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公开(公告)号：JPWO2016068224A1
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：JP2016556616
申请日：2015-10-29
IPC: H01L29/786 , H01L21/283 , H01L21/285 , H01L21/336 , H01L29/417 , H01L29/78
CPC classification number: H01L29/78636 , H01L21/28 , H01L21/288 , H01L29/66742 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/66969 , H01L29/78 , H01L29/7869
Abstract: フォトリソグラフィ工程数を削減し、微細なパターンの形成が可能な薄膜トランジスタ、MOS電界効果トランジスタの製造方法を及びこれにより作製された薄膜トランジスタ、MOS電界効果トランジスタを提供することを目的とする。それらの薄膜トランジスタ、MOS電界効果トランジスタは電子デバイスに用いられる。薄膜トランジスタは、基板上に設けられた第一の絶縁層と、第一の絶縁層上に設けられたソース電極及びドレイン電極と、第一の絶縁層とソース電極とドレイン電極とを覆うように設けられた半導体層と、半導体層上に設けられた第二の絶縁層と、第二の絶縁層上に設けられたゲート電極とを具備し、第一の絶縁層は親撥材から成り、かつ凹部を有し、第一の絶縁層の凹部を埋めるようにソース電極及びドレイン電極が設けられることを特徴とする。
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公开(公告)号：JP5686134B2
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：JP2012518355
申请日：2011-05-26
IPC: G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G03F7/075 , G03F7/40
CPC classification number: G03F7/0007 , C08G8/28 , C08L61/14 , G02B5/201 , G03F7/0751 , G03F7/40
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公开(公告)号：JPWO2016039327A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：JP2016547445
申请日：2015-09-08
CPC classification number: C23C16/44 , B05D3/06 , B29C59/16 , C08J7/00 , C09D129/10 , C09D133/10 , C09D133/14 , C09D133/16 , C23C16/56 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26 , H05K3/0023 , H05K3/12 , H05K2201/0166
Abstract: 本発明は、凹パターンを有する構造体の製造方法、樹脂組成物、導電膜の形成方法、電子回路及び電子デバイスに関し、該構造体の製造方法は、下記工程(i)及び(ii)を含み、下記工程(i)で得られる塗膜の膜厚に対して、5%以上90%未満薄い膜厚の凹パターンを有する構造体の製造方法である。(i)酸解離性基を有する重合体及び酸発生剤を含む樹脂組成物を用いて、構造体の非平坦面に塗膜を形成する工程(ii)前記塗膜の一部の所定部分に放射線照射を行うことにより凹部を形成する工程
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公开(公告)号：JPWO2011152277A1
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：JP2012518355
申请日：2011-05-26
IPC: G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G03F7/075 , G03F7/40
CPC classification number: G03F7/0007 , C08G8/28 , C08L61/14 , G02B5/201 , G03F7/0751 , G03F7/40
Abstract: 着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供する。本発明の着色組成物は、(A)着色剤、(B)バインダー樹脂、(C)架橋剤、及び(D)フェノール性水酸基とアルコキシシリル基を有する化合物を含有することを特徴とする。
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公开(公告)号：JPWO2012067026A1
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：JP2012544214
申请日：2011-11-11
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133516 , G02B5/201 , G02B5/22 , G02F2203/03 , H01L27/322
Abstract: 高輝度化に有用なカラーフィルタの製造方法、表示特性に優れた表示素子および高輝度化に有用なカラーフィルタを提供する。カラーフィルタ10の製造方法は、基板5の上に、着色組成物を用いて着色パターン6を形成する工程と、着色パターン6の表面に凹凸を形成する工程とを有する。凹凸は、エッチング法、ナノインプリント法または研磨法によって形成されることが好ましい。凹凸が形成された着色パターン6の上に保護膜8を形成する工程をさらに有することが好ましい。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2007089004A1
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：JP2007556943
申请日：2007-01-30
IPC: H01L21/304 , B24B37/24 , C08L9/00 , C08L33/06 , C08L71/00 , C08L77/00 , C08L101/12
CPC classification number: H01L21/31053 , B24B37/24 , H01L21/31058 , H01L21/3212
Abstract: 本発明の目的は、高い研磨速度を与えるとともに、被研磨面におけるスクラッチの発生を十分に抑制することができ、かつ研磨量について高度の被研磨面内均一性を実現できる化学機械研磨パッドを提供することである。上記目的は、研磨層の表面固有抵抗値が1.0×107〜9.9×1013Ωである化学機械研磨パッドによって達成される。かかる研磨層は、好ましくは(A)体積固有抵抗率が1.0×1013〜9.9×1017Ω・cmである高分子マトリックス成分および(B)体積固有抵抗率が1.0×106〜9.9×1012Ω・cmである成分とを含有する組成物から形成される。
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公开(公告)号：JPWO2015137248A1
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2016507493
申请日：2015-03-06
CPC classification number: H05K3/107 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/0392 , G03F7/36 , G03F7/40 , G03F7/70 , H05K3/105 , H05K3/1258
Abstract: 下記の(i)〜(v)の工程を含むことを特徴とする配線の製造方法。(i)基板(10)に、感放射線性組成物を塗布し塗膜(20)を形成する工程(ii)塗膜(20)の所定部分に放射線照射を行い、放射線照射部(30)と放射線未照射部(40)とを有する塗膜(21)を形成する工程(iii)凹部(31)と凸部(41)とを有する塗膜(22)を形成する工程(iv)凹部(31)に配線(50)を形成する工程(v)放射線照射または加熱により、凸部(41)を除去する工程
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公开(公告)号：JP4032405B2
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：JP5513299
申请日：1999-03-03
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G02F1/1337 , C08L79/08
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a liquid crystal alignment agent having excellent transparency by incorporating a polyamic acid and/or polyimide having a specified content of aromatic rings in the polymer. SOLUTION: The liquid crystal alignment agent used contains a polyamide acid and/or polyimide having
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公开(公告)号：JP5510050B2
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：JP2010111130
申请日：2010-05-13
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G02B5/20 , C08K5/00 , C08K5/1515 , C08K5/29 , C08L33/06 , C08L63/00 , C08L101/02 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/40
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