびレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、かつ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供することにある。本発明に係るレジスト下層膜用組成物は、下記式(A)で表されるシラン化合物の加水分解物および/またはその縮合物を含有することを特徴とする。R1bR2cSi(OR3)4-a・・・(A)[式中、R1は少なくとも一つの不飽和結合を有する1価の有機基を示し、R2は独立に水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基を示し、R3は独立に1価の有機基を示し、R1はOR3基以外の基であり、aは1〜3の整数を示し、bは1〜3の整数を示し、cは0〜2の整数を示し、かつ、a=b+cである。]

公开(公告)号：JPWO2006043597A1

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：JP2006543040

申请日：2005-10-19

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 永井　智樹 ,  智樹 永井 ,  清水　大輔 ,  大輔 清水

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/2041

Abstract: 液浸露光時に際して水に安定な被膜となり、焦点深度余裕を満足する。レンズとフォトレジスト膜との間に水を介して放射線照射する液浸露光に用いられ、樹脂成分と酸発生剤とを含む感放射線性樹脂組成物であって、上記樹脂成分がヒドロキシスチレン単位および酸解離性基含有成分を含む繰返し単位を含有する重合体であり、上記ヒドロキシスチレン単位が、重合体を構成する全繰返し単位に対して、5〜65モル%含み、上記ヒドロキシスチレン単位が下記式(1)で表される。 R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は水素原子または1価の有機基を表し、kおよびlはそれぞれ1〜3の整数であり、かつk+l=5である。

公开(公告)号：JP5407866B2

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：JP2009538082

申请日：2008-10-14

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 琢磨 江畑 ,  智樹 永井

IPC: C08L25/18 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C08K5/42 ,  C08L33/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C309/19 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

公开(公告)号：JP4924256B2

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：JP2007185083

申请日：2007-07-13

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  敏 江幡 ,  勇 王 ,  英司 米田 ,  達也 舎人

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/19 ,  C07C309/23 ,  C07C309/80 ,  C07C309/81 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4742884B2

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：JP2006018010

申请日：2006-01-26

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 光一郎 吉田 ,  裕臣 水野 ,  智樹 永井 ,  大輔 清水

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4670624B2

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：JP2005359999

申请日：2005-12-14

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 誠 志水 ,  智樹 永井 ,  英司 米田

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to radiation and high resolution as a chemically amplified resist sensitive to active radiation, particularly far-ultraviolet radiation typified by ArF excimer laser (wavelength; 193 nm), and excellent in basic physical properties as a resist including a pattern profile and LER. SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition comprises (A) an acid-dissociable group-containing polymer containing an acid-dissociable group and (B) a radiation-sensitive acid generator, wherein the acid-dissociable group-containing polymer (A) has a weight average molecular weight of 1,000-4,000 and a polydispersity of ≤1.3 and the acid-dissociable group-containing polymer (A) is obtained by living radical polymerization using a chain transfer agent represented by formula (X-1), wherein R a represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group; and Z represents a 2-15C monovalent organic group which may contain a substituent and a hetero atom. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供对作为对活性辐射敏感的化学放大抗蚀剂的特别是辐射和高分辨率透明度的辐射敏感性树脂组合物，特别是由ArF受激准分子激光器（波长193nm）表示的远紫外辐射， ，作为含有图案轮廓和LER的抗蚀剂的基本物理性质优异。 解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含（A）含有酸解离基团的含酸解离基团的聚合物和（B）辐射敏感性酸产生剂，其中所述含酸解离基团的聚合物（ A）的重均分子量为1,000-4,000，多分散性≤1.3，含酸解离基的聚合物（A）通过使用由式（X-1）表示的链转移剂的活性自由基聚合获得， 其中R a 表示取代或未取代的烃基; Z表示可以含有取代基和杂原子的2-15C一价有机基团。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4306314B2

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：JP2003113660

申请日：2003-04-18

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 史尚 宮島 ,  正昭 宮路 ,  智樹 永井 ,  敏 江幡 ,  潤一郎 稲葉

IPC: G03F7/004 ,  C08F12/04 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027