公开(公告)号：US20110081612A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：US12895504

申请日：2010-09-30

申请人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

发明人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F214/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/282 ,  C08K5/375 ,  C08K5/42 ,  C08L33/068 ,  C08L51/04 ,  C08L67/02 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/14

摘要： According to one embodiment, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin containing the repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid, wherein each of R1 independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted methyl group, R2 represents a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group, and n is an integer of 0 to 5, provided that when n is 2 or greater, multiple R2s may be identical to or different from each other.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含（A）含有式（I），（II）和（III）的重复单元的树脂，当被酸作用时，其变得易溶于 碱显影剂和（B）当用光化射线或辐射照射时产生含氟酸的化合物，其中R 1各自独立地表示氢原子或任选取代的甲基，R 2表示卤素原子，任选地 取代的烷基，任选取代的环烷基，任选取代的芳基或任选取代的芳烷基，n为0至5的整数，条件是当n为2或更大时，多个R 2可以相同或不同 彼此。

公开(公告)号：US08541161B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US13257069

申请日：2010-03-23

申请人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/375 ,  C08K5/41 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/30

摘要： Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1 and R11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R12 represents a phenyl group which may have a substituent.

摘要翻译： 提供光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，含有式（I）表示的重复单元的树脂，表示的重复单元 通过式（II）表示的重复单元和式（III）表示的重复单元，和（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生含氟原子的酸的化合物：其中R 1和R 11各自独立地表示氢 原子或可以具有取代基的烷基，R12表示可以具有取代基的苯基。

公开(公告)号：US08349535B2

公开(公告)日：2013-01-08

申请号：US12895504

申请日：2010-09-30

申请人： Kana Fujii ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F214/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/282 ,  C08K5/375 ,  C08K5/42 ,  C08L33/068 ,  C08L51/04 ,  C08L67/02 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/14

摘要： According to one embodiment, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin containing the repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid, wherein each of R1 independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted methyl group, R2 represents a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group, and n is an integer of 0 to 5, provided that when n is 2 or greater, multiple R2s may be identical to or different from each other.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含（A）含有式（I），（II）和（III）的重复单元的树脂，当被酸作用时，其变得可溶于 碱显影剂和（B）当用光化射线或辐射照射时产生含氟酸的化合物，其中R 1各自独立地表示氢原子或任选取代的甲基，R 2表示卤素原子，任选地 取代的烷基，任选取代的环烷基，任选取代的芳基或任选取代的芳烷基，n为0至5的整数，条件是当n为2或更大时，多个R 2可以相同或不同 彼此。

公开(公告)号：US20120003586A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13257069

申请日：2010-03-23

申请人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/375 ,  C08K5/41 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/30

摘要： Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1 and R11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R12 represents a phenyl group which may have a substituent.

摘要翻译： 提供光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，含有式（I）表示的重复单元的树脂，表示的重复单元 通过式（II）表示的重复单元和式（III）表示的重复单元，和（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生含氟原子的酸的化合物：其中R 1和R 11各自独立地表示氢 原子或可以具有取代基的烷基，R12表示可以具有取代基的苯基。

公开(公告)号：US20130040096A1

公开(公告)日：2013-02-14

申请号：US13642751

申请日：2011-05-20

申请人： Kaoru Iwato ,  Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato

发明人： Kaoru Iwato ,  Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato

IPC分类号： G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24

摘要： Provided is a method of forming a pattern and an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the limiting resolving power, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect performance. The method of forming a pattern includes (1) forming an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition into a film, (2) exposing the film to light, and (3) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent. The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin containing a repeating unit with a structural moiety that is configured to decompose when exposed to actinic rays or radiation to thereby generate an acid, and (B) a solvent.

摘要翻译： 提供了形成极限分辨能力，粗糙度特性，曝光宽容度（EL）和桥梁缺陷性能优异的图案和光化射线或辐射敏感性树脂组合物的方法。 形成图案的方法包括（1）将光化学射线或辐射敏感性树脂组合物形成膜，（2）将膜曝光，和（3）用含有机溶剂的显影剂显影曝光膜 。 所述光化学射线或辐射敏感性树脂组合物含有（A）含有具有结构部分的重复单元的树脂，所述结构部分被配置为当暴露于光化射线或辐射时分解从而产生酸，和（B）溶剂。

公开(公告)号：US09760003B2

公开(公告)日：2017-09-12

申请号：US13642751

申请日：2011-05-20

申请人： Kaoru Iwato ,  Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato

发明人： Kaoru Iwato ,  Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24

摘要： Provided is a method of forming a pattern and an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the limiting resolving power, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect performance. The method of forming a pattern includes (1) forming an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition into a film, (2) exposing the film to light, and (3) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent. The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin containing a repeating unit with a structural moiety that is configured to decompose when exposed to actinic rays or radiation to thereby generate an acid, and (B) a solvent.

公开(公告)号：US08802349B2

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：US13258898

申请日：2010-03-31

申请人： Masahiro Yoshidome ,  Shuji Hirano ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Yusuke Iizuka

发明人： Masahiro Yoshidome ,  Shuji Hirano ,  Hiroshi Saegusa ,  Kaoru Iwato ,  Yusuke Iizuka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing (a) a repeating unit represented by the following formula (AN-01), (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin that contains at least either a fluorine atom or a silicon atom and contains a repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an alkali developer to increase the solubility in an alkali developer: wherein the variables in formula (AN-01) are defined in the description.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，所述树脂含有（a）由下式表示的重复单元 （AN-01），（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）含有至少一个氟原子或硅原子的树脂，并且含有具有 能够通过碱显影剂的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的组：其中式（AN-01）中的变量在说明书中定义。

公开(公告)号：US07592118B2

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：US12053675

申请日：2008-03-24

申请人： Kazuyoshi Mizutani ,  Shuji Hirano ,  Shinichi Sugiyama

发明人： Kazuyoshi Mizutani ,  Shuji Hirano ,  Shinichi Sugiyama

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition, includes: (B) a resin containing a repeating unit represented by formula (Ia) or (Ib) as defined in the specification, which decomposes under an action of an acid to increase a solubility of the resin (B) in an aqueous alkali solution; and (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a pattern forming method uses the composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（B）含有本说明书中定义的由式（Ia）或（Ib）表示的重复单元的树脂，其在酸的作用下分解以增加树脂（B）的溶解度， 在碱性水溶液中; 和（A）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，并且图案形成方法使用该组合物。

公开(公告)号：US07498116B2

公开(公告)日：2009-03-03

申请号：US12057931

申请日：2008-03-28

申请人： Shuji Hirano ,  Shinichi Sugiyama

发明人： Shuji Hirano ,  Shinichi Sugiyama

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition includes: (A) a resin that includes: a repeating unit represented by a following formula (I), and a repeating unit represented by a following formula (II); and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein the variables in the formulae are defined in the specification.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括：（A）树脂，其包含：由下式（I）表示的重复单元和由下式（II）表示的重复单元; 和（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物：其中式中的变量在说明书中定义。

公开(公告)号：US20080241743A1

公开(公告)日：2008-10-02

申请号：US12053675

申请日：2008-03-24

申请人： Kazuyoshi Mizutani ,  Shuji Hirano ,  Shinichi Sugiyama

发明人： Kazuyoshi Mizutani ,  Shuji Hirano ,  Shinichi Sugiyama

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition, includes: (B) a resin containing a repeating unit represented by formula (Ia) or (Ib) as defined in the specification, which decomposes under an action of an acid to increase a solubility of the resin (B) in an aqueous alkali solution; and (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a pattern forming method uses the composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（B）含有本说明书中定义的由式（Ia）或（Ib）表示的重复单元的树脂，其在酸的作用下分解以增加树脂（B）的溶解度， 在碱性水溶液中; 和（A）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，并且图案形成方法使用该组合物。