公开(公告)号：US20060243036A1

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：US11455353

申请日：2006-06-19

申请人： Hak-Joo Lee ,  Jae-Hyun Kim ,  Chung-Seog Oh ,  Seung-Woo Han ,  Shin Hur ,  Soon-Gyu Ko ,  Byung-Ik Choi

发明人： Hak-Joo Lee ,  Jae-Hyun Kim ,  Chung-Seog Oh ,  Seung-Woo Han ,  Shin Hur ,  Soon-Gyu Ko ,  Byung-Ik Choi

IPC分类号： G01B5/28

CPC分类号： G01Q60/366 ,  G01N3/42 ,  G01N2203/0286

摘要： An atomic force microscope probe provides an indentation testing function in a direction along an axis. The probe has a tip and an arm structure holding the tip. The arm structure has one end mounted on a fixed stage, the other end coupled to the AFM tip, and a hollow frame having a shape symmetric with respect to a plane including an axis on which the two ends are positioned.

摘要翻译： 原子力显微镜探针在沿着轴的方向上提供压痕测试功能。 探针具有保持尖端的尖端和臂结构。 臂结构具有安装在固定台上的一端，另一端连接到AFM顶端，以及具有相对于包括其两端位于其上的轴线的平面对称的形状的中空框架。

公开(公告)号：US20060199108A1

公开(公告)日：2006-09-07

申请号：US11366765

申请日：2006-03-02

申请人： Sang-Jung Kim ,  Deog-Bae Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Sang-Jung Kim ,  Deog-Bae Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A polymer for forming an organic anti-reflective coating layer between an etching layer and a photoresist layer to absorb an exposure light in a photolithography process and a composition comprising the same are disclosed. The polymer for forming an organic anti-reflective coating layer has repeating units represented by wherein, R is a substituted or non-substituted alky group of C1 to C5.

摘要翻译： 公开了一种用于在蚀刻层和光致抗蚀剂层之间形成有机抗反射涂层以在光刻工艺中吸收曝光光的聚合物和包含其的组合物。 用于形成有机抗反射涂层的聚合物具有由其中R为C1至C5的取代或未取代的烷基表示的重复单元。

公开(公告)号：US20060191880A1

公开(公告)日：2006-08-31

申请号：US11356947

申请日：2006-02-16

申请人： Gi-Chung Kwon ,  Sang-Won Lee ,  Sae-Hoon Uhm ,  Jae-Hyun Kim ,  Bo-Han Hong ,  Yong-Kwan Lee

发明人： Gi-Chung Kwon ,  Sang-Won Lee ,  Sae-Hoon Uhm ,  Jae-Hyun Kim ,  Bo-Han Hong ,  Yong-Kwan Lee

IPC分类号： B23K9/00 ,  B23K9/02

CPC分类号： H01J37/32935 ,  H01J37/321 ,  H05H1/46

摘要： A plasma generation apparatus includes: a chamber having a chamber lid and defining an airtight reaction region; a susceptor in the chamber; a gas supply means supplying a process gas to the chamber; and a toroidal core vertically disposed with respect to the susceptor through the chamber lid, comprising: a toroidal ferromagnetic core combined with the chamber, the toroidal ferromagnetic core having a first portion outside the chamber and a second portion inside the chamber, the second portion having an opening portion; a radio frequency (RF) power supply connected to the chamber; an induction coil electrically connected to the RF power supply, the induction coil rolling the first portion; and a matching circuit matching an impedance between the RF power supply and the induction coil.

摘要翻译： 等离子体产生装置包括：具有室盖并限定气密反应区域的室; 室内的一个感受器; 向处理室供给处理气体的气体供给装置; 以及相对于所述基座通过所述室盖垂直设置的环形芯，包括：与所述室结合的环形铁磁芯，所述环形铁磁芯具有在所述室外部的第一部分和所述室内的第二部分，所述第二部分具有 开口部; 连接到所述室的射频（RF）电源; 感应线圈，其电连接到所述RF电源，所述感应线圈滚动所述第一部分; 以及与RF电源和感应线圈之间的阻抗匹配的匹配电路。

公开(公告)号：US20060160019A1

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：US11333934

申请日：2006-01-17

申请人： Youn-Kyung Wang ,  Kyoung-Mi Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Youn-Kyung Wang ,  Kyoung-Mi Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： In a photosensitive resin, a photoresist composition having the photosensitive resin, and a method of forming a photoresist pattern by using the photoresist, the photosensitive resin includes a blocking group substituted for an acid. The photosensitive resin has a weight-average molecular weight of from about 6,000 up to about 8,000. The photosensitive resin has a blocking ratio of from about 5% up to about 40%.

摘要翻译： 在感光性树脂中，具有感光性树脂的光致抗蚀剂组合物和通过使用光致抗蚀剂形成光致抗蚀剂图案的方法，感光性树脂包括取代酸的封端基。 感光性树脂的重均分子量为约6,000至约8,000。 感光性树脂的阻塞率为约5％至约40％。

公开(公告)号：US20060154176A1

公开(公告)日：2006-07-13

申请号：US11331305

申请日：2006-01-11

申请人： Seok-Bong Park ,  Won-Mi Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Seok-Bong Park ,  Won-Mi Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0233

摘要： A photoresist composition comprising a hydrogen-bonding compound and a thermosetting resin is provided. A method of forming a photoresist pattern is also provided. The method comprises forming a photoresist film on an object by coating the object with a photoresist composition including a hydrogen-bonding compound and a thermosetting resin. Then, the photoresist film is partially removed to form the photoresist pattern.

摘要翻译： 提供了包含氢键化合物和热固性树脂的光致抗蚀剂组合物。 还提供了形成光致抗蚀剂图案的方法。 该方法包括通过用包含氢键化合物和热固性树脂的光致抗蚀剂组合物涂覆物体在物体上形成光致抗蚀剂膜。 然后，部分去除光致抗蚀剂膜以形成光致抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US07026240B2

公开(公告)日：2006-04-11

申请号：US10776064

申请日：2004-02-11

申请人： Jae-Hyun Kim ,  Dong-Won Shin ,  Boo-Deuk Kim ,  Chang-Ho Lee ,  Won-Mi Kim ,  Seok-Bong Park

发明人： Jae-Hyun Kim ,  Dong-Won Shin ,  Boo-Deuk Kim ,  Chang-Ho Lee ,  Won-Mi Kim ,  Seok-Bong Park

IPC分类号： H01L21/4763

CPC分类号： H01L23/3192 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/312 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/19041 ,  H01L2924/00

摘要： In a semiconductor device fabrication method and in a product formed according to the method, a photosensitive polyimide layer (PSPL) layer is applied to a semiconductor device in a manner which overcomes the limitations of the conventional approaches. The beneficial qualities of an added photoresist layer are utilized to avoid unwanted development of the underlying PSPL layer. In this manner, cracking of the PSPL layer is mitigated or eliminated, reducing the device soft error rate (SER) and increasing device yield. This is accomplished in a reliable and low-cost approach that employs standard device fabrication techniques.

摘要翻译： 在半导体器件制造方法和根据该方法形成的产品中，以克服常规方法的限制的方式将光敏聚酰亚胺层（PSPL）层施加到半导体器件。 利用添加的光致抗蚀剂层的有益特性来避免潜在的PSPL层的不期望的显影。 以这种方式，减轻或消除了PSPL层的破裂，降低了器件的软错误率（SER）并提高了器件的产量。 这是采用标准器件制造技术的可靠且低成本的方法实现的。

公开(公告)号：US20060019192A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：US10533936

申请日：2002-11-19

申请人： Eun-Kyung SON ,  Jae-Hyun Kang ,  Deog-Bae Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Eun-Kyung SON ,  Jae-Hyun Kang ,  Deog-Bae Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03C1/492

CPC分类号： C07C69/54 ,  C07C67/14 ,  C07C67/347 ,  C07C69/753 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention relates to a chemically amplified polymer having a pendent group with dicyclohexyl bonded thereto, a process for the preparation thereof, and a resist composition comprising it, and more particularly, to a novel (meth)acrylic or norbornene carboxylate compound with dicyclohexyl bonded thereto, a process for the preparation thereof, a chemically amplified polymer synthesized therewith, and a positive photoresist composition for ArF comprising said polymer, with high resolution and excellent etching resistance.

摘要翻译： 本发明涉及具有与其结合的二环己基的侧基的化学扩增聚合物，其制备方法和包含它的抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及一种具有二环己基键合的新的（甲基）丙烯酸或降冰片烯羧酸酯化合物 其制备方法，由其合成的化学增幅聚合物和包含所述聚合物的用于ArF的正性光致抗蚀剂组合物，具有高分辨率和优异的抗蚀刻性。

公开(公告)号：US20050271977A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11142444

申请日：2005-06-02

申请人： Deog-Bae Kim ,  Sang-Jeoung Kim ,  Hwa-Young Kim ,  Jin Jegal ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Deog-Bae Kim ,  Sang-Jeoung Kim ,  Hwa-Young Kim ,  Jin Jegal ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F8/12 ,  C08F212/14 ,  G03C1/492 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08K5/36 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  C08L25/14 ,  C08L25/18 ,  C08F212/08

摘要： A photosensitive polymer for forming high-resolution fine circuit patterns with an exposure light source of a short wavelength, and a chemically amplified photoresist composition including the polymer, are disclosed. The photosensitive polymer is represented by the following Formula 1, wherein R1 is a hydrogen atom, R2 is a hydrogen atom, R3 is a chlorine atom, a bromine atom, hydroxy, cyano, t-butoxy, CH2NH2, CONH2, CH═NH, CH(OH)NH2 or C(OH)═NH group, R4 is a hydrogen atom or methyl group, each of 1-x-y-z, x, y and z is a degree of polymerization of each repeating unit constituting the photosensitive polymer, x, y and z are 0.01 to 0.8, respectively, and n is 1 or 2.

摘要翻译： 公开了用于形成具有短波长的曝光光源的高分辨率精细电路图案的光敏聚合物和包含该聚合物的化学放大光致抗蚀剂组合物。 光敏聚合物由下式1表示，其中R 1是氢原子，R 2是氢原子，R 3是 氯原子，溴原子，羟基，氰基，叔丁氧基，CH 2 NH 2，CONH 2，CH-NH，CH （OH）NH 2或C（OH）-NH基，R 4是氢原子或甲基，1-xyz，x，y和z分别为 构成感光性聚合物的各重复单元的x，y，z的聚合度分别为0.01〜0.8，n为1或2。

公开(公告)号：US20050128399A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：US11004152

申请日：2004-12-03

申请人： Jae-Hyun Kim ,  Sung-Eun Cha ,  Sang-Woo Kim ,  Won-Sang Park ,  Jae-Young Lee ,  Jae-Ik Lim

发明人： Jae-Hyun Kim ,  Sung-Eun Cha ,  Sang-Woo Kim ,  Won-Sang Park ,  Jae-Young Lee ,  Jae-Ik Lim

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/136 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/139 ,  G09F9/30 ,  G09F9/35 ,  H01L21/00 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

CPC分类号： G02F1/133707 ,  G02F1/133555 ,  G02F1/134336 ,  G02F1/1393

摘要： An array substrate includes a plate, a switching element, an insulating layer and a pixel electrode. The plate includes a pixel region, and the switching element is disposed on the plate. The insulating layer is disposed on the plate to include an opening for a multi-domain disposed in the pixel region and a contact hole. An electrode of the switching element is partially exposed through the contact hole. The pixel electrode is disposed on the insulating layer corresponding to the pixel region, an inner surface of the opening for the multi-domain and an inner surface of the contact hole so that the pixel electrode is electrically connected to the electrode of the switching element. Therefore, the viewing angle and the image display quality of the LCD apparatus are improved, and a manufacturing process is simplified.

摘要翻译： 阵列基板包括板，开关元件，绝缘层和像素电极。 板包括像素区域，并且开关元件设置在板上。 绝缘层设置在板上以包括设置在像素区域中的多畴的开口和接触孔。 开关元件的电极通过接触孔部分露出。 像素电极设置在与像素区域对应的绝缘层上，多畴的开口的内表面和接触孔的内表面，使得像素电极电连接到开关元件的电极。 因此，提高了LCD装置的视角和图像显示质量，并且简化了制造工艺。

公开(公告)号：US20050072046A1

公开(公告)日：2005-04-07

申请号：US10468078

申请日：2002-04-09

申请人： Woon-Ho Yang ,  Je-Kyu Kim ,  Hee-Suk Han ,  Jae-Hyun Kim ,  Yang-Soon Kang ,  Jeong-Ju Shin ,  Sang-Joon Kim ,  Min-Hyuk Lee ,  Soon-Jong Han

发明人： Woon-Ho Yang ,  Je-Kyu Kim ,  Hee-Suk Han ,  Jae-Hyun Kim ,  Yang-Soon Kang ,  Jeong-Ju Shin ,  Sang-Joon Kim ,  Min-Hyuk Lee ,  Soon-Jong Han

IPC分类号： A01G13/00 ,  A01C1/04 ,  A01G13/02 ,  A01M21/00 ,  C09K8/68 ,  D21H27/30 ,  A01G7/00

CPC分类号： A01G13/0268 ,  C09K8/685 ,  C09K2208/24

摘要： There are provided a biodegradable mulching-mat for preventing weed in rice cultivation having improved biodegradability to be completely degraded in several months, good mulching properties of preventing the growth of weeds, elevating soil temperature and increasing soil moisture capacity, and good strength and durability; and a method for manufacturing said mulching-mat by means of extrusion molding.

摘要翻译： 提供了一种可生物降解的覆盖层，用于防止水稻种植中的杂草，具有改善的生物降解性，在几个月内完全降解，具有良好的防止杂草生长，提高土壤温度和增加土壤水分能力的覆盖性能，以及良好的强度和耐久性; 以及通过挤出成型制造所述覆盖垫的方法。