公开(公告)号：US07656506B2

公开(公告)日：2010-02-02

申请号：US11320494

申请日：2005-12-29

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.

摘要翻译： 一种用于相对于光刻设备的衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器包括至少一个支撑表面或平台，其适于同时承载多个独立衬底。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。

公开(公告)号：US07576835B2

公开(公告)日：2009-08-18

申请号：US11175037

申请日：2005-07-06

申请人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： Embodiments of the invention relates to a substrate handler for handling a substrate, including a conditioning device for conditioning the substrate. In an embodiment, the substrate handler includes a displacing device configured to displace the substrate in a direction substantially parallel to the support surface, wherein the displacing device is configured to displace the substrate during the conditioning process from one conditioning position to one or more other conditioning positions. According to another embodiment of the invention, the substrate handler includes a float device for providing an air bed above a support surface of the substrate handler, the substrate handler being configured to support the substrate on an air bed during conditioning of the substrate.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及一种用于处理基板的基板处理器，包括用于调节基板的调节装置。 在一个实施例中，衬底处理器包括移位装置，其配置成在基本上平行于支撑表面的方向上移动衬底，其中，移位装置构造成在调节过程期间将衬底从一个调节位置移位到一个或多个其他调节 职位 根据本发明的另一实施例，衬底处理器包括用于在衬底处理器的支撑表面上方提供空气床的浮动装置，衬底处理器被配置为在衬底调节期间将衬底支撑在空气床上。

公开(公告)号：US07522258B2

公开(公告)日：2009-04-21

申请号：US11169305

申请日：2005-06-29

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Marco Koert Stavenga ,  Thijs Harink

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Marco Koert Stavenga ,  Thijs Harink

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70791

摘要： A lithographic apparatus comprises a substrate table that supports a substrate and a substrate handler that moves the substrate relative to the substrate table. The substrate handler is adapted to load substrates on to and unload substrates from the substrate table before and after exposure. Also, a clean gas supply system supplies a clean gas to at least one location at which the substrate is located. The clean gas supply system is moveably mounted. A device manufacturing method utilizing the lithographic apparatus can be used to manufacture at least one of a flat panel display and an integrated circuit device.

摘要翻译： 光刻设备包括支撑衬底的衬底台和相对于衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。 此外，清洁气体供应系统将清洁气体提供到至少一个位置，在该位置处衬底被定位。 清洁气体供应系统可移动安装。 利用光刻设备的器件制造方法可用于制造平板显示器和集成电路器件中的至少一个。

公开(公告)号：US07375795B2

公开(公告)日：2008-05-20

申请号：US11018930

申请日：2004-12-22

申请人： Joeri Lof ,  Jeroen Fluit ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Peter Spit

发明人： Joeri Lof ,  Jeroen Fluit ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Peter Spit

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70791 ,  G03F7/70291

摘要： Substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate. The processing apparatus also includes a substrate supply arranged to output at least one unbroken length of substrate, and a substrate conveying system arranged to convey each outputted unbroken length of substrate from the substrate supply and past the projection system such that the projection system is able to project the patterned beam onto a series of target portions along each unbroken length of substrate. In certain embodiments, long lengths of substrate are supplied from a roll, but alternatively a series of separate sheets can be supplied.

摘要翻译： 基板处理装置包括光刻设备，该光刻设备包括用于提供投射辐射束的照明系统，用于使投影光束在其横截面上具有图案的独立可控元件的阵列，以及投影系统， 到基板的目标部分上。 处理装置还包括布置成输出至少一个不间断长度的基板的基板供给源，以及基板输送系统，其布置成将基板的每个输出的不间断长度从基板供给输送并经过投影系统，使得投影系统能够 沿着每个不间断长度的衬底将图案化的光束投影到一系列目标部分上。 在某些实施例中，长的基底是从卷筒供应的，但也可以提供一系列单独的片材。

公开(公告)号：US07256867B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US11018928

申请日：2004-12-22

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70733

摘要： A lithographic method and apparatus comprises an illumination system that supplies a beam of radiation, a patterning device that patterns the beam, and a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of a substrate. A metrology system is provided adjacent the projection system for aligning the substrate with the projection system. Two or more movable chucks are each arranged to support a substrate and move between a loading device and the projection system. The chucks are independently movable so that one substrate can be passed through the metrology system and patterned beam while the other substrates are moved between the loading system and projection system.

摘要翻译： 光刻方法和装置包括提供辐射束的照明系统，对光束进行图案化的图案形成装置，以及将图案化光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 在投影系统附近提供了一种计量系统，用于将基板与投影系统对准。 两个或更多个可移动卡盘分别布置成支撑基板并在加载装置和投影系统之间移动。 卡盘可独立移动，使得一个基板可以通过计量系统和图案化梁，同时其它基板在装载系统和投影系统之间移动。

公开(公告)号：US20140340663A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：US14345118

申请日：2012-08-21

申请人： Luigi Scaccabarozzi ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Roelof Koole ,  Hendrikus Jan Wondergem ,  Petrus Carolus Johannes Graat

发明人： Luigi Scaccabarozzi ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Roelof Koole ,  Hendrikus Jan Wondergem ,  Petrus Carolus Johannes Graat

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70783 ,  G01B11/16 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic patterning device deformation monitoring apparatus (38) comprising a radiation source (40), an imaging device (42), and a processor (50). The radiation source being configured to direct a plurality of beams of radiation (41) with a predetermined diameter towards a lithographic patterning device (MA) such that they are reflected by the patterning device. The imaging detector configured to detect spatial positions of the radiation beams (41′) after they have been reflected by the patterning device. The processor configured to monitor the spatial positions of the radiation beams and thereby determine the presence of a patterning device deformation. The imaging detector has an collection angle which is smaller than a minimum angle of diffraction of the radiation beams.

摘要翻译： 一种包括辐射源（40），成像装置（42）和处理器（50）的平版印刷图案形成装置变形监测装置（38）。 辐射源被配置为将多个具有预定直径的辐射光束引向平版印刷图案形成装置（MA），使得它们被图案形成装置反射。 该成像检测器被配置为在被图案形成装置反射之后检测辐射束（41'）的空间位置。 处理器被配置为监视辐射束的空间位置，从而确定图案形成装置变形的存在。 成像检测器的收集角度小于辐射束的最小衍射角。

公开(公告)号：US08264670B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US11343219

申请日：2006-01-31

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Fransicus Mathijs Jacobs

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Fransicus Mathijs Jacobs

IPC分类号： G03B27/62

CPC分类号： G03F7/707

摘要： The invention provides a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a transmissive patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, wherein the patterning device support is configured to hold a patterning device and wherein the lithographic apparatus includes a clamping device, the clamping device being configured to clamp the patterning device at the top side.

摘要翻译： 本发明提供一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑透射式图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面上赋予辐射束图案以形成 图案化的辐射束，构造成保持衬底的衬底台，以及被配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中，图案形成装置支撑件构造成保持图案形成装置，并且其中光刻装置包括 夹持装置，夹持装置构造成将图案形成装置夹在顶侧。

公开(公告)号：US07804584B2

公开(公告)日：2010-09-28

申请号：US12262647

申请日：2008-10-31

申请人： Petrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Franciscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marc Johannes Martinus Engels

发明人： Petrus Rutgerus Bartray ,  Wilhelmus Josephus Box ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Engelbertus Antonius Franciscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marc Johannes Martinus Engels

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70775

摘要： Methods of manufacturing an integrated circuit by a lithographic apparatus are disclosed. The methods include patterning a radiation beam with a patterning device, projecting the patterned beam onto a substrate using a projection system, and determining the position of the patterning device. In one example, the patterning device's position relative to the projection system is determined by measuring the position of the patterning device's support structure. In another example, the position can be determined by measuring a position of the patterning device relative to its support and by measuring a position of the support. In another example, a Z-position of the patterning device is determined by directing at least one beam of radiation onto a part of the patterning device located outside a pattern area. This can be done by directing a pair of laser beams from sensors on the projection system to reflecting strips on the patterning device.

摘要翻译： 公开了通过光刻设备制造集成电路的方法。 所述方法包括用图案形成装置图案化辐射束，使用投影系统将图案化的光束投射到衬底上，并且确定图案形成装置的位置。 在一个示例中，图案形成装置相对于投影系统的位置通过测量图案形成装置的支撑结构的位置来确定。 在另一示例中，位置可以通过测量图案形成装置相对于其支撑件的位置并通过测量支撑件的位置来确定。 在另一示例中，通过将至少一束辐射引导到位于图案区域外的图案形成装置的一部分来确定图案形成装置的Z位置。 这可以通过将一对激光束从投影系统上的传感器引导到图案形成装置上的反射条来实现。

公开(公告)号：US07538857B2

公开(公告)日：2009-05-26

申请号：US11157201

申请日：2005-06-21

申请人： Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis

发明人： Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.

摘要翻译： 一种用于相对于光刻设备的衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器包括至少一个支撑表面或平台，其适于同时承载多个独立衬底。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。

公开(公告)号：US07483120B2

公开(公告)日：2009-01-27

申请号：US11430196

申请日：2006-05-09

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： A displacement measurement system, in particular for measuring the displacement of a substrate table in a lithographic apparatus relative to a reference frame is presented. The displacement measure system includes a plurality of displacement sensors mounted to the substrate table and a target associated with each displacement sensor mounted to the reference frame.

摘要翻译： 提出了一种位移测量系统，特别是用于测量光刻设备中的衬底台相对于参考系的位移。 位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器和与安装到参考框架的每个位移传感器相关联的目标。