公开(公告)号：KR102245862B1

公开(公告)日：2021-04-28

申请号：KR1020150041285

申请日：2015-03-25

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 세시모다케히로 ,  마에하시다카야 ,  다자이다카히로 ,  우츠미요시유키

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  C09D167/02 ,  C09D183/00 ,  C09D153/00

摘要： 지지체상에블록코폴리머를포함하는층을형성하는공정과, 상기블록코폴리머를포함하는층 상에탑코트재료를도포하여, 탑코트막을형성하는공정과, 상기탑코트막이형성된블록코폴리머를포함하는층을열 어닐에의해상분리시키는공정을포함하고, 상기탑코트재료가디카르복실산또는디카르복실산의염을갖는구성단위를포함하는고분자화합물과, 유기용제성분 (S) 를함유하고, 상기유기용제성분 (S) 는물과탄소수 3 이상의알코올을함유하는것을특징으로하는상분리구조를포함하는구조체의제조방법.

公开(公告)号：KR101884497B1

公开(公告)日：2018-08-01

申请号：KR1020137033833

申请日：2012-06-15

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 우츠미요시유키 ,  다자이다카히로 ,  이와시타준 ,  곤노겐리

IPC分类号： C07C309/12 ,  C07C303/22 ,  G03F7/004 ,  C08F4/04

CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C25/18 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08F4/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： 식 (I) 로나타내는화합물.[식중, R은탄소수 1 ∼ 10 의탄화수소기, Z 는탄소수 1 ∼ 10 의탄화수소기또는시아노기이며, R과 Z 는서로결합하여고리를형성해도된다. X 는 2 가의연결기로서, -O-C(=O)-, -NH-C(=O)-, 및 -NH-C(=NH)- 중어느하나를 Q 와접하는말단에갖는다. p 는 1 ∼ 3 의정수, Q 는 (p+1) 가의탄화수소기이며, p 가 1 인경우만, Q 는단결합이어도된다. R는단결합, 치환기를가지고있어도되는알킬렌기또는치환기를가지고있어도되는아릴렌기, q 는 0 또는 1, r 은 0 ∼ 8 의정수, A는금속카티온또는유기카티온이다].

公开(公告)号：KR101542259B1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：KR1020100019888

申请日：2010-03-05

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 히라노도모유키 ,  마츠미야다스쿠 ,  시오노다이주 ,  다자이다카히로

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/2041 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： 산의작용에의해알칼리현상액에대한용해성이증대되는기재성분 (A) 를함유하는포지티브형레지스트조성물로서, 기재성분 (A) 는방향족기를갖는구성단위 (a0), 일반식 (a5-1) 로나타내는구성단위 (a5) 및산해리성용해억제기를포함하는구성단위 (a1) 을갖는고분자화합물 (A1) 을함유한다. 식 (a5-1) 중, R은수소원자, 탄소수 1∼5 의알킬기또는탄소수 1∼5 의할로겐화알킬기 ; R는 2 가의연결기 ; R은그 고리골격중에 -SO- 를포함하는고리형기이다.

公开(公告)号：KR1020140067907A

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：KR1020130140380

申请日：2013-11-19

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 다자이다카히로 ,  아라이마사토시 ,  우츠미요시유키

IPC分类号： C08F2/00 ,  C08F20/10 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/004 ,  C08F2/06 ,  C08F220/28 ,  C08F228/06 ,  C08F2220/282 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/18 ,  C08F220/38

摘要： The present invention relates to a method for polymerizing a polymer compound (A1) having a constituting unit (a0) which is induced from a compound represented by Formula (a0-1), wherein the polymer compound is polymerized using a mixed solvent containing 10 wt% or more of one or more solvents selected from the group consisting of a ring-type ketone-based solvent, an ester-based solvent, and a lactone-based solvent. [In Formula (a0-1), Ra1 is a monovalent substituent having a polymerizable group; La1 is an oxygen atom, a sulfur atom, or a methylene group; R1 is a C2-20 straight chain or branched chain hydrocarbon group which may have a substituent, or a ring-type hydrocarbon group which may have a hetero atom; and n is an integer of 0-5.] [Chemical Formula 1].

摘要翻译： 本发明涉及由具有由式（a0-1）表示的化合物诱导的构成单元（a0）的高分子化合物（A1）的聚合方法，其中使用含有10重量％ 选自环酮型酮系溶剂，酯系溶剂和内酯类溶剂中的一种以上的溶剂的％以上。 [式（a0-1）中，Ra1是具有聚合性基团的一价取代基， La1是氧原子，硫原子或亚甲基; R1是可具有取代基的C2-20直链或支链烃基或可具有杂原子的环型烃基; 且n为0-5的整数。] [化学式1]。

公开(公告)号：KR101057606B1

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：KR1020090007960

申请日：2009-02-02

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 시오노다이주 ,  다자이다카히로 ,  후루야사나에 ,  히라노도모유키 ,  모리다카요시

IPC分类号： G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/653 ,  C07C69/67 ,  C07C69/712 ,  C07C69/757 ,  C07C2603/00 ,  C07C2603/84 ,  C07C2603/86 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1833 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/06

摘要： 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 변화되는 기재 성분 (A) 와, 노광에 의해 산을 발생시키는 산발생제 성분 (B) 와, 알칼리 현상액에 대하여 분해성을 나타내는 일반식 (c-1) [식 중, R
1 은 유기기이고, 중합성기를 함유하고 있어도 된다. 단, 당해 중합성기는, 탄소 원자간의 다중 결합을 갖는 것으로서, 그 탄소 원자 모두가, 식 (c-1) 에 있어서의 -C(=O)- 의 탄소 원자에 직접 결합되지 않는 기이다. R
2 는 불소 원자를 갖는 유기기이다] 로 나타내는 불소 함유 화합물 (C) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 액침 노광용 레지스트 조성물.
[화학식 1]

摘要翻译： 和碱成分可溶于通过酸（A），产酸剂，其通过在碱显影液，表示降解暴露组分（B），式（C-1）产生酸的作用的碱性显影液的变化 其中R

公开(公告)号：KR1020110003262A

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：KR1020100060638

申请日：2010-06-25

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 마츠미야다스쿠 ,  시오노다이주 ,  히라노도모유키 ,  다자이다카히로

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  C08F214/18

CPC分类号： C09D133/16 ,  C08F220/24 ,  C08F2438/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/0392 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0271 ,  C08L33/08 ,  C08L33/16 ,  C08L53/02 ,  C08F220/18

摘要： PURPOSE: A positive type resist composition is provided to prevent defects in development and to suppress the elution of materials in immersion exposure. CONSTITUTION: A positive type resist composition includes: a fluorine-containing polymeric compound containing a component with dissolution property in an alkali developer as a block copolymerization part; a substrate component with increased solubility to the alkali developer by the action of acids; and an acid generator for generating acids by exposure.

摘要翻译： 目的：提供正型抗蚀剂组合物以防止显影中的缺陷并抑制浸没曝光中材料的洗脱。 构成：正型抗蚀剂组合物包括：含有作为嵌段共聚部分的在碱性显影剂中具有溶解性的组分的含氟聚合物; 通过酸的作用增加了对碱性显影剂的溶解度的底物组分; 以及通过曝光产生酸的酸发生剂。

公开(公告)号：KR100987614B1

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：KR1020080076279

申请日：2008-08-05

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 시오노다이주 ,  다자이다카히로 ,  시미즈히로아키

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

摘要： 하기 일반식 (Ⅰ) 로 나타내는 화합물 ; 및 하기 일반식 (a0-1) 로 나타내는 구성 단위 (a0) 을 갖는 고분자 화합물.
[화학식 1]

[식 중, R
1 은 수소 원자, 저급 알킬기 또는 할로겐화 저급 알킬기이고, A 는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2 이상의 2 가의 탄화수소기이고, B 는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 이상의 2 가의 탄화수소기이고, R
2 는 산해리성 용해 억제기이다]

公开(公告)号：KR1020100083720A

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：KR1020100002192

申请日：2010-01-11

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 다자이다카히로 ,  시오노다이주 ,  히라노도모유키 ,  마츠미야다스쿠 ,  다카키다이치 ,  모리다카요시 ,  츠치야준이치

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： C07D493/18 ,  C07D327/04 ,  C08F20/38 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  G03F7/0045

摘要： 산의작용에의해알칼리현상액에대한용해성이변화되는기재성분 (A) 와산발생제성분 (B) 를함유하고, 기재성분 (A) 가일반식 (a0-1) [식중, R은수소원자, 알킬기또는할로겐화알킬기 ; R는 -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -S-, -S(=O)-, -S(=O)-O-, -NH-, -NR- (R는알킬기또는아실기), -NH-C(=O)- 및 =N- 로이루어지는군에서선택되는적어도 1 종의극성기를함유하는 2 가의연결기 ; R은그 고리골격중에술포닐기를함유하는고리형기] 로나타내는구성단위 (a0) 을갖는고분자화합물 (A0) 을함유하는레지스트조성물. [화학식 1]

摘要翻译： 目的：提供抗蚀剂组合物，形成抗蚀剂图案的方法和用作抗蚀剂组合物的基材的新型聚合物，以获得优异的分辨率并用于光刻目的。 构成：抗蚀剂组合物含有包含具有标记为化学式1的结构单元的聚合物和通过曝光产生酸的光致酸产生剂组分的基材。 该基材对碱性显影剂有溶解性，碱性显影剂根据酸的作用而发生变化。 在化学式1中，R 1是氢，碳数为1-5的烷基或碳数为1-5的卤代烷基。

公开(公告)号：KR1020090091022A

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：KR1020090013006

申请日：2009-02-17

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 시미즈히로아키 ,  나카무라츠요시 ,  다자이다카히로 ,  시오노다이쥬 ,  히라노도모유키

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126

摘要： A positive resist composition is provided to easily form the resist pattern in alkali development because solubility to alkali developer of exposing part is improved but the solubility to the alkali developer of non-exposing part is not changed. A positive resist composition comprises: a base material component of which solubility to alkali developer is improved by acid reaction; and an acid-generator component which generates acid by exposure. The base material comprises polymer compound having constitution unit (a0) of the chemical formula (a0-1).

摘要翻译： 提供正性抗蚀剂组合物以便在碱显影中容易地形成抗蚀剂图案，因为对曝光部分的碱显影剂的溶解度得到改善，但是对非曝光部分的碱显影剂的溶解度没有改变。 正型抗蚀剂组合物包括：通过酸反应改善其对碱性显影剂的溶解度的基材成分; 以及通过曝光产生酸的酸发生剂组分。 基材包含具有化学式（a0-1）的构成单元（a0）的高分子化合物。

公开(公告)号：KR102231829B1

公开(公告)日：2021-03-24

申请号：KR1020140096239

申请日：2014-07-29

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 마츠미야다스쿠 ,  세시모다케히로 ,  미야기겐 ,  마에하시다카야 ,  다자이다카히로 ,  우츠미요시유키

IPC分类号： H01L21/027

摘要： 지지체상에중성화막으로이루어지는층을형성하는공정, 중성화막으로이루어지는층 상에, PA 블록과, 다른구성단위로이루어지는 PB 블록이결합한블록코폴리머를함유하는층을형성하는공정, 당해블록코폴리머를함유하는층을어닐하는공정을갖는상 분리구조를함유하는구조체의제조방법으로서, PA 블록, PB 블록, 및중성화막의각각의표면자유에너지를 (분산성분 (d)0.5, 극성성분 (p)0.5) 의좌표평면상에, PA 블록의점 A ((dPA)0.5, (pPA)0.5), PB 블록의점 B ((dPB)0.5, (pPB)0.5), 중성화막의점 N ((dPN)0.5, (pPN)0.5) 로나타냈을때, 중성화막의점 N 은, 소정의범위내에있는것을특징으로하는상 분리구조를함유하는구조체의제조방법.