公开(公告)号：US20110008731A1

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：US12832747

申请日：2010-07-08

申请人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya ,  Shohei Kataoka

发明人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya ,  Shohei Kataoka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C311/00 ,  C07C317/00

CPC分类号： C07C311/02 ,  C07C25/18 ,  C07C43/225 ,  C07C311/48 ,  C07C317/44 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/74 ,  C07D211/74 ,  C07D217/06 ,  C07D285/15 ,  C07D295/185 ,  C07D333/46 ,  C07D333/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a compound (A) that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of the acids of general formula (II) below and a resin (B) whose rate of dissolution into an alkali developer is increased by the action of an acid.(The characters used in general formula (I) have the meanings mentioned in the description.)

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括化合物（A），其当暴露于光化射线或辐射时，产生下述通式（II）的任何酸和树脂（B），其中 通过酸的作用，溶解到碱性显影剂中的速率增加。 （通式（I）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

公开(公告)号：US20120009522A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13257403

申请日：2010-03-30

申请人： Takayuki Kato ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

发明人： Takayuki Kato ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, wherein when a film having a film thickness of 100 nm is formed from the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, the film has a transmittance of 55 to 80% for light at a wavelength of 193 nm, and a pattern forming method using the composition are provided.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其中当由光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜厚度为100nm的膜时，该膜对于光线具有55至80％的透射率 在波长193nm下，提供使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US08617788B2

公开(公告)日：2013-12-31

申请号：US13257403

申请日：2010-03-30

申请人： Takayuki Kato ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

发明人： Takayuki Kato ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Shuji Hirano ,  Yusuke Iizuka ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, wherein when a film having a film thickness of 100 nm is formed from the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, the film has a transmittance of 55 to 80% for light at a wavelength of 193 nm, and a pattern forming method using the composition are provided.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其中当由光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜厚度为100nm的膜时，该膜对于光线具有55至80％的透射率 在波长193nm下，提供使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US09081277B2

公开(公告)日：2015-07-14

申请号：US13520106

申请日：2011-12-22

申请人： Tomoki Matsuda ,  Akinori Shibuya ,  Yoko Tokugawa ,  Shuhei Yamaguchi ,  Mitsuhiro Fujita

发明人： Tomoki Matsuda ,  Akinori Shibuya ,  Yoko Tokugawa ,  Shuhei Yamaguchi ,  Mitsuhiro Fujita

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Provided are an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the sensitivity, roughness characteristics and exposure latitude, and a method of forming a pattern using the same. The composition includes (A) a resin that when acted on by an acid, is decomposed to thereby increase its solubility in an alkali developer, and (B) a compound that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid, the compound being any of compounds of general formula (1-1) below.

摘要翻译： 提供了在灵敏度，粗糙度特性和曝光宽容度方面优异的光化射线或辐射敏感性树脂组合物，以及使用其形成图案的方法。 组合物包括（A）当被酸作用时分解的树脂，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，和（B）当暴露于光化射线或辐射时被分解从而产生酸的化合物 该化合物是下述通式（1-1）的化合物中的任何一种。

公开(公告)号：US20120273924A1

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：US13520106

申请日：2011-12-22

申请人： Tomoki Matsuda ,  Akinori Shibuya ,  Yoko Tokugawa ,  Shuhei Yamaguchi ,  Mitsuhiro Fujita

发明人： Tomoki Matsuda ,  Akinori Shibuya ,  Yoko Tokugawa ,  Shuhei Yamaguchi ,  Mitsuhiro Fujita

IPC分类号： G03F7/027 ,  H01L21/311 ,  H01L29/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Provided are an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the sensitivity, roughness characteristics and exposure latitude, and a method of forming a pattern using the same. The composition includes (A) a resin that when acted on by an acid, is decomposed to thereby increase its solubility in an alkali developer, and (B) a compound that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid, the compound being any of compounds of general formula (1-1) below.

摘要翻译： 提供了在灵敏度，粗糙度特性和曝光宽容度方面优异的光化射线或辐射敏感性树脂组合物，以及使用其形成图案的方法。 组合物包括（A）当被酸作用时分解的树脂，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，和（B）当暴露于光化射线或辐射时被分解从而产生酸的化合物 该化合物是下述通式（1-1）的化合物中的任何一种。

公开(公告)号：US09023579B2

公开(公告)日：2015-05-05

申请号：US13485793

申请日：2012-05-31

申请人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

发明人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C311/00 ,  C07C309/39 ,  C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C381/12 ,  C07D215/58 ,  C07D217/08 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D333/16 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D409/02 ,  C07D409/14 ,  C07D417/02 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC分类号： C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D215/58 ,  C07D217/08 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D333/16 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D409/02 ,  C07D409/14 ,  C07D417/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds (A) of general formula (I) below that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid and a resin (B) whose rate of dissolution into an alkali developer is increased by the action of an acid. (The characters used in general formula (I) have the meanings mentioned in the description.)

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含以下通式（I）的化合物（A）中的任一种，当暴露于光化射线或辐射时，产生酸和树脂（B），其中 通过酸的作用，溶解到碱性显影剂中的速率增加。 （通式（I）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

公开(公告)号：US09034558B2

公开(公告)日：2015-05-19

申请号：US13808489

申请日：2011-09-28

申请人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya ,  Yusuke Iizuka

发明人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya ,  Yusuke Iizuka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/30 ,  C08F212/12 ,  G03F7/11 ,  C08F212/14 ,  C08F220/42 ,  C08F220/28

CPC分类号： G03F7/004 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/30 ,  C08F212/12 ,  C08F212/14 ,  C08F220/42 ,  C08F2220/281 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  C08F2220/1858 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1891

摘要： Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including (A) a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, (B) a resin that when acted on by an acid, increases its rate of dissolution in an alkali developer, and (C) a hydrophobic resin, wherein the hydrophobic resin (C) contains a repeating unit derived from any of monomers of general formula (1) below.

摘要翻译： 提供了一种光化射线或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物，（B）当被酸作用时增加其溶解速率的树脂 在碱显影剂中，和（C）疏水性树脂，其中所述疏水性树脂（C）含有衍生自下述通式（1）的任何一种的重复单元。

公开(公告)号：US08911930B2

公开(公告)日：2014-12-16

申请号：US13375749

申请日：2010-06-03

申请人： Yuichiro Enomoto ,  Shinji Tarutani ,  Akinori Shibuya ,  Shuhei Yamaguchi

发明人： Yuichiro Enomoto ,  Shinji Tarutani ,  Akinori Shibuya ,  Shuhei Yamaguchi

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/095 ,  G03F7/32 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F20/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/095 ,  G03F7/325

摘要： According to one embodiment, a method of forming a pattern includes the step of applying an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition on a substrate so as to form a film, the step of selectively exposing the film through a mask and the step of developing the exposed film with the use of a developer containing an organic solvent, wherein the actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition contains a resin (A) whose polarity is increased by the action of an acid so that the solubility of the resin in the developer containing an organic solvent is decreased, a photoacid generator (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid containing a fluorine atom and a solvent (C), and wherein the photoacid generator (B) is contained in the composition in a ratio of 8 to 20 mass % based on the total solids of the composition.

摘要翻译： 根据一个实施方案，形成图案的方法包括将光化学射线或辐射敏感性树脂组合物施加到基底上以便形成膜的步骤，通过掩模选择性地使膜暴露的步骤，并且步骤 通过使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光的薄膜，其中光化射线或辐射敏感性树脂组合物含有通过酸的作用极性增加的树脂（A），使得 包含有机溶剂的显影剂中的树脂减少，当暴露于光化射线或辐射时产生含有氟原子的酸和溶剂（C）的光致酸产生剂（B），并且其中含有光酸产生剂（B） 相对于组合物的总固体成分为8〜20质量％。

公开(公告)号：US20120237874A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：US13485793

申请日：2012-05-31

申请人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

发明人： Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya

IPC分类号： C07D333/46 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  C07D405/04 ,  C07D215/58 ,  C07C381/12 ,  C07D401/12 ,  G03F7/027 ,  C07D335/02

CPC分类号： C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D215/58 ,  C07D217/08 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D333/16 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D409/02 ,  C07D409/14 ,  C07D417/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds (A) of general formula (I) below that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid and a resin (B) whose rate of dissolution into an alkali developer is increased by the action of an acid. (The characters used in general formula (I) have the meanings mentioned in the description.)

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含以下通式（I）的化合物（A）中的任一种，当暴露于光化射线或辐射时，产生酸和树脂（B），其中 通过酸的作用，溶解到碱性显影剂中的速率增加。 （通式（I）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

公开(公告)号：US20120077131A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13375749

申请日：2010-06-03

申请人： Yuichiro Enomoto ,  Shinji Tarutani ,  Akinori Shibuya ,  Shuhei Yamaguchi

发明人： Yuichiro Enomoto ,  Shinji Tarutani ,  Akinori Shibuya ,  Shuhei Yamaguchi

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： C08F20/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/095 ,  G03F7/325

摘要： According to one embodiment, a method of forming a pattern includes the step of applying an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition on a substrate so as to form a film, the step of selectively exposing the film through a mask and the step of developing the exposed film with the use of a developer containing an organic solvent, wherein the actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition contains a resin (A) whose polarity is increased by the action of an acid so that the solubility of the resin in the developer containing an organic solvent is decreased, a photoacid generator (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid containing a fluorine atom and a solvent (C), and wherein the photoacid generator (B) is contained in the composition in a ratio of 8 to 20 mass % based on the total solids of the composition.

摘要翻译： 根据一个实施方案，形成图案的方法包括将光化学射线或辐射敏感性树脂组合物施加到基底上以便形成膜的步骤，通过掩模选择性地使膜暴露的步骤，并且步骤 通过使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光的薄膜，其中光化射线或辐射敏感性树脂组合物含有通过酸的作用极性增加的树脂（A），使得 包含有机溶剂的显影剂中的树脂减少，当暴露于光化射线或辐射时产生含有氟原子的酸和溶剂（C）的光致酸产生剂（B），并且其中含有光酸产生剂（B） 相对于组合物的总固体成分为8〜20质量％。