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1.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film and pattern forming method using the composition 有权光敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜和图案形成方法使用该组合物公开(公告)号：US08895222B2
公开(公告)日：2014-11-25
申请号：US12729336
申请日：2010-03-23
CPC分类号： C08F224/00 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F12/30 , C08F12/32 , C08F212/14 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0392 , G03F7/2037 , Y10S430/122 , C08F220/16 , C08F212/32 , C08F2220/1883 , C08F2220/1825
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.
摘要翻译： 本发明提供一种光活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）树脂，该树脂含有（A）具有离子结构部分的重复单元，该离子结构部分能够在照射光化学射线或辐射时在侧链上产生酸性阴离子 ，其中所述离子结构部分的阳离子部分具有酸可分解基团或碱可分解基团。
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2.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀膜和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US20140127627A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：US13669530
申请日：2012-11-06
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.
摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。
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3.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和耐蚀膜和使用组合物的图案形成方法公开(公告)号：US20100248149A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：US12729336
申请日：2010-03-23
IPC分类号： G03F7/20 , C08F12/24 , C08F214/16 , C08F224/00
CPC分类号： C08F224/00 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F12/30 , C08F12/32 , C08F212/14 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0392 , G03F7/2037 , Y10S430/122 , C08F220/16 , C08F212/32 , C08F2220/1883 , C08F2220/1825
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.
摘要翻译： 本发明提供一种光活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）树脂，该树脂含有（A）具有离子结构部分的重复单元，该离子结构部分能够在照射光化学射线或辐射时在侧链上产生酸性阴离子 ，其中所述离子结构部分的阳离子部分具有酸可分解基团或碱可分解基团。
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4.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern-forming method using the same 有权光化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US09223204B2
公开(公告)日：2015-12-29
申请号：US13669530
申请日：2012-11-06
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.
摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。
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5.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern-forming method using the same 有权光化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US08329379B2
公开(公告)日：2012-12-11
申请号：US12748728
申请日：2010-03-29
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0045 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.
摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。
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6.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用组合物和图案形成方法的耐腐蚀膜公开(公告)号：US20120301817A1
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：US13575833
申请日：2011-01-27
IPC分类号： C08F261/02 , G03F1/50 , G03F7/20
CPC分类号： C08F8/00 , C08F8/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F112/14
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.
摘要翻译： 一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）具有由下式（1）表示的重复单元的树脂，使用该组合物的抗蚀剂膜和图案形成方法。
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7.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method 有权光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，抗蚀剂膜采用组合物和图案形成方法公开(公告)号：US08735048B2
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：US13575833
申请日：2011-01-27
CPC分类号： C08F8/00 , C08F8/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F112/14
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.
摘要翻译： 一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）具有由下式（1）表示的重复单元的树脂，使用该组合物的抗蚀剂膜和图案形成方法。
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8.发明授权Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming a pattern using the same 有权光化学射线或辐射敏感性树脂组合物及其形成方法公开(公告)号：US08642245B2
公开(公告)日：2014-02-04
申请号：US13421684
申请日：2012-03-15
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/30 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/12
摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin that is decomposed when acted on by an acid to thereby increase its solubility in an alkali developer, a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and any of basic compounds of general formula (1) below.
摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当被酸作用时分解的树脂，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，当暴露于光化射线时产生酸的化合物或 辐射和下述通式（1）的任何碱性化合物。
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9.发明授权Composition, resist film, pattern forming method, and inkjet recording method 有权组合物，抗蚀剂膜，图案形成方法和喷墨记录方法公开(公告)号：US08808961B2
公开(公告)日：2014-08-19
申请号：US12914762
申请日：2010-10-28
IPC分类号： G03F7/00 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C233/00 , B41J2/01 , C07D317/14 , G03F7/038 , C07D405/12 , C07D317/72 , G03F7/039 , G03F7/004 , C07D317/58 , C07D319/06 , G03F7/20
CPC分类号： C07D317/14 , C07C311/48 , C07D317/58 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D405/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： An embodiment of the composition contains any of compounds of the formula A-LG in which A represents any of residues of general formula (A-1) below and LG represents any of groups that are cleaved to generate acids of the formula A-H when acted on by an acid. The composition further contains at least one of a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation and a compound that generates an acid when heated.
摘要翻译： 组合物的一个实施方案包含式A-LG的任何化合物，其中A表示下述通式（A-1）中的任何残基，LG表示当作用时被切割以产生式AH的酸的任何基团 通过酸。 组合物还含有当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物和加热时产生酸的化合物中的至少一种。
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10.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, FILM FORMED USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用组合物形成的膜和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US20120244472A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：US13512633
申请日：2010-11-30
申请人： Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito , Toru Fujimori , Kana Fujii
发明人： Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito , Toru Fujimori , Kana Fujii
CPC分类号： G03F7/0045 , C09B69/101 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/091
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a specific compound represented by a general formula, (B) a resin which is alkali-insoluble or sparingly alkali-soluble and becomes easily alkali-soluble in the presence of an acid, and (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; a film formed using the composition; and a pattern forming method using the same.
摘要翻译： 本发明提供一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）由通式表示的特定化合物，（B）在碱存在下碱不溶性或微溶碱性并易于碱溶解的树脂 的酸，和（C）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 使用该组合物形成的膜; 以及使用该图案形成方法的图案形成方法。
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