公开(公告)号：US20050176607A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US11049751

申请日：2005-02-04

申请人： Seung-Hyun Ahn ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Sang-Mun Chon ,  Dae-Joung Kim ,  Kwang-Sub Yoon ,  Sang-Kyu Park ,  Jae-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi ,  Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn

发明人： Seung-Hyun Ahn ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Sang-Mun Chon ,  Dae-Joung Kim ,  Kwang-Sub Yoon ,  Sang-Kyu Park ,  Jae-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi ,  Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn

IPC分类号： G03F7/42 ,  C09D9/00 ,  C09D9/04 ,  C11D1/00 ,  C11D7/26 ,  C11D11/00 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC分类号： C11D7/266 ,  C11D11/0047

摘要： A thinner composition includes propylene glycol ether acetate, methyl 2-hydroxy-2-methyl propionate, and an ester compound such as ethyl lactate, ethyl 3-ethoxy propionate or a mixture thereof.

摘要翻译： 较薄的组合物包括丙二醇醚乙酸酯，2-羟基-2-甲基丙酸甲酯和酯化合物如乳酸乙酯，3-乙氧基丙酸乙酯或它们的混合物。

公开(公告)号：US10101660B2

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：US15345910

申请日：2016-11-08

申请人： Jeong-Ju Park ,  Seung-Chul Kwon ,  Eun-Sung Kim ,  Kyeong-Mi Lee ,  Shi-Yong Yi ,  Tsuyosh Kurosawa ,  Katsumi Ohmori ,  Tasuku Matsumiya

发明人： Jeong-Ju Park ,  Seung-Chul Kwon ,  Eun-Sung Kim ,  Kyeong-Mi Lee ,  Shi-Yong Yi ,  Tsuyosh Kurosawa ,  Katsumi Ohmori ,  Tasuku Matsumiya

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  H01L27/108 ,  C08F20/28 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08L53/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  G03F7/40 ,  H01L21/033 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L49/02

摘要： In a method of forming patterns, an object layer is formed on a substrate. Guide patterns are formed on the object layer. A brush layer is formed using a brush polymer on surfaces of the guide patterns. The brush polymer includes at least one of a first brush polymer and a second brush polymer. The first brush polymer includes a hydrophobic repeating unit and a hydrophilic terminal group having at least two hydroxyl groups. The second brush polymer includes a hydrophobic repeating unit and a hydrophilic random repeating unit having a hydroxyl group. A self-aligned layer is formed using a block copolymer on the brush layer to form blocks aligned around the guide patterns. At least a portion of the blocks is transferred to the object layer.

公开(公告)号：US08029688B2

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：US12217784

申请日：2008-07-09

申请人： Shi-Yong Yi ,  Myeong-Cheol Kim ,  Dong-Ki Yoon ,  Kyung-Yub Jeon ,  Ji-Hoon Cha

发明人： Shi-Yong Yi ,  Myeong-Cheol Kim ,  Dong-Ki Yoon ,  Kyung-Yub Jeon ,  Ji-Hoon Cha

IPC分类号： B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00

CPC分类号： H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/3088 ,  H01L21/312 ,  H01L21/32139

摘要： For patterning during integrated circuit fabrication, a first pattern of first masking structures is formed, and a buffer layer is formed on exposed surfaces of the first masking structures. Also, a second pattern of second masking structures is formed in recesses between the buffer layer at sidewalls of the first masking structures. Furthermore, the first and masking structures are formed from spin-coating respective high carbon containing materials. Such first and second masking structures pattern a target layer with higher pitch than possible with traditional photolithography.

摘要翻译： 为了在集成电路制造期间进行图案化，形成第一掩模结构的第一图案，并且在第一掩模结构的暴露表面上形成缓冲层。 此外，在第一掩蔽结构的侧壁处的缓冲层之间的凹部中形成第二掩模结构的第二图案。 此外，第一掩模结构和掩模结构由各自含高含碳材料的旋涂形成。 这样的第一和第二掩模结构以比传统光刻法更高的间距对目标层进行图案化。

公开(公告)号：US07863231B2

公开(公告)日：2011-01-04

申请号：US12118778

申请日：2008-05-12

申请人： Seung-Hyun Ahn ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Sang-Mun Chon ,  Dae-Joung Kim ,  Kwang-sub Yoon ,  Sang-Kyu Park ,  Jae-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi ,  Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn

发明人： Seung-Hyun Ahn ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Sang-Mun Chon ,  Dae-Joung Kim ,  Kwang-sub Yoon ,  Sang-Kyu Park ,  Jae-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi ,  Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： C11D7/266 ,  C11D11/0047

摘要： A thinner composition includes propylene glycol ether acetate, methyl 2-hydroxy-2-methyl propionate, and an ester compound such as ethyl lactate, ethyl 3-ethoxy propionate or a mixture thereof.

摘要翻译： 较薄的组合物包括丙二醇醚乙酸酯，2-羟基-2-甲基丙酸甲酯和酯化合物如乳酸乙酯，3-乙氧基丙酸乙酯或它们的混合物。

公开(公告)号：US07387988B2

公开(公告)日：2008-06-17

申请号：US11049751

申请日：2005-02-04

申请人： Seung-Hyun Ahn ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Sang-Mun Chon ,  Dae-Joung Kim ,  Kwang-Sub Yoon ,  Sang-Kyu Park ,  Jae-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi ,  Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn

发明人： Seung-Hyun Ahn ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Sang-Mun Chon ,  Dae-Joung Kim ,  Kwang-Sub Yoon ,  Sang-Kyu Park ,  Jae-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi ,  Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： C11D7/266 ,  C11D11/0047

摘要： A thinner composition includes propylene glycol ether acetate, methyl 2-hydroxy-2-methyl propionate, and an ester compound such as ethyl lactate, ethyl 3-ethoxy propionate or a mixture thereof.

摘要翻译： 较薄的组合物包括丙二醇醚乙酸酯，2-羟基-2-甲基丙酸甲酯和酯化合物如乳酸乙酯，3-乙氧基丙酸乙酯或它们的混合物。

公开(公告)号：US20050164126A1

公开(公告)日：2005-07-28

申请号：US11033300

申请日：2005-01-12

申请人： Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn ,  Jae-Ho Kim ,  Young-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi

发明人： Kyoung-Mi Kim ,  Yeu-Young Youn ,  Jae-Ho Kim ,  Young-Ho Kim ,  Shi-Yong Yi

IPC分类号： C07F7/10 ,  C07F7/12 ,  G03C1/492 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0752 ,  C07F7/12 ,  G03F7/0751

摘要： An adhesive compound for use with a photoresist, the compound represented in accordance with the following chemical formula, A method for forming a photoresist pattern using the adhesive compound is also disclosed.

摘要翻译： 还公开了与光致抗蚀剂一起使用的粘合剂化合物，根据以下化学式表示的化合物，A，使用该粘合剂形成光致抗蚀剂图案的方法。