公开(公告)号：JP5018743B2

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：JP2008293693

申请日：2008-11-17

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C07C33/44 ,  G03F7/039 ,  C07C35/48 ,  C07C43/196 ,  C07C69/533 ,  C08F14/18 ,  C08F20/24 ,  G02B1/11 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F20/30 ,  C08F14/18 ,  C08F20/28 ,  C08F216/1408 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C09D125/16 ,  C09D133/16 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  C08F2/00

摘要： The invention relates to a fluorine-containing compound represented by the formula 1, where R1 is a methyl group or trifluoromethyl group, each of R2 and R3 is independently a hydrogen atom or a group containing (a) a hydrocarbon group having a straight-chain, branched or ring form and having a carbon atom number of 1-25 or (b) an aromatic hydrocarbon group, the group optionally containing at least one of a fluorine atom, an oxygen atom and a carbonyl bond, l is an integer of from 0 to 2, each of m and n is independently an integer of 1-5 to satisfy an expression of m+n≦̸6, and when at least one of R1, R2 and R3 is in a plural number, the at least one of R1, R2 and R3 may be identical with or different from each other.

摘要翻译： 由式1表示的含氟化合物，其中R 1为甲基或三氟甲基，R 2和R 3各自独立地为氢原子或含有（a）具有直链，支链或环的烃基的基团 形成并具有1-25的碳原子数或（b）芳族烃基，该基团任选地含有氟原子，氧原子和羰基键中的至少一个，l是0-2的整数， m和n各自独立地为1-5的整数，以满足m + n＆nlE; 6的表达式，并且当R 1，R 2和R 3中的至少一个为多个时，R 1，R 2和 R3可以彼此相同或不同。

公开(公告)号：JP4410508B2

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：JP2003279778

申请日：2003-07-25

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C08F20/24 ,  G03F7/004 ,  C07C33/44 ,  C07C33/48 ,  C07C35/48 ,  C07C39/24 ,  C07C43/196 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C69/54 ,  C07C69/65 ,  C07C69/96 ,  C08F16/12 ,  G02B1/11 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material for anti-reflecting film or a material for resist having high transparency and a low refractive index in the wave length range from vacuum ultraviolet ray to optical communication wavelength, together with adhesive property to substrate, high film forming property, etching resistance, durability by imparting hydroxyl group or a functional group modifying the group while having a high fluorine content by using a fluorine containing compound or its polymer. SOLUTION: The fluorine containing compound is expressed by general formula (1). In the general formula (1) R 1 is methyl or trifluoromethyl group, R 2 or R 3 are each H, a 1-25C linear, branched or cyclic hydrocarbon group or a group containing an aromatic hydrocarbon group and optionally containing F, O atom or carbonyl bond in a part. l is an integer of 0-2, m, n are each an arbitrary integer of 1-5, and satisfies m+n≤6. R 1 -R 3 are each mutually the same or different when R 1 -R 3 are more than one. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

公开(公告)号：JP5556160B2

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：JP2009281162

申请日：2009-12-11

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 治彦 小森谷 ,  真一 角田 ,  憲人 伊野宮 ,  高 森 ,  崇勝 北元 ,  有将 菅藤

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：JP4683887B2

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：JP2004266071

申请日：2004-09-13

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田 ,  克俊 鈴木

IPC分类号： C07D311/94 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D311/00 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP4212307B2

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：JP2002183138

申请日：2002-06-24

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 孝司 久米 ,  直 古賀 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C07C29/17 ,  C07C29/58 ,  C07B61/00 ,  C07C29/00 ,  C07C33/30 ,  C07F7/08

CPC分类号： C07F7/0818 ,  C07C29/00 ,  C07C29/17 ,  C07C33/483

公开(公告)号：JP3999030B2

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：JP2002125505

申请日：2002-04-26

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  充孝 大谷 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C08F212/14 ,  G03F7/033 ,  C07B61/00 ,  C07C29/58 ,  C07C33/46 ,  C07C33/48 ,  C07C41/24 ,  C07C43/174 ,  C07C43/176 ,  C07C68/00 ,  C07C69/96 ,  C08F12/14 ,  C08F12/22 ,  C08F216/14 ,  C08F220/02 ,  G02B1/10 ,  G02B1/111 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F12/22 ,  C07C33/46 ,  C07C43/1745 ,  C07C43/176 ,  C07C69/96 ,  Y02P20/55

公开(公告)号：JP4770780B2

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：JP2007106509

申请日：2007-04-13

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  充孝 大谷 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C08F12/14 ,  C07C29/58 ,  C07C33/46

公开(公告)号：JP4484603B2

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：JP2004201439

申请日：2004-07-08

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  充孝 大谷 ,  覚 宮澤 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08K3/00 ,  C09J133/14 ,  H01L21/027

CPC分类号： C09J133/14

公开(公告)号：JP4079893B2

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：JP2004044142

申请日：2004-02-20

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  武夫 古俣 ,  充孝 大谷 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C07C33/05 ,  G03F7/039 ,  C07C31/44 ,  C07C33/44 ,  C07C49/323 ,  C07C49/337 ,  C07C49/345 ,  C07C49/573 ,  C07C69/003 ,  C07C69/653 ,  C08F14/18 ,  C08F16/26 ,  C08F20/22 ,  C08F32/04 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C33/44 ,  C07C31/44 ,  C07C49/337 ,  C07C49/573 ,  C07C69/653 ,  C07C2602/42 ,  C08F14/18 ,  C08F2/00

公开(公告)号：JP5577684B2

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：JP2009281161

申请日：2009-12-11

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 治彦 小森谷 ,  真一 角田 ,  憲人 伊野宮 ,  高 森 ,  崇勝 北元 ,  有将 菅藤

IPC分类号： C08F20/28 ,  C07C69/54 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

摘要： Disclosed is a polymerizable fluoromonomer represented by the following general formula (1). In the formula, R1 represents a hydrogen atom, methyl group, fluorine atom, or trifluoromethyl group. n is an integer of 0 or 1, and m is that of from 1 to (3+n). R2 and R3 each independently represents a hydrogen atom or a protective group. A resist containing a fluoropolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the monomer is suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure.

摘要翻译： 公开了由以下通式（1）表示的可聚合的含氟单体。 在该式中，R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基。 n为0或1的整数，m为1〜（3 + n）的整数。 R2和R3各自独立地表示氢原子或保护基。 含有通过聚合或共聚单体获得的含氟聚合物的抗蚀剂适用于通过浸渍曝光的微细加工或基于浸渍曝光的双重图案化工艺。