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    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    4.
    发明申请
    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
    化学敏感性或辐射敏感性组合物和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20120100481A1

    公开(公告)日：2012-04-26

    申请号：US13381683

    申请日：2010-07-28

    申请人： Takayuki Ito ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Takeshi Kawabata

    发明人： Takayuki Ito ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Takeshi Kawabata

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

    摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, including: (1) a low molecular compound having a molecular weight of 500 to 5,000 and containing (G) an acid-decomposable group; and (2) a compound capable of generating an acid of 305 Å3 or more in volume upon irradiation with an actinic ray or radiation, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, including: a solvent; and (1A) a compound which is a low molecular compound having a molecular weight of 500 to 5,000 and containing (Z) one or more groups capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to produce an acid, (G) one or more acid-decomposable groups and (S) one or more dissolution auxiliary groups, wherein assuming that the number of the functional groups in one molecule of (Z), (G) and (S) is z, q and s, respectively, q/z≧2 and s/z≧2, and a pattern forming method using the composition are provided.

    摘要翻译： 一种光化射线敏感或辐射敏感性组合物，包括：（1）分子量为500〜5000的低分子化合物，含有（G）酸分解基团; 和（2）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生体积为305或更大的酸的化合物，光化射线敏感或辐射敏感组合物，包括：溶剂; 和（1A）分子量为500〜5000的低分子化合物的化合物，含有（Z）一种或多种能够在用光化学射线或辐射照射时分解产生酸的基团，（G）一种或多种 更多的酸可分解基团和（S）一种或多种溶解辅助基团，其中假定（Z），（G）和（S）的一个分子中的官能团数分别为z，q和s，q /z≥2且s /z≥2，并且提供使用该组合物的图案形成方法。

    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
    6.
    发明申请
    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 有权
    丙酰胺或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US20110076615A1

    公开(公告)日：2011-03-31

    申请号：US12895300

    申请日：2010-09-30

    申请人： Takeshi KAWABATA ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Takayuki Ito

    发明人： Takeshi KAWABATA ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Takayuki Ito

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/028 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of acids of general formula (I) below, in which W1 represents an optionally substituted alkylene group, W2 represents a bivalent connecting group, W3 represents an optionally substituted organic group having 15 or more carbon atoms, and Z represents a hydroxyl group or a fluoroalkylsulfonamido group having at least one fluorine atom introduced therein as a substituent.

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当暴露于光化射线或辐射时产生下列通式（I）的任何酸的化合物，其中W 1表示任选取代的亚烷基， W2表示二价连接基团，W3表示具有15个或更多个碳原子的任选取代的有机基团，Z表示其中引入有至少一个氟原子的羟基或氟烷基亚磺酰氨基作为取代基。