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公开(公告)号:JP2021091666A
公开(公告)日:2021-06-17
申请号:JP2020194996
申请日:2020-11-25
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , C09K3/00 , C07D333/76 , C07D307/54 , C07C381/12 , C07C59/56 , C07C59/68 , C07C25/00 , C08F220/10 , C08F212/02 , G03F7/20 , C07C69/78
Abstract: 【課題】KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線等の高エネルギー線を光源とするフォトリソグラフィーにおいて、高感度であり、かつCDU、LWR等のリソグラフィー性能に優れる化学増幅レジスト組成物、これに使用される酸拡散抑制剤、及び該化学増幅レジスト組成物を用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるオニウム塩化合物、該オニウム塩化合物からなる酸拡散抑制剤、及び該酸拡散抑制剤を含む化学増幅レジスト組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2020514451A
公开(公告)日:2020-05-21
申请号:JP2019534138
申请日:2017-12-22
Inventor: デイビー、ティモシー・ワレン , エバンス、リチャード・アレキサンダー , ケンッピネン、キンモ・ペッテリ , ロコック、キャサリン・エリザベス・サラ , ピーク、サイモン・ジョン , スキドモア、メリッサ , サッチ、クリストファー・ヘンリー
IPC: C08F212/02 , C08K5/24 , C08F220/12 , C08F2/38 , C09D133/00 , C09D7/63 , C09D5/02 , C08L57/00
Abstract: 本発明は、貯蔵安定性の架橋性水性ポリマー組成物であって、下記のものを含む水性ポリマー組成物に関する。(a)水性液体、(b)逃散性非気体酸により前記水性液体に可溶化されたコポリマーであって、下記のものの重合残基を含むコポリマー、(i)前記逃散性非気体酸によりプロトン化される塩基性官能基を含むエチレン性不飽和モノマーであって、そのモノマーの重合残基が、前記コポリマーの重合モノマー残基の総モル数に対して、25モル%未満の量で存在するエチレン性不飽和モノマー、(ii)前記コポリマーの架橋を促進するための官能基を含むエチレン性不飽和モノマー、および(iii)疎水性エチレン性不飽和モノマー、ならびに(c)(i)前記コポリマーの架橋を促進するための可逆的にブロックされた架橋剤、および(ii)前記可逆的にブロックされた架橋剤による前記コポリマーの架橋を阻害するための逃散性架橋阻害剤。
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公开(公告)号:JP2019196478A
公开(公告)日:2019-11-14
申请号:JP2019085244
申请日:2019-04-26
Applicant: 荒川化学工業株式会社
IPC: B41M1/30 , C08F220/20 , C08F212/02 , C09D11/107 , C08F220/02
Abstract: 【課題】樹脂、ワニス組成物、印刷インキ及び印刷物を提供すること。 【解決手段】本開示は、(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)トリメチロールプロパンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、(ポリ)グリセリンポリ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート又はアルキレンジ(アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性)(メタ)アクリレート、α−アルキルアルケニルアリールダイマーを含むモノマーから製造される、樹脂、上記樹脂を含むワニス組成物、印刷インキ並びに印刷物を提供する。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JPWO2018101361A1
公开(公告)日:2019-10-24
申请号:JP2017042902
申请日:2017-11-29
Applicant: 日本ゼオン株式会社
IPC: C08L45/00 , C08K3/36 , C08F236/04 , C08F232/04 , C08F210/10 , C08F210/14 , C08F212/02 , B60C1/00 , C08L9/00
Abstract: 本発明は、加工性に優れ、かつ、転がり抵抗及びウェットグリップ性能のバランスに優れたゴム組成物を提供することを主目的とする。 本発明は、ジエン系ゴム100質量部に対し、炭化水素樹脂1質量部〜30質量部およびシリカ80質量部〜200質量部を配合してなるゴム組成物であり、上記炭化水素樹脂は、脂肪族単量体単位と芳香族単量体単位とを含み、上記芳香族単量体単位のうち2以上の環状構造が結合した構造を有する単量体単位の上記芳香族単量体単位中の含有量が50質量%以上であり、重量平均分子量(Mw)が700〜6000の範囲内であり、かつ軟化点が80℃〜150℃の範囲内であることを特徴とするゴム組成物を提供することにより、上記課題を解決する。
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公开(公告)号:JPWO2017094748A1
公开(公告)日:2018-09-20
申请号:JP2016085478
申请日:2016-11-30
Applicant: デンカ株式会社
IPC: C08L25/08 , C08K5/13 , C08K5/49 , C08L33/04 , C08F212/02
CPC classification number: B29C47/00 , C08F212/08 , C08F220/14 , C08F222/06 , C08K5/005 , C08K5/134 , C08K5/524 , C08L25/00 , C08L25/14 , C08L33/10 , G02B1/04 , C08L33/12 , C08L33/04
Abstract: 本発明は、色相に優れる高耐熱性のスチレン系共重合体及びスチレン系樹脂組成物を提供することを課題とする。 残存不飽和ジカルボン酸無水物単量体量が100ppm以下であり、スチレン系単量体単位、(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位及び不飽和ジカルボン酸無水物系単量体単位を有する透明な高耐熱性のスチレン系共重合体。更に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤との樹脂組成物、メタクリル樹脂との樹脂組成物とする事が出来る。
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公开(公告)号:JP2018109764A
公开(公告)日:2018-07-12
申请号:JP2017247661
申请日:2017-12-25
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/09 , G03F7/20 , C08F12/24 , C08F20/30 , C08F212/14 , C08F220/30 , C08F232/08 , C08F212/02 , C08F220/12 , C08F220/38 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/004 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2059 , G03F7/322
Abstract: 【課題】パターン形成時の解像性を向上し、かつLERの低減されたレジストパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物を提供する。 【解決手段】(A)式(1)で表されるスルホニウム化合物、及び(B)水酸基を有する芳香族基を側鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大するポリマーを含むベースポリマーを含むポジ型レジスト組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2018049264A
公开(公告)日:2018-03-29
申请号:JP2017169148
申请日:2017-09-04
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , C07C279/26 , C07F9/24 , C07F9/6584 , C08F220/26 , C08F212/02 , G03F7/20 , C07D295/215 , C07D279/12 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C69/753 , C07C69/76 , C07C69/78 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/09 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/24 , C08F212/02 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/38 , C08F224/00 , C08F228/02 , C08F2220/282 , C08F2220/283 , C08F2220/303 , C08F2220/382 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2037 , G03F7/30 , G03F7/38
Abstract: 【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果も有し、解像性、LWR、CDUが良好なレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】ベースポリマーと、ヨウ素化芳香族基を有するカルボン酸の、2,5,8,9−テトラアザ−1−ホスファビシクロ[3.3.3]ウンデカン塩、ビグアニド塩又はホスファゼン塩とを含むレジスト材料。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2017065242A
公开(公告)日:2017-04-06
申请号:JP2016016706
申请日:2016-01-29
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: B32B23/08 , G02B5/30 , G02F1/1335 , C08F212/02 , C08F220/02 , B32B23/20
Abstract: 【課題】含水率が小さく、しかも耐久性にも優れる積層体、偏光板偏光板及び画像表示装置を提供する。 【解決手段】セルロースエステルを含有する層と密着性ポリマーを含有する層とを有する積層体であって、密着性ポリマーを含有する層がセルロースエステルを含有する層の少なくとも一方の面に隣接し、密着性ポリマーが下記〔a〕の繰り返し単位と下記〔b〕の繰り返し単位とを有する積層体、この積層体を用いた偏光板、並びに画像表示装置。 〔a〕:スチレン化合物等の特定の化合物に由来する、溶解度パラメータδtが13.5〜19.5の繰り返し単位 〔b〕:アクリル酸エステル化合物等の特定の化合物に由来する、溶解度パラメータδtが20.0〜26.0である繰り返し単位 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2016528349A
公开(公告)日:2016-09-15
申请号:JP2016533258
申请日:2014-08-18
Applicant: エルジー・ケム・リミテッド
IPC: C08J5/18 , B29C55/06 , C08F212/02 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F220/32 , C08F226/06 , G02B5/30 , G02F1/13363 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: C08F226/12 , B29C55/00 , B29K2033/08 , B29L2007/008 , C08J5/18 , C08J2339/04 , G02B5/3083 , C08F220/06
Abstract: 本発明は、逆波長分散を有する光学フィルムおよびこれを含む表示装置に関する。本発明に係る光学フィルムは、薄い厚さを有しながらも優れた逆波長分散性を示すことができて、液晶またはOLEDを用いた表示装置のλ/2波長板、λ/4波長板、保護フィルム、反射防止フィルムなどに好適に使用できる。
Abstract translation: 本发明涉及一种光学膜以及包括该具有逆波长分散的显示装置。 的光学膜根据本发明,在具有厚度为不太能够表现出优异的逆波长分散,使用液晶或OLED的显示装置,λ-/ 4波片的波长/ 2波片, 保护膜可以适当地使用,如抗反射膜。
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10.ネガ型輻射線感応性リソグラフィック印刷プレートのための輻射線感応性コーティング組成物用のコポリマー、前記コポリマーを含むポリマー粒子、及びコポリマーバインダー 有权
Title translation: 共聚物为负型辐射敏感平版印刷版,含有该共聚物的聚合物颗粒,和共聚物粘合剂的辐射敏感涂层组合物公开(公告)号:JP5749269B2
公开(公告)日:2015-07-15
申请号:JP2012528202
申请日:2010-09-14
Applicant: マイラン・グループ
Inventor: マイ・ティー・グイェン , マーク−アンドレ・ロカス
IPC: C08F212/02 , C08F220/00 , C08F226/06 , B41N1/14 , G03F7/00 , G03F7/033 , C08F290/06
CPC classification number: G03F7/029 , B41C1/1008 , C07C233/18 , C07C255/19 , C07C255/33 , C07C271/16 , C07C271/28 , C07C275/10 , C07D207/40 , C07D295/215 , C07F9/091 , C08F220/42 , C08F220/50 , C08F220/60 , C08F220/70 , G03F7/027 , G03F7/033 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , C08F212/08 , C08F220/06 , C08F230/02
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