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公开(公告)号：JP5609980B2
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：JP2012533010
申请日：2011-09-07
CPC classification number: G03F7/0395 , C07C69/716 , C07C69/72 , C07C2603/74 , C08F220/28 , G03F7/0397
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公开(公告)号：JPWO2012046607A1
公开(公告)日：2014-02-24
申请号：JP2012537652
申请日：2011-09-28
CPC classification number: G03F7/20 , C08F20/28 , C08F2220/283 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 本発明は液浸露光用として好適で、エッチング耐性がより向上し、感度、断面形状、解像性等のレジスト膜の一般的特性に優れるトレンチパターン及び/又はホールパターンの形成方法並びに感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布するレジスト膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)現像工程を含むトレンチパターン及び/又はホールパターン形成方法であって、上記(3)現像工程における現像液中に有機溶媒を50質量%以上含有し、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基及び脂環式基を有する構造単位(I)を含み、この脂環式基が酸の作用により分子鎖から解離しない重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有することを特徴とするトレンチパターン及び/又はホールパターン形成方法である。
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公开(公告)号：JPWO2012049919A1
公开(公告)日：2014-02-24
申请号：JP2012538604
申请日：2011-09-05
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 本発明は、有機溶媒を含有する現像液を用いるレジストパターン形成方法において、レジスト膜のパターン形成後の膜減りを抑制することができると共に、CDU、MEEFに優れるレジストパターンを形成することができ、解像性も十分満足する感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布するレジスト膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)有機溶媒を80質量%以上含有する現像液を用いる現像工程を有するレジストパターン形成方法であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]ポリスチレン換算重量平均分子量が6,000を超え、酸解離性基を含む構造単位を有し、水酸基を含む構造単位の含有割合が5モル%未満である重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有することを特徴とする。
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公开(公告)号：JPWO2012133595A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013507703
申请日：2012-03-28
Inventor： 浩光 中島 , 浩光 中島 , 木村 徹 , 徹 木村 , 裕介 浅野 , 裕介 浅野 , 雅史 堀 , 雅史 堀 , 木村 礼子 , 礼子 木村 , 一樹 笠原 , 一樹 笠原 , 拡 宮田 , 拡 宮田 , 吉田 昌史 , 昌史 吉田
IPC: G03F7/039 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0041 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , H01L21/027 , H01L21/0274
Abstract: 本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を用い、基板上に表面自由エネルギーが30mN/m以上40mN/m以下のレジスト膜を形成する工程、(2)マスクを介した放射線照射により、上記レジスト膜を露光する工程、及び(3)上記露光されたレジスト膜を現像する工程を有するレジストパターン形成方法である。上記工程(2)における露光を、上記レジスト膜上に液浸露光液を配置し、この液浸露光液を介して行うことが好ましい。上記感放射線性樹脂組成物は、[A]フッ素原子含有重合体、及び[C]酸発生体を含有することが好ましい。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2012033138A1
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：JP2012533010
申请日：2011-09-07
CPC classification number: G03F7/0395 , C07C69/716 , C07C69/72 , C07C2603/74 , C08F220/28 , G03F7/0397
Abstract: 本発明は、[A]下記式(I)で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基である。Xは、置換基を有していてもよい2価の脂環式炭化水素基である。Yは、炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。R2は、メチル基又はトリフルオロメチル基である。下記式(I)におけるYは、炭素数2〜4のアルカンジイル基であることが好ましい。[B]感放射線性酸発生体をさらに含有することが好ましい。
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公开(公告)号：JP5540818B2
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：JP2010073073
申请日：2010-03-26
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/34 , H01L21/027
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity, resolution and exposure latitude and a polymer used in the composition or the like.SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition includes [A] a polymer having a structural unit represented by formula (I) and [B] a radiation-sensitive acid generator; wherein Ris H or methyl; Ris a 1C-20C hydrocarbon group, and Ris preferably 1C-4C alkanediyl.
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公开(公告)号：JP5041123B2
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：JP2006184560
申请日：2006-07-04
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G02F1/1337
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9.发明专利
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10.发明专利
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