公开(公告)号：US20130220800A1

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：US13695839

申请日：2011-04-13

申请人： Markus Lechthaler

发明人： Markus Lechthaler

IPC分类号： C23C14/32

CPC分类号： C23C14/325 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3426

摘要： The present invention relates to an arc deposition source, comprising an electrically conductive ceramic target plate (1), on the back of which a cooling plate (10) is provided, wherein a shield (3) is provided in the central area on the surface to be coated so that the cathode spot of the arc does not reach the central area (6) of the surface during operation of the deposition source.

摘要翻译： 电弧沉积源技术领域本发明涉及一种电弧沉积源，其包括导电陶瓷靶板（1），其背面设有冷却板（10），其中屏蔽层（3）设置在表面的中心区域 以使得在沉积源的操作期间电弧的阴极点不到达表面的中心区域（6）。

公开(公告)号：US08491989B2

公开(公告)日：2013-07-23

申请号：US13002687

申请日：2009-07-03

申请人： Markus Lechthaler

发明人： Markus Lechthaler

IPC分类号： B32B9/00

CPC分类号： C23C14/0036 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0647 ,  C23C14/0658 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/067 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/0688 ,  C23C28/042 ,  C23C28/044 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

摘要： The coating system comprises: at least one layer of type A, a layer of type A substantially consisting of (AlyCr1-y)X, wherein X depicts one of the group consisting of N, CN, BN, NO, CNO, CBN, BNO and CNBO, y describing the stoichiometric composition of the metallic phase fraction; and at least one layer of type B, a layer of type B substantially consisting of (AluCr1-u-v-wSivMew)X, wherein X depicts one of the group consisting of N, CN, BN, NO, CNO, CBN, BNO or CNBO, and wherein Me depicts one of the group consisting of W, Nb, Mo and Ta or a mixture of two or more of the constituents of that group, u, v and w describing the stoichiometric composition of the metallic phase fraction. A thickness ratio of said layer of type A to said layer of type B is higher than 1. The workpiece comprises such a coating system. Through this, an excellent wear-protection is provided, and the coating system and workpieces can be used for a broad range of different applications. The coating system can be deposited very efficiently in a PVD process using two types of targets, wherein targets of one type are active during depositing a layer of type A and during depositing a layer of type B.

摘要翻译： 涂层体系包括：至少一层A型，基本上由（AlyCr1-y）X组成的A型层，其中X描述由N，CN，BN，NO，CNO，CBN，BNO 和CNBO，y描述了金属相分数的化学计量组成; 和至少一层B型，基本上由（AluCr1-uv-wSivMew）X组成的B型层，其中X描述由N，CN，BN，NO，CNO，CBN，BNO或CNBO组成的组之一 并且其中Me描述了由W，Nb，Mo和Ta组成的组之一，或者描述该组的组分u，v和w的两种或更多种的混合物，其描述了金属相级分的化学计量组成。 所述A型层与所述B型层的厚度比高于1.工件包括这种涂层体系。 通过这一点，提供了优异的耐磨损保护，并且涂层系统和工件可以用于广泛的不同应用。 可以使用两种类型的靶在PVD工艺中非常有效地沉积涂层系统，其中一种类型的靶在沉积A型层期间和在沉积B型层期间是有活性的。

公开(公告)号：US09267200B2

公开(公告)日：2016-02-23

申请号：US14112757

申请日：2012-04-04

申请人： Siegfried Krassnitzer ,  Daniel Lendi ,  Markus Lechthaler ,  Kurt Ruhm

发明人： Siegfried Krassnitzer ,  Daniel Lendi ,  Markus Lechthaler ,  Kurt Ruhm

IPC分类号： C23C14/34 ,  H01J37/34 ,  C23C14/35

CPC分类号： C23C14/3485 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3492 ,  C23C14/352 ,  H01J37/3467

摘要： The invention relates to a method for supplying power impulses for PVD sputtering cathodes subdivided into partial cathodes. In said method, the power impulse intervals acting on the partial cathodes are selected in such a way as to overlap, thereby dispensing with the need to interrupt the drawing of power supplied by the generator.

摘要翻译： 本发明涉及一种为分散为部分阴极的PVD溅射阴极提供电源脉冲的方法。 在所述方法中，作用在部分阴极上的功率脉冲间隔以重叠的方式进行选择，从而不需要中断由发电机提供的功率的绘制。

公开(公告)号：US08828499B2

公开(公告)日：2014-09-09

申请号：US13059257

申请日：2009-08-10

申请人： Denis Kurapov ,  Markus Lechthaler

发明人： Denis Kurapov ,  Markus Lechthaler

IPC分类号： C08F2/48 ,  B05D5/06 ,  B01D5/00 ,  C25B9/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32 ,  C23C14/34 ,  C23C14/06

CPC分类号： C23C14/081 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/325 ,  C23C14/3414 ,  H01J2237/20

摘要： The invention relates to a method for using a target for a coating process of metal oxide and/or metal nitride coatings by means of spark evaporation, wherein the target can be operated at a temperature that is higher than the melting point of the metal used in the target, and wherein the target is comprised of a metal whose oxides and/or nitrides are not electrically conducting. The invention further relates to the use of a target for producing metal oxide coatings and/or metal nitride coatings by means of spark evaporation, wherein the target has a matrix comprised of a metal, in which matrix non electrically conducting oxides and/or nitrides of the metal are embedded.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过火花蒸发使用靶用于金属氧化物和/或金属氮化物涂层的涂覆方法的方法，其中所述靶可以在高于所用金属的熔点的温度下操作 靶，其中靶由氧化物和/或氮化物不导电的金属构成。 本发明还涉及用于通过火花蒸发来生产金属氧化物涂层和/或金属氮化物涂层的靶的用途，其中所述靶具有由金属构成的基体，其中基体非导电氧化物和/或氮化物 金属被嵌入。

公开(公告)号：US20130052477A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13575358

申请日：2011-01-25

申请人： Markus Lechthaler ,  Christian Tritremmel

发明人： Markus Lechthaler ,  Christian Tritremmel

IPC分类号： B32B15/04 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C14/0641 ,  C23C14/0647 ,  C23C28/04 ,  C23C30/005 ,  Y10T428/12549 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

摘要： The present invention relates to a multilayer coating system deposited on at least a portion of a solid body surface and containing in the multilayer architecture Al—Cr—B—N individual layers deposited by means of a physical vapour deposition method characterized in that in at least a portion of the overall thickness of the multilayer coating system the Al—Cr—B—N individual layers are combined with Ti—Al—N individual layers, wherein the Al—Cr—B—N and Ti—Al—N individual layers are deposited alternately one on each other, and wherein the thickness of the Al—Cr—B—N individual layers is thicker than the thickness of the Ti—Al—N individual layers, and thereby the residual stress of the multilayer coating system is considerably lower in comparison to the residual stress of the corresponding analogical Al—Cr—B—N monolayer coating.

摘要翻译： 本发明涉及一种沉积在固体表面的至少一部分上的多层涂层体系，其中包含通过物理气相沉积方法沉积的多层结构的Al-Cr-B-N单层，其特征在于至少 Al-Cr-B-N单层与Ti-Al-N单层结合的多层涂层体系的总厚度的一部分，其中Al-Cr-B-N和Ti-Al-N单独层是 交替地沉积在其中，并且其中Al-Cr-B-N单独层的厚度比Ti-Al-N单独层的厚度厚，从而多层涂覆体系的残余应力显着降低 与相应的类似Al-Cr-B-N单层涂层的残余应力相比。

公开(公告)号：US20120234143A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：US13484384

申请日：2012-05-31

申请人： Frédéric Fontaine ,  Markus Lechthaler ,  Wolfgang Kalss

发明人： Frédéric Fontaine ,  Markus Lechthaler ,  Wolfgang Kalss

IPC分类号： B26D1/00 ,  C23C14/35 ,  C23C14/34

CPC分类号： C23C14/0641 ,  C08J7/047 ,  C08J7/123 ,  C23C14/325 ,  C23C28/044 ,  C23C28/42 ,  C23C30/005 ,  Y10T83/04

摘要： A workpiece has a body (3) and a wear-resistant hard coating system (HLo), which system comprises a layer of the following composition: (Al1-a-b-cCraBbZc)X where X is at least one of: N, C, CN, NO, CO, CNO; Z is at least one of: W, Mo, Ta, Cb (Nb). For a, b and c specific ranges of values are valid.

摘要翻译： 工件具有主体（3）和耐磨硬涂层系统（HLo），该系统包括以下组成的层：（Al1-ab-cCraBbZc）X，其中X是以下中的至少一个：N，C， CN，NO，CO，CNO; Z是W，Mo，Ta，Cb（Nb）中的至少一种。 对于a，b和c的具体值范围是有效的。

公开(公告)号：US20110271872A1

公开(公告)日：2011-11-10

申请号：US13127707

申请日：2009-11-02

申请人： Markus Lechthaler

发明人： Markus Lechthaler

IPC分类号： C09D1/00 ,  C23C16/50 ,  C23C16/448

CPC分类号： C23C14/0641 ,  C23C14/325

摘要： The invention relates to a wear protection layer for tools such as milling cutters, cutting inserts, injection molds and the like, in particular wear protection layers deposited using physical vapor deposition, said layers having the general composition AlNbX, where X stands for N, C, B, CN, BN, CBN, NO, CO, BO, CNO, BNO, or CNCO, characterized in that the Nb fraction is less than 40 at % and/or the aluminum powder used in the manufacturing process is mixed with 10 to 50 at % zirconium relative to the aluminum, and also relates to a method for manufacturing a wear protection layer.

摘要翻译： 本发明涉及用于诸如铣刀，切削刀片，注射模具等的工具的磨损保护层，特别是使用物理气相沉积沉积的磨损保护层，所述层具有一般组成AlNbX，其中X代表N，C ，B，CN，BN，CBN，NO，CO，BO，CNO，BNO或CNCO，其特征在于Nb分数小于40原子％，和/或制造过程中使用的铝粉与10 50原子％锆，相对于铝，还涉及制造耐磨保护层的方法。

公开(公告)号：US20110143054A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US13059257

申请日：2009-08-10

申请人： Denis Kurapov ,  Markus Lechthaler

发明人： Denis Kurapov ,  Markus Lechthaler

IPC分类号： C23C26/00 ,  B05D5/06

CPC分类号： C23C14/081 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/325 ,  C23C14/3414 ,  H01J2237/20

摘要： The invention relates to a method for using a target for a coating process of metal oxide and/or metal nitride coatings by means of spark evaporation, wherein the target can be operated at a temperature that is higher than the melting point of the metal used in the target, and wherein the target is comprised of a metal whose oxides and/or nitrides are not electrically conducting. The invention further relates to the use of a target for producing metal oxide coatings and/or metal nitride coatings by means of spark evaporation, wherein the target has a matrix comprised of a metal, in which matrix non electrically conducting oxides and/or nitrides of the metal are embedded.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过火花蒸发使用靶用于金属氧化物和/或金属氮化物涂层的涂覆方法的方法，其中所述靶可以在高于所用金属的熔点的温度下操作 靶，其中靶由氧化物和/或氮化物不导电的金属构成。 本发明还涉及用于通过火花蒸发来生产金属氧化物涂层和/或金属氮化物涂层的靶的用途，其中所述靶具有由金属构成的基体，其中基体非导电氧化物和/或氮化物 金属被嵌入。

公开(公告)号：US20110111193A1

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：US13002687

申请日：2009-07-03

申请人： Markus Lechthaler

发明人： Markus Lechthaler

IPC分类号： B32B7/02 ,  C23C14/26

CPC分类号： C23C14/0036 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0647 ,  C23C14/0658 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/067 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/0688 ,  C23C28/042 ,  C23C28/044 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

摘要： The coating system comprises: at least one layer of type A, a layer of type A substantially consisting of (AlyCr1-y)X, wherein X depicts one of the group consisting of N, CN, BN, NO, CNO, CBN, BNO and CNBO, y describing the stoichiometric composition of the metallic phase fraction; and at least one layer of type B, a layer of type B substantially consisting of (AluCr1-u-v-wSivMew)X, wherein X depicts one of the group consisting of N, CN, BN, NO, CNO, CBN, BNO or CNBO, and wherein Me depicts one of the group consisting of W, Nb, Mo and Ta or a mixture of two or more of the constituents of that group, u, v and w describing the stoichiometric composition of the metallic phase fraction. A thickness ratio of said layer of type A to said layer of type B is higher than 1. The workpiece comprises such a coating system. Through this, an excellent wear-protection is provided, and the coating system and workpieces can be used for a broad range of different applications. The coating system can be deposited very efficiently in a PVD process using two types of targets, wherein targets of one type are active during depositing a layer of type A and during depositing a layer of type B.

摘要翻译： 涂层体系包括：至少一层A型，基本上由（AlyCr1-y）X组成的A型层，其中X描述由N，CN，BN，NO，CNO，CBN，BNO 和CNBO，y描述了金属相分数的化学计量组成; 和至少一层B型，基本上由（AluCr1-uv-wSivMew）X组成的B型层，其中X描述由N，CN，BN，NO，CNO，CBN，BNO或CNBO组成的组之一 并且其中Me描述了由W，Nb，Mo和Ta组成的组之一，或者描述该组的组分u，v和w的两种或更多种的混合物，其描述了金属相级分的化学计量组成。 所述A型层与所述B型层的厚度比高于1.工件包括这种涂层体系。 通过这一点，提供了优异的耐磨损保护，并且涂层系统和工件可以用于广泛的不同应用。 可以使用两种类型的靶在PVD工艺中非常有效地沉积涂层系统，其中一种类型的靶在沉积A型层期间和在沉积B型层期间是有活性的。