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    POSITIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
    11.
    发明申请
    POSITIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD 有权
    积极型辐射敏感性组合物和抗性图案形成方法

    公开(公告)号：US20110104612A1

    公开(公告)日：2011-05-05

    申请号：US13005536

    申请日：2011-01-13

    申请人： Yusuke ANNO ,  Kouichi Fujiwara ,  Makoto Sugiura ,  Gouji Wakamatsu

    发明人： Yusuke ANNO ,  Kouichi Fujiwara ,  Makoto Sugiura ,  Gouji Wakamatsu

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： H01L21/0273 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  C08F220/34 ,  C08F220/36 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  C08F220/22

    摘要： A positive-tone radiation-sensitive composition is used in a resist pattern-forming method as a first positive-tone radiation-sensitive composition. A positive-tone radiation-sensitive composition includes a polymer, a photoacid generator, and a solvent. The polymer includes an acid-labile group and a crosslinkable group. The resist pattern-forming method includes providing the first positive-tone radiation-sensitive composition on a substrate to form a first resist pattern on the substrate. The first resist pattern is made to be inactive to light or heat so that the first resist pattern is insoluble in a second positive-tone radiation-sensitive composition. The second positive-tone radiation-sensitive composition is provided on the substrate to form a second resist pattern on the substrate on which the first resist pattern is formed.

    摘要翻译： 作为第一正色调辐射敏感性组合物的抗蚀剂图案形成方法中使用正性辐射敏感性组合物。 正音辐射敏感组合物包括聚合物，光致酸产生剂和溶剂。 聚合物包括酸不稳定基团和可交联基团。 抗蚀剂图案形成方法包括在基板上提供第一正色散辐射敏感性组合物以在基板上形成第一抗蚀剂图案。 使第一抗蚀剂图案对光或热不起作用，使得第一抗蚀剂图案不溶于第二正色辐射敏感组合物。 第二正色辐射敏感组合物设置在基板上以在其上形成有第一抗蚀剂图案的基板上形成第二抗蚀剂图案。

    RESIN COMPOSITION FOR MAKING RESIST PATTERN INSOLUBLE, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME
    14.
    发明申请
    RESIN COMPOSITION FOR MAKING RESIST PATTERN INSOLUBLE, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME 有权
    用于制造耐腐蚀图案的树脂组合物，以及使用它们形成耐力图案的方法

    公开(公告)号：US20110111349A1

    公开(公告)日：2011-05-12

    申请号：US13004898

    申请日：2011-01-12

    申请人： Gouji WAKAMATSU ,  Masafumi Hori ,  Kouichi Fujiwara ,  Makoto Sugiura

    发明人： Gouji WAKAMATSU ,  Masafumi Hori ,  Kouichi Fujiwara ,  Makoto Sugiura

    IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L37/00

    CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2024 ,  H01L21/0273

    摘要： A resist pattern-insolubilizing resin composition is used in a resist pattern-forming method. The resist pattern-insolubilizing resin composition includes solvent and a resin. The resin includes a first repeating unit that includes a hydroxyl group in its side chain and at least one of a second repeating unit derived from a monomer shown by a following formula (1-1) and a third repeating unit derived from a monomer shown by a following formula (1-2), wherein for example, R1 represents a hydrogen atom, A represents a methylene group, R2 represents a group shown by a following formula (2-1) or a group shown by a following formula (2-2), R3 represents a methylene group, R4 represents a hydrogen atom, and n is 0 or 1, wherein each of R34 represents at least one of a hydrogen atom and a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

    摘要翻译： 抗蚀剂图案不溶化树脂组合物用于抗蚀剂图案形成方法。 抗蚀剂图案不溶化树脂组合物包括溶剂和树脂。 树脂包括在其侧链中包含羟基的第一重复单元和由下式（1-1）所示的单体衍生的第二重复单元和由下式表示的单体衍生的第三重复单元中的至少一种： 下述式（1-2）表示的基团，其中，例如，R1表示氢原子，A表示亚甲基，R2表示下述式（2-1）所示的基团或下述式（2- 2）中，R3表示亚甲基，R4表示氢原子，n表示0或1，R34表示氢原子和碳原子数1〜10的直链或支链烷基中的至少一种。

    ILLUMINANT DEVICE
    16.
    发明申请
    ILLUMINANT DEVICE 有权
    照明装置

    公开(公告)号：US20100172154A1

    公开(公告)日：2010-07-08

    申请号：US12664152

    申请日：2008-05-29

    申请人： Hideto Takeuchi ,  Kouichi Fujiwara ,  Akira Toyama

    发明人： Hideto Takeuchi ,  Kouichi Fujiwara ,  Akira Toyama

    IPC分类号： F21V7/04

    CPC分类号： G02F1/133608 ,  G02F1/133308 ,  G02F2001/133311 ,  G02F2001/133314 ,  G02F2001/133328 ,  G02F2201/503

    摘要： In a chassis which has a lid plate closing an opening portion of a frame part and in which a plurality of lamps are juxtaposed, the lid plate includes a plurality of plate bodies juxtaposed with their end parts superposed on each other and a connecting unit connects the superposed end parts of the plate bodies and the superposed end parts of the plate bodies, respectively.

    摘要翻译： 在具有闭合框架部分的开口部分并且多个灯并置的盖板的底盘中，盖板包括与它们的彼此重叠的端部并置的多个板体，并且连接单元将 板体的叠置端部和板体的叠置端部分别。