公开(公告)号：US20050179884A1

公开(公告)日：2005-08-18

申请号：US10779823

申请日：2004-02-18

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Joost Sytsma

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Joost Sytsma

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： Provided is a radiation distribution system for distributing the radiation from an illumination system to two or more patterning means, each for patterning beams of radiation, which are subsequently projected onto a substrate.

摘要翻译： 提供了一种用于将照明系统的辐射分配到两个或更多个图案形成装置的辐射分布系统，每个图案装置用于构图辐射束，随后将其投影到衬底上。

公开(公告)号：US20070206172A1

公开(公告)日：2007-09-06

申请号：US11717174

申请日：2007-03-13

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Joost Sytsma

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Joost Sytsma

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： Provided is a radiation distribution system for distributing the radiation from an illumination system to two or more patterning means, each for patterning beams of radiation, which are subsequently projected onto a substrate.

公开(公告)号：US20050012916A1

公开(公告)日：2005-01-20

申请号：US10850567

申请日：2004-05-21

申请人： Karel Van Der Mast ,  Arno Bleeker ,  Cheng-Qun Gui ,  Johan Hoefnagels

发明人： Karel Van Der Mast ,  Arno Bleeker ,  Cheng-Qun Gui ,  Johan Hoefnagels

IPC分类号： G02B3/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic projection apparatus comprises a microlens array for generating a plurality of source images in a two-dimensional array, a programmable patterning means having a plurality of addressable elements acting as shutters for the source images and a projection subsystem for projecting a n image of the array of source images onto a substrate. A greater working distance can thereby be obtained

摘要翻译： 光刻投影装置包括用于以二维阵列产生多个源图像的微透镜阵列，具有用作源图像的快门的多个可寻址元件的可编程图案形成装置和用于投影阵列的图像的投影子系统 的源图像到基板上。 从而可以获得更大的工作距离

公开(公告)号：US20070046919A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11593041

申请日：2006-11-06

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter Willem De Jager

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter Willem De Jager

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70308

摘要： Provided is a method and system for facilitating use of a plurality of individually controllable elements to modulate the intensity of radiation received at each focusing element of an array of focusing elements to control the intensity of the radiation in the areas on the substrate onto which the focusing elements direct the radiation.

摘要翻译： 提供了一种用于促进使用多个可单独控制的元件来调制在聚焦元件阵列的每个聚焦元件处接收的辐射强度的方法和系统，以控制在其上聚焦的基底上的区域中的辐射强度 元素引导辐射。

公开(公告)号：US20050179882A1

公开(公告)日：2005-08-18

申请号：US10779811

申请日：2004-02-18

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter Herman De Jager

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Arno Bleeker ,  Pieter Herman De Jager

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70308

摘要： Provided is a method and system for facilitating use of a plurality of individually controllable elements to modulate the intensity of radiation received at each focusing element of an array of focusing elements to control the intensity of the radiation in the areas on the substrate onto which the focusing elements direct the radiation.

摘要翻译： 提供了一种用于促进使用多个可单独控制的元件来调制在聚焦元件阵列的每个聚焦元件处接收的辐射强度的方法和系统，以控制在其上聚焦的基底上的区域中的辐射强度 元素引导辐射。

公开(公告)号：US20060038969A1

公开(公告)日：2006-02-23

申请号：US10919530

申请日：2004-08-17

申请人： Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Kars Troost

发明人： Johannes Baselmans ,  Arno Bleeker ,  Pieter De Jager ,  Kars Troost

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70383 ,  G03F7/70291

摘要： An array of individually controllable elements, comprising a plurality of control areas consisting of a plurality of rows of reflectors. Alternate rows of reflectors are actuated in a common manner such that the control areas function as a grating to provide a control element that can be used as a diffractive optical element.

摘要翻译： 一组可独立控制的元件，包括由多排反射器组成的多个控制区域。 交替的反射体行以常见的方式启动，使得控制区域用作光栅，以提供可用作衍射光学元件的控制元件。

公开(公告)号：US20070273853A1

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：US11655999

申请日：2007-01-22

申请人： Arno Bleeker ,  Donis Flagello ,  Robert Socha ,  James Greeneich ,  Kars Troost

发明人： Arno Bleeker ,  Donis Flagello ,  Robert Socha ,  James Greeneich ,  Kars Troost

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/705

摘要： A method of transferring an image of a pattern layout onto a surface of a substrate including selecting a first illumination profile for a first area of the pattern layout and a second illumination profile for a second area of the pattern layout; switching illumination profile during transfer of the image of the pattern layout such that the first area of the pattern layout is illuminated with the first illumination profile and the second area is illuminated with the second illumination profile; and projecting an image of the illuminated first and second areas onto the surface of the substrate.

摘要翻译： 将图案布局的图像转印到基板的表面上的方法，包括为图案布局的第一区域选择第一照明轮廓，以及为图案布局的第二区域选择第二照明轮廓; 在图案布局的图像传送期间切换照明轮廓，使得图案布局的第一区域被第一照明轮廓照亮，并且第二区域被第二照明轮廓照亮; 以及将照射的第一和第二区域的图像投影到基板的表面上。

公开(公告)号：US07274502B2

公开(公告)日：2007-09-25

申请号：US11018483

申请日：2004-12-22

申请人： Nabila Baba-Ali ,  Arno Bleeker

发明人： Nabila Baba-Ali ,  Arno Bleeker

IPC分类号： G02B26/00

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G02B26/0833

摘要： A tilting mirror design for maskless lithography is proposed. In this mirror, the tilting portion occupies about 60% of the entire element area. The surrounding space is made 100% reflective and out-of-phase with respect to the tilting portion. The ratio between the tilting portion of the mirror and the out-of-phase portion is optimized in order to result in equal positive and negative maximum amplitudes over a complete range of tilt angles.

摘要翻译： 提出了一种用于无掩模光刻的倾斜镜设计。 在该反射镜中，倾斜部分占整个元件面积的大约60％。 周围空间相对于倾斜部分被制成100％反射和异相。 反射镜的倾斜部分和异相部分之间的比率被优化，以便在整个倾斜角范围内产生相等的正和负最大幅度。

公开(公告)号：US20070139633A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11311640

申请日：2005-12-20

申请人： Arno Bleeker ,  Kars Troost

发明人： Arno Bleeker ,  Kars Troost

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/7045 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/70466

摘要： A lithographic system combining an interference exposure unit and a lithography unit. The lithography unit can comprise an array of individually controllable elements. The lithography system can be arranged such that a pitch of the lines exposed by the interference exposure unit is an integer multiple of a size of an exposure area of the lithography unit corresponding to a single individually controllable element.

摘要翻译： 组合干涉曝光单元和光刻单元的光刻系统。 光刻单元可以包括单独可控元件的阵列。 光刻系统可以布置成使得由干涉曝光单元曝光的线的间距是与单个可单独控制的元件对应的光刻单元的曝光区域的尺寸的整数倍。

公开(公告)号：US20070058145A1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：US11595968

申请日：2006-11-13

申请人： Arno Bleeker

发明人： Arno Bleeker

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291

摘要： Pixel element for a programmable patterning structure (e.g. a spatial light modulator) which can simultaneously modulate both phase and amplitude. Use of such a programmable patterning structure with lithographic projection apparatus is also described.

摘要翻译： 用于可同时调制相位和幅度的可编程图案结构（例如空间光调制器）的像素元件。 还描述了使用这种可编程图案结构与光刻投影装置。