利索-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

663 records (took 0.03 seconds)

    Latex particles for particle aggregation measurement
    63.
    发明专利
    Latex particles for particle aggregation measurement 有权

    公开(公告)号：JP5430804B1

    公开(公告)日：2014-03-05

    申请号：JP2013536740

    申请日：2013-04-01

    Applicant: 積水メディカル株式会社

    Inventor： 慎一郎 北原 ,  由紀 高橋

    IPC: G01N33/545 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F220/28 ,  G01N33/543

    CPC classification number: G01N33/585 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/286

    Abstract: 非特異的反応を高度に抑制しながら、高感度測定が可能、かつ簡便に診断薬を作製できる粒子凝集測定用ラテックス粒子および該粒子を用いた粒子凝集測定用測定試薬を提供する。
    フェニル基を有する重合性単量体、フェニル基とスルホン酸塩を有する重合性単量体、及び式（１）を有する重合性単量体を成分として含み、式（１）を有する重合性単量体の粒子表面に占める密度（官能基密度）が０．０５〜０．５μｍｏｌ／ｍ
    2 である粒子凝集測定用ラテックス粒子を提供する。
    ＣＨ
    2 ＝ＣＲ
    1 −ＣＯＯ（ＣＨ
    2 ＣＨ
    2 Ｏ）
    n −Ｒ
    2 ・・・（１）
    （Ｒ
    1 は水素原子またはメチル基、Ｒ
    2 は水素原子またはメチル基、ｎは１≦ｎ＜２０）

    Polymerizable monomer, polymeric compound, positive resist material and pattern forming method using the same
    66.
    发明专利
    Polymerizable monomer, polymeric compound, positive resist material and pattern forming method using the same 有权
    可聚合单体，聚合物，正极材料和图案形成方法

    公开(公告)号：JP2013227433A

    公开(公告)日：2013-11-07

    申请号：JP2012100568

    申请日：2012-04-26

    Applicant: Shin-Etsu Chemical Co Ltd ,  信越化学工業株式会社

    Inventor： HATAKEYAMA JUN ,  HASEGAWA KOJI

    IPC: C08F12/22 ,  C07C43/243 ,  C08F212/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/38 ,  C08F232/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F12/22 ,  C08F212/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymeric compound suitable as a positive resist material giving a resist film that has higher resolution than a conventional positive resist material, has small line edge roughness and a good pattern profile after exposure, and has excellent etching durability and a little amount of outgassing during exposure, and in particular, suitable for a base resin of a chemically amplified positive resist material, and to provide a positive resist material and a pattern forming method using the polymeric compound, and a polymerizable monomer for obtaining the polymeric compound.SOLUTION: A polymerizable monomer is represented by general formula (1) (wherein Rrepresents a methyl group, ethyl group, propyl group, vinyl group or ethynyl group; the circle represents a cyclic bridged cyclic cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, which may include a double bond, however, it is not allowed that the circle is a cyclohexyl group and Ris an ethyl group; Rrepresents a hydrogen atom, a 1-4C straight-chain, branched or cyclic alkyl group; and m represents an integer of 1 to 4). The positive resist material shows a high contrast of an alkaline dissolution rate before and after exposure, suppresses swelling in an alkali developing solution, thereby preventing pattern collapse and achieving high resolution, has a good pattern profile and a good condition of edge roughness after exposure, and in particular, suppresses an acid diffusion rate and shows excellent etching durability.

    Abstract translation: 要解决的问题：为了提供适合作为正性抗蚀剂材料的高分子化合物，其赋予比常规正性抗蚀剂材料更高分辨率的抗蚀剂膜，具有小的线边缘粗糙度和曝光后的良好图案轮廓，并且具有优异的蚀刻耐久性和 并且特别适用于化学放大的正性抗蚀剂材料的基础树脂，并且提供使用该聚合物的正性抗蚀剂材料和图案形成方法，以及用于获得聚合物的聚合性单体 化合物。溶液：可聚合单体由通式（1）表示（其中R表示甲基，乙基，丙基，乙烯基或乙炔基;该环表示具有3至12个碳原子的环状桥连环烷基， 其可以包括双键，然而，不允许该环为环己基并且Ris为乙基; Rrepresen 一个氢原子，一个1-4C的直链，支链或环状的烷基; m表示1〜4的整数）。 正性抗蚀剂材料在曝光前后显示碱性溶解速度的高对比度，抑制碱性显影液中的溶胀，从而防止图案塌陷并实现高分辨率，具有良好的图案轮廓和曝光后的良好的边缘粗糙度条件， 特别是抑制酸扩散速度，显示优异的蚀刻耐久性。

    Photosensitive resin composition, production method of cured film, cured film, organic el display device and liquid crystal display device
    67.
    发明专利
    Photosensitive resin composition, production method of cured film, cured film, organic el display device and liquid crystal display device 审中-公开
    感光树脂组合物，固化膜的生产方法，固化膜，有机EL显示装置和液晶显示装置

    公开(公告)号：JP2013174660A

    公开(公告)日：2013-09-05

    申请号：JP2012037789

    申请日：2012-02-23

    Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

    Inventor： ANDO TAKESHI ,  HIKITA MASANORI

    IPC: G03F7/004 ,  C08F12/02 ,  C08F22/20 ,  C08F212/02 ,  C08F220/26 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22

    CPC classification number: H01L21/02118 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F220/32 ,  C08F222/1006 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/40 ,  H01L27/3258 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/325 ,  C08F220/20 ,  C08F220/06 ,  C08F212/08 ,  C08F2220/1875 ,  C08F212/14 ,  C08F220/14 ,  C08F2220/305 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/40

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, a low dielectric constant and an excellent exposure margin.SOLUTION: The photosensitive resin composition comprises: (A) a polymer component satisfying at least one of the following conditions (1) and (2); (B) two or more kinds of photoacid generators; and (D) a solvent. The polymer component includes: (1) a polymer having a structural unit (a1) including a residue in which an acid group is protected by an acid decomposable group and a structural unit (a2) having a crosslinking group; or (2) a polymer (a1) having a structural unit including a residue in which an acid group is protected by an acid decomposable group, and a polymer (a2) having a structural unit having a crosslinking group. In (B) the two or more kinds of photoacid generators, at least one is a compound (B-F) that responds to light to generate an acid including fluorine in the molecule, and at least one of the other is a compound excluding (B-F). The (B-F) compound is selected from a triarylsulfonium salt, diaryliodonium salt, oxime sulfonate compound, imide sulfonate compound and diazomethane compound.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供具有高灵敏度，低介电常数和优异曝光裕度的感光性树脂组合物。溶解性：感光性树脂组合物包含：（A）满足以下条件（1）中的至少一个的聚合物成分， 和（2）; （B）两种或多种光酸发生剂; 和（D）溶剂。 聚合物组分包括：（1）具有结构单元（a1）的聚合物，其包含其中酸基被酸可分解基团保护的残基和具有交联基团的结构单元（a2）; 或者（2）具有结构单元的聚合物（a1），该结构单元包括酸基被酸分解基团保护的残基，和具有交联基团的结构单元的聚合物（a2）。 在（B）两种以上的光酸产生剂中，至少一种是在分子中响应光以产生包含氟的酸的化合物（BF），另外一种是不包括（BF） 。 （B-F）化合物选自三芳基锍盐，二芳基碘鎓盐，肟磺酸盐化合物，酰亚胺磺酸盐化合物和重氮甲烷化合物。

Patent Agency Ranking