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    Rear projection screen using internal reflection
    12.
    发明授权
    Rear projection screen using internal reflection 失效
    背投屏使用内反射

    公开(公告)号：US06417966B1

    公开(公告)日：2002-07-09

    申请号：US09348809

    申请日：1999-07-07

    申请人： Robert S. Moshrefzadeh ,  Patrick A. Thomas ,  John C. Nelson ,  Theodore W. Hodapp ,  Hsin-Hsin Chou ,  Richard J. Pokorny ,  Raghunath Padiyath

    发明人： Robert S. Moshrefzadeh ,  Patrick A. Thomas ,  John C. Nelson ,  Theodore W. Hodapp ,  Hsin-Hsin Chou ,  Richard J. Pokorny ,  Raghunath Padiyath

    IPC分类号： G03B2160

    CPC分类号： G03B21/62

    摘要： An optically dispersing film for a rear projection system includes reflecting surfaces disposed so as to reflect light passing therethrough into at least one dispersion plane. The reflecting surfaces are formed by structures, of a first refractive index, disposed within a layer of material having a second refractive index. The structures have light absorbing bases at the viewing side of the film. In some embodiments, the reflecting surfaces are disposed at one or more angles so as to reflect light into a number of different directions. In other embodiments, the layer of material having the second refractive index includes diffusing particles that diffuse the light. The film permits the asymmetric dispersion of image light in a rear projection system, so that the light may be selectively directed towards the viewer.

    摘要翻译： 用于后投影系统的光学分散膜包括设置成将穿过其中的光反射到至少一个色散平面中的反射表面。 反射表面由具有第一折射率的结构形成，该结构设置在具有第二折射率的材料层内。 该结构在膜的观察侧具有光吸收基底。 在一些实施例中，反射表面设置成一个或多个角度，以将光反射到多个不同的方向。 在其他实施例中，具有第二折射率的材料层包括漫射光的扩散粒子。 该膜允许图像光在后投影系统中的不对称分散，使得光可以选择性地指向观察者。

    Method for continuous and maskless patterning of structured substrates
    13.
    发明授权
    Method for continuous and maskless patterning of structured substrates 失效
    用于结构化基板的连续和无掩模图案化的方法

    公开(公告)号：US6077560A

    公开(公告)日：2000-06-20

    申请号：US999287

    申请日：1997-12-29

    申请人： Robert S. Moshrefzadeh ,  Richard J. Pokorny ,  Raghunath Padiyath ,  Wayne M. Wirth

    发明人： Robert S. Moshrefzadeh ,  Richard J. Pokorny ,  Raghunath Padiyath ,  Wayne M. Wirth

    IPC分类号： G03F7/40 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1343 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  H01L21/304 ,  B05D5/12

    CPC分类号： G03F7/094 ,  G02F1/13439 ,  G03F7/00 ,  G02F1/13394

    摘要： A method of selectively patterning a structured substrate without using a mask is disclosed. The method includes the steps of providing a surface having a plurality of protrusions, coating the surface with a filler material thick enough so that the protrusions are covered, and planarizing the filler coating. The filler material is thereafter partially removed in a uniform fashion to expose only those portions of the protrusions to be modified. After modifying the protrusions by, for example, deposition or etching, the remaining filler material may be removed, resulting in a structured substrate selectively modified or patterned at its protrusions.

    摘要翻译： 公开了一种在不使用掩模的情况下选择性地构图结构化衬底的方法。 该方法包括提供具有多个突起的表面的步骤，用足够厚的填充材料涂覆表面，使得凸起被覆盖，并平坦化填料涂层。 此后，填充材料以均匀的方式部分去除以仅暴露待修饰突起的那些部分。 在通过例如沉积或蚀刻修改突起之后，可以去除剩余的填充材料，导致在其突起处选择性地修饰或图案化的结构化衬底。