公开(公告)号：JP2013525425A

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：JP2013507899

申请日：2011-04-26

申请人： シンアフィックス ビー.ブイ.

发明人： デルフト， フローリス， ルイス ファン ,  フローリス ペトリュス ヨハネス テオドルス ルートジェス， ,  フレデリック， ジャン ドンメルホルト，

IPC分类号： C07C33/16 ,  A61K49/00 ,  A61K51/00 ,  C07C29/00 ,  C07C29/58 ,  C07C271/16 ,  C07D495/04

CPC分类号： C07C33/16 ,  A61K47/48023 ,  A61K47/54 ,  A61K49/0052 ,  C07C29/147 ,  C07C29/58 ,  C07C29/62 ,  C07C62/30 ,  C07C67/347 ,  C07C269/06 ,  C07C271/12 ,  C07C271/20 ,  C07C2602/24 ,  C07D311/82 ,  C07D495/04 ,  C07K14/47 ,  G01N21/6428 ,  G01N33/532 ,  G01N33/582 ,  G01N33/585 ,  G01N2021/6439 ,  C07C33/44 ,  C07C69/753

摘要： 本発明は、縮合シクロオクチン化合物、及びそれらの調製の方法に関する。 本発明はまた、本発明による縮合シクロオクチン化合物が標識にコンジュゲートしているコンジュゲートに関し、標的分子の生体直交的標識化、画像化及び／又は例えば、表面修飾などの修飾におけるこれらのコンジュゲートの使用に関する。 本発明はさらに、本発明によるコンジュゲートが１，３−双極子又は１，３−（ヘテロ）ジエンを含む化合物と反応する、標的分子の修飾の方法に関する。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP4186819B2

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：JP2003512187

申请日：2002-07-12

申请人： ダイキン工業株式会社

发明人： 拓司 久米 ,  明典 山本 ,  卓司 石川 ,  孝之 荒木

IPC分类号： C07C33/44 ,  C07C29/38 ,  C07C43/172 ,  C07C43/313 ,  C07C45/45 ,  C07C49/567 ,  C07C61/28 ,  C07C69/96 ,  C08F32/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07C33/44 ,  C07C43/313 ,  C07C45/45 ,  C07C49/567 ,  C07C61/28 ,  C07C69/96 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382

摘要： There are provided a novel norbornene derivative which is a material for a chemically amplifying type photoresist for F2 laser, possesses excellent transparency and improved dry etching resistivity and has a fluorine-containing ketone unit or fluorine-containing tertiary alcohol unit directly bonded to the norbornene backbone; a fluorine-containing polymer obtained by using the norbornene derivative as a copolymerizable monomer; and a chemically amplifying type photoresist composition comprising the fluorine-containing polymer, a photoacid generator and a solvent.

公开(公告)号：JP2005232095A

公开(公告)日：2005-09-02

申请号：JP2004044142

申请日：2004-02-20

申请人： Central Glass Co Ltd ,  セントラル硝子株式会社

发明人： KOMORIYA HARUHIKO ,  TSUNODA SHINICHI ,  OTANI MITSUTAKA ,  KOMATA TAKEO ,  MAEDA KAZUHIKO

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C31/44 ,  C07C33/05 ,  C07C33/44 ,  C07C49/323 ,  C07C49/337 ,  C07C49/345 ,  C07C49/573 ,  C07C69/003 ,  C07C69/653 ,  C08F14/18 ,  C08F16/26 ,  C08F20/22 ,  C08F32/04 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C33/44 ,  C07C31/44 ,  C07C49/337 ,  C07C49/573 ,  C07C69/653 ,  C07C2602/42 ,  C08F14/18 ,  C08F2/00

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new fluorine-containing cyclic compound and a fluorine-containing polymer compound and to provide a resist material having high transparency in broad wavelength area from an ultraviolet light area to a near-infrared light area and having high adhesiveness and film-forming property to substrates and high etching resistance together and to provide a pattern-forming method using the resist material and to provide a package material for semiconductor devices. SOLUTION: The fluorine-containing cyclic compound is represented by general formula (1) [wherein R1a is a 1-25C cyclic alkyl group, a cyclic alkenyl group or a cyclic alkynyl group; R2 and R3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a 1-25C straight-chain or branched or cyclic alkyl group and R1a, R2 and R3 may be each an atomic group containing a fluorine atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a carbon-carbon double bond]. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

摘要翻译： 要解决的问题：提供新的含氟环状化合物和含氟聚合物化合物，并提供从紫外光区域到近红外光区域的宽波长区域具有高透明度的抗蚀剂材料， 对基板具有高的粘附性和成膜性，并且一起具有高的抗蚀刻性，并且提供使用该抗蚀剂材料的图案形成方法并提供用于半导体器件的封装材料。 解决方案：含氟环状化合物由通式（1）表示[其中R1a为1-25C环烷基，环烯基或环炔基; R2和R3各自为氢原子，卤素原子，1-25C直链或支链或环状烷基，R 1a，R 2和R 3可以各自为含有氟原子，氧原子，硫原子的原子团 ，氮原子或碳 - 碳双键]。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JPWO2002036533A1

公开(公告)日：2004-03-11

申请号：JP2002539295

申请日：2001-10-31

申请人： ダイセル化学工業株式会社

发明人： 井上　慶三

IPC分类号： C08F24/00 ,  C07C29/40 ,  C07C33/44 ,  C07C35/52 ,  C07C41/01 ,  C07C41/06 ,  C07C41/58 ,  C07C43/172 ,  C07C43/178 ,  C07C43/192 ,  C07C43/196 ,  C07C43/313 ,  C07C45/64 ,  C07C45/66 ,  C07C45/68 ,  C07C49/453 ,  C07C49/513 ,  C07C49/653 ,  C07C49/755 ,  C07D307/00 ,  C07D307/30 ,  C07D307/93 ,  C07D313/10 ,  C07D317/42 ,  C07D339/06 ,  C08F16/00 ,  C08F34/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C41/58 ,  C07C33/44 ,  C07C35/52 ,  C07C41/06 ,  C07C41/54 ,  C07C41/56 ,  C07C43/313 ,  C07C43/317 ,  C07C49/755 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/30 ,  C07D307/93 ,  C07D313/10 ,  C07D317/42 ,  C07D339/06 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C07C43/1786 ,  C07C43/196

摘要： 本発明の電子吸引性基含有単量体は、下記式(a)、(b)又は(c)(式中、A1、A2、A3は環を示し、Ra、Rb、Rc、Ruは、同一又は異なって、水素原子又は有機基を示す。Rs、Rw及びRvのうち少なくとも1つ、Rt及びRw1のうち少なくとも1つ、2つのRw2のうち少なくとも1つは、それぞれ電子吸引基を示し、残りは水素原子又は有機基を示す。W1は単結合又は連結基を示し、nは2〜25の整数を示す。Ra、Rb、Rc、Rs、Rt、Ru、Rv、Rw、Rw1、Rw2、W1、A1環を構成する炭素原子、A2環を構成する炭素原子、A3環を構成する炭素原子は、それぞれ2以上が結合して環を形成していてもよい)で表される。前記Rs、Rt、Rv、Rw、Rw1、Rw2における電子吸引性基は、例えばフッ素原子含有基である。この単量体はフォトレジスト用高分子化合物の原料として有用である。

公开(公告)号：JP4557502B2

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：JP2003135228

申请日：2003-05-14

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  覚 宮澤 ,  悟 小林 ,  治彦 小森谷 ,  勝則 川村

IPC分类号： C07C33/44 ,  C07C35/29 ,  C07C35/52 ,  C07C43/196 ,  C07C69/533 ,  C07C69/54 ,  C07C69/653 ,  C08F32/02 ,  C08G61/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07C33/44 ,  C07C35/29 ,  C07C43/196 ,  C07C69/653 ,  C07C2602/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y02P20/55 ,  Y10S430/108

公开(公告)号：JP4383810B2

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：JP2003318803

申请日：2003-09-10

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 裕次 原田 ,  武 渡辺 ,  剛 金生

IPC分类号： C07C31/38 ,  C07C33/44 ,  C07C29/143 ,  C07C29/38 ,  C07C29/40 ,  C07C35/52 ,  C07C41/50 ,  C07C43/178 ,  C07C45/00 ,  C07C45/45 ,  C07C45/52 ,  C07C49/24 ,  C07C49/242 ,  C07C231/08 ,  C07C233/18 ,  C07C303/36 ,  C07C311/04 ,  C07C319/14 ,  C07C323/15 ,  C08F32/00 ,  C08F32/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F32/08 ,  C07C33/44 ,  C07C45/52 ,  C07C49/24 ,  C07C49/242 ,  C07C233/18 ,  C07C311/04 ,  C07C323/15 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395

公开(公告)号：JP2008308691A

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：JP2008172180

申请日：2008-07-01

申请人： Daikin Ind Ltd ,  ダイキン工業株式会社

发明人： ARAKI TAKAYUKI ,  ISHIKAWA TAKUJI ,  KUME TAKUJI ,  YAMAMOTO AKINORI

IPC分类号： C08F232/08 ,  C07C33/44 ,  C07C43/313 ,  C07C45/45 ,  C07C49/567 ,  C07C61/28 ,  C07C69/96 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07C33/44 ,  C07C43/313 ,  C07C45/45 ,  C07C49/567 ,  C07C61/28 ,  C07C69/96 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material for a chemically amplifying type photoresist for F 2 laser which possesses excellent transparency and improved dry etching resistance. SOLUTION: The material is a fluorine-containing polymer having a ring structure in a polymer main chain represented by the formula (13):-(M1)-(M2)-(N)- (wherein M1 is a structural unit derived from a norbornene derivative having a fluorine-containing alcohol structure; M2 is a structural unit obtained from a 2 or 3C ethylenic monomer which is a fluorine-containing monomer containing at least one fluorine atom; and N is a structural unit derived from a monomer copolymerizable with the structural units M1 and M2). The polymer includes 1-99 mol% of the structural unit M1, 1-99 mol% of the structural unit M2 and 0-98 mol% of the structural unit N and has a number average molecular weight of 500-1,000,000. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供具有优异的透明度和改善的耐干蚀刻性的用于F 2 SB 3激光的化学放大型光致抗蚀剂的材料。 解决方案：该材料是在由式（13）表示的聚合物主链中具有环结构的含氟聚合物： - （M1） - （M2） - （N） - （其中M1是结构单元 衍生自具有含氟醇结构的降冰片烯衍生物; M2是由含有至少一个氟原子的含氟单体的2或3C烯属单体获得的结构单元; N是衍生自单体的结构单元 可与结构单元M1和M2共聚）。 该聚合物包括1-99mol％的结构单元M1，1-99mol％的结构单元M2和0-98mol％的结构单元N，并且数均分子量为500-1,000,000。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JPS6127372B2

公开(公告)日：1986-06-25

申请号：JP8675877

申请日：1977-07-21

申请人： Sheru Intern Risaachi Maachatsupii Nv

发明人： JON ANTONII SUKOFUIIRUDO ,  JON AANESUTO HOOESU

IPC分类号： C07C67/39 ,  A01N37/06 ,  A23L3/34 ,  A23L3/3508 ,  A61K8/36 ,  A61K8/37 ,  A61Q13/00 ,  B01J31/00 ,  C07B31/00 ,  C07B41/08 ,  C07B41/12 ,  C07B61/00 ,  C07C29/17 ,  C07C29/38 ,  C07C33/42 ,  C07C33/44 ,  C07C51/00 ,  C07C51/21 ,  C07C51/23 ,  C07C61/22 ,  C07C61/26 ,  C07C67/00 ,  C07C69/533 ,  C07C69/74 ,  C07C69/75 ,  C07C69/88 ,  C07C69/92 ,  C07C227/00 ,  C07C227/02 ,  C07C229/60 ,  C07D231/22 ,  C07D231/26 ,  C11B9/00

CPC分类号： C07D231/26 ,  C07C29/172 ,  C07C29/38 ,  C07C67/42 ,  C07C227/02 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/16 ,  C07C2601/18 ,  C07C2601/20 ,  C07C69/92 ,  C07C69/74 ,  C07C69/75 ,  C07C69/533 ,  C07C33/44 ,  C07C229/60

公开(公告)号：JP4990937B2

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：JP2009148244

申请日：2009-06-23

申请人： 中外製薬株式会社

发明人： 朗 川瀬 ,  博義 渡邉 ,  範 畑山

IPC分类号： C07C401/00 ,  C07B61/00 ,  C07C33/44 ,  C07C35/32 ,  C07C43/178 ,  C07C49/443 ,  C07F7/18

CPC分类号： C07C401/00 ,  C07C33/44 ,  C07C35/32 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/24 ,  C07F7/1856 ,  Y02P20/55

摘要： Vitamin D derivatives having general formula (1) which are hydroxylated at the 24-position and considered as one of metabolites of physiologically active vitamin D derivatives substituted at the 2 beta -position wherein R1, R2, R3 and R4 are the same or different and each represents hydrogen or a protective group; X and Y represent each H or OR5, provided that Y is OR5 when X is H, and Y is H when X is OR5 (wherein R5 represents hydrogen or a protective group, or R1 and R5 may together form a vicinal-diol protective group); synthesis intermediates useful in synthesizing these vitamin D derivatives; and medicinal compositions containing these vitamin D derivatives.

公开(公告)号：JP4079893B2

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：JP2004044142

申请日：2004-02-20

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  武夫 古俣 ,  充孝 大谷 ,  治彦 小森谷 ,  真一 角田

IPC分类号： C07C33/05 ,  G03F7/039 ,  C07C31/44 ,  C07C33/44 ,  C07C49/323 ,  C07C49/337 ,  C07C49/345 ,  C07C49/573 ,  C07C69/003 ,  C07C69/653 ,  C08F14/18 ,  C08F16/26 ,  C08F20/22 ,  C08F32/04 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C33/44 ,  C07C31/44 ,  C07C49/337 ,  C07C49/573 ,  C07C69/653 ,  C07C2602/42 ,  C08F14/18 ,  C08F2/00