公开(公告)号：US20070181878A1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：US11557239

申请日：2006-11-07

申请人： Ki Yong Song ,  Jin Young Kim ,  Sung Hen Cho ,  Chang Ho Noh

发明人： Ki Yong Song ,  Jin Young Kim ,  Sung Hen Cho ,  Chang Ho Noh

IPC分类号： H01J1/46 ,  H01L29/04

CPC分类号： H01J29/02 ,  H01B1/127 ,  H01B1/128 ,  H01J9/02 ,  H01J11/10 ,  H01J11/22 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

摘要： Disclosed herein is a transparent electrode featuring the interposition of a nano-metal layer between a grid electrode on a transparent substrate and an electroconductive polymer layer, and a preparation method thereof. The transparent electrode can be produced in a continuous process at high productivity and low cost and can be applied to various display devices.

摘要翻译： 这里公开了一种透明电极，其特征在于在透明基板上的栅电极和导电聚合物层之间插入纳米金属层及其制备方法。 透明电极可以以高生产率和低成本在连续工艺中制造，并且可以应用于各种显示装置。

公开(公告)号：US07256925B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US11483443

申请日：2006-07-10

申请人： Chang ho Noh ,  Sung Hen Cho ,  Ki Yong Song ,  Jin Young Kim

发明人： Chang ho Noh ,  Sung Hen Cho ,  Ki Yong Song ,  Jin Young Kim

IPC分类号： G02F1/15

CPC分类号： G02F1/155 ,  G02F1/1533

摘要： A flexible electrochromic device including a flexible transparent electrode including a predetermined pattern, an insulating layer formed on a portion of the transparent electrode other than the predetermined pattern, a semiconductor layer formed on the predetermined pattern, an electrochromic monolayer formed on the semiconductor layer, a flexible counter electrode disposed to face the transparent electrode and an electrolyte provided in a space between the transparent electrode and the counter electrode.

摘要翻译： 一种柔性电致变色装置，包括具有预定图案的柔性透明电极，形成在除了预定图案之外的透明电极部分上的绝缘层，形成在预定图案上的半导体层，形成在半导体层上的电致变色单层， 设置为面对透明电极的柔性反电极和设置在透明电极和对电极之间的空间中的电解质。

公开(公告)号：US07504199B2

公开(公告)日：2009-03-17

申请号：US10959435

申请日：2004-10-07

申请人： Chang Ho Noh ,  Ki Yong Song ,  Jin Young Kim ,  Tamara Byk ,  Gennady A. Branitsky ,  Tatyana V. Gaevskaya ,  Valeri G. Sokolov

发明人： Chang Ho Noh ,  Ki Yong Song ,  Jin Young Kim ,  Tamara Byk ,  Gennady A. Branitsky ,  Tatyana V. Gaevskaya ,  Valeri G. Sokolov

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： H05K3/185 ,  C23C18/1608 ,  C23C18/1612 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/1653 ,  C23C18/204 ,  C23C18/208 ,  C23C18/30 ,  C23C18/36 ,  C23C18/405 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed herein is a method for forming a metal pattern with a low resistivity. The method comprises the steps of: (i) coating a photocatalytic compound onto a substrate to form a photocatalytic film layer; (ii) coating a water-soluble polymeric compound onto the photocatalytic film layer to form a water-soluble polymer layer; (iii) selectively exposing the two layers to light to form a latent pattern acting as a nucleus for crystal growth; and (iv) plating the latent pattern with a metal to grow metal crystals thereon. According to the method, a multilayer wiring pattern including a low resistivity metal can be formed in a relatively simple manner at low cost, and the metals constituting the respective layers can be freely selected according to the intended application. The low resistivity metal pattern can be advantageously applied to flat panel display devices, e.g., LCDs, PDPs and ELDs.

摘要翻译： 本文公开了一种形成具有低电阻率的金属图案的方法。 该方法包括以下步骤：（i）将光催化化合物涂覆到基底上以形成光催化膜层; （ii）将水溶性聚合物涂覆到光催化膜层上以形成水溶性聚合物层; （iii）选择性地将两层曝光以形成用作晶体生长的核的潜伏图案; 和（iv）用金属电镀潜在图案以在其上生长金属晶体。 根据该方法，可以以相对简单的方式以低成本形成包括低电阻率金属的多层布线图案，并且可以根据预期的应用自由选择构成各层的金属。 低电阻率金属图案可以有利地应用于平板显示装置，例如LCD，PDP和ELD。

公开(公告)号：US08198191B2

公开(公告)日：2012-06-12

申请号：US12843422

申请日：2010-07-26

申请人： Sung Hen Cho ,  Ki Yong Song ,  Sang Eun Park

发明人： Sung Hen Cho ,  Ki Yong Song ,  Sang Eun Park

IPC分类号： H01L21/4763

CPC分类号： H05K3/048 ,  C23C18/1603 ,  C23C18/165 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/1653 ,  C23C18/1696 ,  C23C18/1893 ,  C23C18/40 ,  C23C18/405 ,  H05K3/181 ,  H05K3/389 ,  Y10T428/12493

摘要： Disclosed herein is a method of preparing a low resistance metal line, in which a wet plating technique is used instead of a vacuum film forming process in order to simplify the process and decrease the manufacturing cost. In addition, a self-assembled monolayer is formed that facilitates the increased adsorption density and strength of the metal catalyst resulting in the formation of a high-density metal catalyst layer, thereby obtaining a high-quality metal line. Also disclosed herein, are a patterned metal line structure, and a display device using the same.

摘要翻译： 本文公开了一种制备低电阻金属线的方法，其中使用湿电镀技术代替真空成膜工艺，以简化工艺并降低制造成本。 此外，形成自组装单层，其有助于增加金属催化剂的吸附密度和强度，导致形成高密度金属催化剂层，从而获得高质量的金属线。 这里也公开了图案化的金属线结构，以及使用该结构的显示装置。

公开(公告)号：US07473307B2

公开(公告)日：2009-01-06

申请号：US11833615

申请日：2007-08-03

申请人： Ki Yong Song ,  Sung Hen Cho

发明人： Ki Yong Song ,  Sung Hen Cho

IPC分类号： C23C18/40

CPC分类号： C09D1/00 ,  C23C18/40

摘要： Disclosed herein is an electroless copper plating solution, including a copper salt, a completing agent, a reductant and a pH adjuster, in which the plating solution includes a 2,2-dipyridyl acid solution and the hydrogen ion concentration (pH) thereof is about 11.5 to about 13.0, a method of producing the same, and an electroless copper plating method. According to the plating solution of the present invention, an electroless copper plating film having stable and improved adhesivity and low electrical resistance can be obtained. Further, display devices including a metal pattern formed with the electroless copper plating solution can improve the reliability and price competitiveness of products prepared therefrom.

摘要翻译： 本发明公开了一种化学镀铜溶液，其包括铜盐，完成剂，还原剂和pH调节剂，其中电镀液包含2,2-二吡啶基酸溶液，其氢离子浓度（pH）约为 11.5至约13.0，其制备方法和无电镀铜方法。 根据本发明的电镀液，可以获得具有稳定且改善的粘附性和低电阻的化学镀铜膜。 此外，包括由化学镀铜溶液形成的金属图案的显示装置可以提高由其制备的产品的可靠性和价格竞争力。

公开(公告)号：US20130143017A1

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：US13371825

申请日：2012-02-13

申请人： Byung Ha PARK ,  Sang Ho Cho ,  Myung Gon Kim ,  Ki Yong Song ,  Cheol Ham ,  In Oh Hwang

发明人： Byung Ha PARK ,  Sang Ho Cho ,  Myung Gon Kim ,  Ki Yong Song ,  Cheol Ham ,  In Oh Hwang

IPC分类号： B32B7/02 ,  B32B3/00 ,  C23C16/22 ,  B32B9/04

CPC分类号： C23C14/081 ,  B05D1/60 ,  B05D2350/60 ,  C09D183/04 ,  C23C14/10 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663

摘要： A coating structure and a method for forming the same where, by forming an aluminum oxide layer and a silicon dioxide layer between a product to be coated and a coating layer, durability, reliability and anti-corrosion of the coating layer can be improved and furthermore, product yield can also be improved. The coating structure formed on the surface of a product includes an aluminum oxide (Al2O3) layer formed on the surface of the product, a silicon dioxide (SiO2) layer formed on the surface of the aluminum oxide (Al2O3) layer, and a coating composition layer formed on the silicon dioxide (SiO2) layer.

摘要翻译： 涂覆结构及其形成方法，其中通过在待涂覆产品和涂层之间形成氧化铝层和二氧化硅层，可以提高涂层的耐久性，可靠性和抗腐蚀性，此外 ，产品产量也可以提高。 形成在产品表面上的涂层结构包括在产品表面上形成的氧化铝（Al2O3）层，在氧化铝（Al2O3）层的表面上形成的二氧化硅（SiO 2）层，以及涂料组合物 层形成在二氧化硅（SiO 2）层上。

公开(公告)号：US20130025503A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：US13560714

申请日：2012-07-27

申请人： Byung Ha Park ,  In Oh Hwang ,  Cheol Ham ,  Ki Yong Song ,  Soo-Jin Park ,  Sung Jun Park ,  Woo Taek Hwang ,  Myung Gon Kim ,  Seung Taek Oh ,  Saim Saher

发明人： Byung Ha Park ,  In Oh Hwang ,  Cheol Ham ,  Ki Yong Song ,  Soo-Jin Park ,  Sung Jun Park ,  Woo Taek Hwang ,  Myung Gon Kim ,  Seung Taek Oh ,  Saim Saher

IPC分类号： C09D5/00 ,  C07F7/08

CPC分类号： C09D183/04 ,  C09D5/1675 ,  G06F3/03547 ,  G06F3/0412 ,  G06F2203/04103

摘要： Disclosed herein is an anti-fingerprint coating composition, a coating composition for forming thin films that prevents fingerprints adhered to displays or touch panels from being remarkably visible and exhibits superior durability and slip properties, and a method for preparing the same.The anti-fingerprint coating composition is prepared by mixing a silane compound having an alkyl group with distilled water or acid.

摘要翻译： 本文公开了一种防指纹涂料组合物，用于形成薄膜的涂料组合物，其防止粘附在显示器或触摸屏上的指纹显着可见并且表现出优异的耐久性和滑爽性，及其制备方法。 通过将具有烷基的硅烷化合物与蒸馏水或酸混合来制备防指纹涂料组合物。

公开(公告)号：US07014917B2

公开(公告)日：2006-03-21

申请号：US10695777

申请日：2003-10-30

申请人： Yi Yeol Lyu ,  Jin Heong Yim ,  Joon Sung Ryu ,  Ki Yong Song

发明人： Yi Yeol Lyu ,  Jin Heong Yim ,  Joon Sung Ryu ,  Ki Yong Song

IPC分类号： B32B9/04

CPC分类号： H01L21/02126 ,  C08G77/50 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  Y10T428/31663

摘要： Disclosed herein are a siloxane-based resin having novel structure and an interlayer insulating film for a semiconductor device formed using the same The siloxane-based resins have so low dielectric constant in addition to excellent mechanical properties, heat-stability and crack-resistance that they are useful materials for an insulating film between interconnect layers of a semiconductor device.

摘要翻译： 本文公开了具有新颖结构的硅氧烷基树脂和使用其形成的半导体器件的层间绝缘膜除了优异的机械性能，热稳定性和抗裂性之外，硅氧烷基树脂具有如此低的介电常数 是用于半导体器件的互连层之间的绝缘膜的有用材料。

公开(公告)号：US08883296B2

公开(公告)日：2014-11-11

申请号：US13371825

申请日：2012-02-13

申请人： Byung Ha Park ,  Sang Ho Cho ,  Myung Gon Kim ,  Ki Yong Song ,  Cheol Ham ,  In Oh Hwang

发明人： Byung Ha Park ,  Sang Ho Cho ,  Myung Gon Kim ,  Ki Yong Song ,  Cheol Ham ,  In Oh Hwang

IPC分类号： B32B7/02 ,  B32B3/00 ,  B32B9/04 ,  C23C16/22

CPC分类号： C23C14/081 ,  B05D1/60 ,  B05D2350/60 ,  C09D183/04 ,  C23C14/10 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663

摘要： A coating structure and a method for forming the same where, by forming an aluminum oxide layer and a silicon dioxide layer between a product to be coated and a coating layer, durability, reliability and anti-corrosion of the coating layer can be improved and furthermore, product yield can also be improved. The coating structure formed on the surface of a product includes an aluminum oxide (Al2O3) layer formed on the surface of the product, a silicon dioxide (SiO2) layer formed on the surface of the aluminum oxide (Al2O3) layer, and a coating composition layer formed on the silicon dioxide (SiO2) layer.

摘要翻译： 涂覆结构及其形成方法，其中通过在待涂覆产品和涂层之间形成氧化铝层和二氧化硅层，可以提高涂层的耐久性，可靠性和抗腐蚀性，此外 ，产品产量也可以提高。 形成在产品表面上的涂层结构包括在产品表面上形成的氧化铝（Al2O3）层，在氧化铝（Al2O3）层的表面上形成的二氧化硅（SiO 2）层，以及涂料组合物 层形成在二氧化硅（SiO 2）层上。

公开(公告)号：US07071540B2

公开(公告)日：2006-07-04

申请号：US10722460

申请日：2003-11-28

申请人： Yi Yeol Lyu ,  Ki Yong Song ,  Joon Sung Ryu ,  Jong Baek Seon

发明人： Yi Yeol Lyu ,  Ki Yong Song ,  Joon Sung Ryu ,  Jong Baek Seon

IPC分类号： H01L31/00

CPC分类号： H01B3/46 ,  C08G77/50 ,  C09D183/14 ,  Y10T428/2962 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/31663

摘要： A siloxane-based resin having a novel structure and a semiconductor interlayer insulating film using the same. The siloxane-based resins have a low dielectric constant in addition to excellent mechanical properties and are useful materials in an insulating film between interconnect layers of a semiconductor device.