公开(公告)号：US08399346B2

公开(公告)日：2013-03-19

申请号：US12882465

申请日：2010-09-15

申请人： Kimberly A. Yess ,  Madison M. Daily, Jr. ,  Tony D. Flaim

发明人： Kimberly A. Yess ,  Madison M. Daily, Jr. ,  Tony D. Flaim

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L21/561 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3121 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/09701 ,  H01L2924/00

摘要： Scratch-resistant coatings for protecting front-side microelectromechanical and semiconductor device features during backside processing are provided, along with methods of using the same. The coatings are non-photosensitive, removable, and tolerate high processing temperatures. These coatings also eliminate the need for a separate etch stop layer in the device design. The coatings are formed from a composition comprising a component dissolved or dispersed in a solvent system. The component is selected from the group consisting of styrene-acrylonitrile copolymers and aromatic sulfone polymers.

摘要翻译： 提供了用于在背面处理期间保护前侧微机电和半导体器件特征的耐刮擦涂层及其使用方法。 涂层是非光敏的，可移除的，并且能承受高的加工温度。 这些涂层也消除了在器件设计中需要单独的蚀刻停止层的需要。 涂层由包含溶解或分散在溶剂体系中的组分的组合物形成。 该组分选自苯乙烯 - 丙烯腈共聚物和芳族砜聚合物。

公开(公告)号：US20110223524A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US13114612

申请日：2011-05-24

申请人： Sam X. Sun ,  Hao Xu ,  Tony D. Flaim

发明人： Sam X. Sun ,  Hao Xu ,  Tony D. Flaim

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： H01L21/0332 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/312

摘要： This invention provides methods of creating via or trench structures on a developer-soluble hardmask layer using a multiple exposure-development process. The hardmask layer is patterned while the imaging layer is developed. After the imaging layer is stripped using organic solvents, the same hardmask can be further patterned using subsequent exposure-development processes. Eventually, the pattern can be transferred to the substrate using an etching process.

摘要翻译： 本发明提供了使用多次曝光显影工艺在显影剂可溶硬化掩模层上产生通孔或沟槽结构的方法。 在成像层被开发的同时硬化掩模层被图案化。 在使用有机溶剂剥离成像层之后，可以使用随后的曝光显影工艺进一步图案化相同的硬掩模。 最终，可以使用蚀刻工艺将图案转移到衬底。

公开(公告)号：US20110171478A1

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：US12718516

申请日：2010-03-05

申请人： Tingji Tang ,  Gu Xu ,  Xing-Fu Zhong ,  Wenbin Hong ,  Tony D. Flaim ,  Kimberly Yess ,  Ramachandran K. Trichur

发明人： Tingji Tang ,  Gu Xu ,  Xing-Fu Zhong ,  Wenbin Hong ,  Tony D. Flaim ,  Kimberly Yess ,  Ramachandran K. Trichur

IPC分类号： C09D145/00 ,  B32B13/12 ,  B32B15/08 ,  B32B27/00 ,  B32B27/08 ,  B32B17/10 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  H05K13/00

CPC分类号： B81C1/00801 ,  B81C2201/053 ,  C08G61/08 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/418 ,  G03F7/033 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3081 ,  Y10T428/31645 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31692 ,  Y10T428/31855 ,  Y10T428/31909

摘要： New compositions and methods of using those compositions as protective layers during the production of semiconductor and MEMS devices are provided. The compositions comprise a cycloolefin copolymer dispersed or dissolved in a solvent system, and can be used to form layers that protect a substrate during acid etching and other processing and handling. The protective layer can be photosensitive or non-photosensitive, and can be used with or without a primer layer beneath the protective layer. Preferred primer layers comprise a basic polymer in a solvent system.

摘要翻译： 提供了在制造半导体和MEMS器件期间使用这些组合物作为保护层的新组合物和方法。 组合物包含分散或溶解在溶剂体系中的环烯烃共聚物，并且可以用于在酸蚀刻和其它加工和处理期间形成保护基材的层。 保护层可以是光敏的或非感光的，并且可以在保护层下面使用或不使用底漆层。 优选的底漆层在溶剂体系中包含碱性聚合物。

公开(公告)号：US07749603B2

公开(公告)日：2010-07-06

申请号：US12069457

申请日：2008-02-11

申请人： Charles R. Graham ,  Patrick J. Kinlen ,  Tony D. Flaim

发明人： Charles R. Graham ,  Patrick J. Kinlen ,  Tony D. Flaim

IPC分类号： B32B27/00 ,  B32B5/00 ,  B32B27/38 ,  B05D3/00 ,  B05D1/36

CPC分类号： H05K9/0067 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31855

摘要： A transparent two-layer electrostatic dissipating coating includes a first layer comprising a transparent first binder polymer and a first intrinsically conducting polymer (ICP) in an amount sufficient to provide the first layer with a surface resistance of from about 103 to about 105Ω/□; and a second layer in direct contact with the first layer and comprising a transparent second binder polymer and a second ICP in an amount sufficient to provide the second layer with a surface resistance of from about 106 to about 1010Ω/□, wherein the coating has a light transmission of at least about 70% at a wavelength of 600 nm. Methods of making and using the coating are also described.

摘要翻译： 透明的双层静电消散涂层包括第一层，其包含透明的第一粘合剂聚合物和第一本征导电聚合物（ICP），其量足以使第一层的表面电阻为约103至约105Ω ; 和与第一层直接接触的第二层，其包含透明的第二粘合剂聚合物和第二ICP，其量足以使第二层的表面电阻为约106至约1010Ω，其中涂层具有 在600nm的波长下透光率至少为约70％。 还描述了制备和使用涂层的方法。

公开(公告)号：US20090074973A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：US12069457

申请日：2008-02-11

申请人： Charles R. Graham ,  Patrick J. Kinlen ,  Tony D. Flaim

发明人： Charles R. Graham ,  Patrick J. Kinlen ,  Tony D. Flaim

IPC分类号： B05D3/00 ,  B32B27/00 ,  B32B5/00 ,  B32B27/38 ,  B32B27/40 ,  B05D1/36

CPC分类号： H05K9/0067 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31855

摘要： A transparent two-layer electrostatic dissipating coating includes a first layer comprising a transparent first binder polymer and a first intrinsically conducting polymer (ICP) in an amount sufficient to provide the first layer with a surface resistance of from about 103 to about 105Ω/□; and a second layer in direct contact with the first layer and comprising a transparent second binder polymer and a second ICP in an amount sufficient to provide the second layer with a surface resistance of from about 106 to about 1010Ω/□, wherein the coating has a light transmission of at least about 70% at a wavelength of 600 nm. Methods of making and using the coating are also described.

摘要翻译： 透明的双层静电消散涂层包括第一层，其包含透明的第一粘合剂聚合物和第一本征导电聚合物（ICP），其量足以使第一层的表面电阻为约103至约105Omega /□; 以及与第一层直接接触的第二层，并且包括透明的第二粘合剂聚合物和第二ICP，其量足以使第二层的表面电阻为约106至约1010Omega /□，其中涂层具有 在600nm的波长下透光率至少为70％。 还描述了制备和使用涂层的方法。

公开(公告)号：US06303270B1

公开(公告)日：2001-10-16

申请号：US09259229

申请日：1999-03-01

申请人： Tony D. Flaim ,  Douglas J. Guerrero ,  Michelle R. Fowler ,  William J. James ,  Vladimir Petrovsky ,  Harlan U. Anderson

发明人： Tony D. Flaim ,  Douglas J. Guerrero ,  Michelle R. Fowler ,  William J. James ,  Vladimir Petrovsky ,  Harlan U. Anderson

IPC分类号： G03F7028

CPC分类号： C08G79/00 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/0388

摘要： A composition is derived from an addition polymerizable organotitanium polymer which upon exposure to an oxygen plasma or baking in air, is converted to titanium dioxide (titania) or is converted to a mixed, titanium-containing metal oxide. The metal oxide formed in situ imparts etch-resistant action to a patterned photoresist layer. The composition may also be directly deposited and patterned into permanent metal oxide device features by a photolithographic process.

摘要翻译： 一种组合物衍生自可加成聚合的有机钛聚合物，其在暴露于氧等离子体或在空气中烘烤时，转化为二氧化钛（二氧化钛）或转化为混合的含钛金属氧化物。 原位形成的金属氧化物赋予图案化光致抗蚀剂层耐腐蚀作用。 组合物还可以通过光刻工艺直接沉积并图案化为永久性金属氧化物器件特征。

公开(公告)号：US5368989A

公开(公告)日：1994-11-29

申请号：US55916

申请日：1993-04-30

申请人： Tony D. Flaim ,  James E. Lamb, III ,  Kimberly A. Moeckli ,  Terry Brewer

发明人： Tony D. Flaim ,  James E. Lamb, III ,  Kimberly A. Moeckli ,  Terry Brewer

IPC分类号： C08G18/38 ,  C08G75/23 ,  C08G83/00 ,  C08J3/09 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11

CPC分类号： C08G75/23 ,  C08G18/3872 ,  C08G83/00 ,  C08J3/091 ,  G03F7/091

摘要： A composition and a method for forming an anti-reflective layer for DUV microlithographic processes is disclosed. The compositions of the present invention includes a polymer dissolved in a suitable solvent. The polymers are polysulfone and polyurea polymers which possess inherent light absorbing properties at deep ultraviolet wavelengths. In accordance with the method of the present invention, these compositions are applied to a substrate to form an anti-reflective coating, and thereafter a photoresist material that is compatible with the anti-reflective coating is applied.

摘要翻译： 公开了用于形成用于DUV微光刻工艺的抗反射层的组合物和方法。 本发明的组合物包括溶解在合适溶剂中的聚合物。 聚合物是在深紫外波长下具有固有的光吸收性能的聚砜和聚脲聚合物。 根据本发明的方法，将这些组合物施加到基底上以形成抗反射涂层，然后施加与抗反射涂层相容的光致抗蚀剂材料。

公开(公告)号：US5362608A

公开(公告)日：1994-11-08

申请号：US935572

申请日：1992-08-24

申请人： Tony D. Flaim ,  James Lamb, III ,  Terry Brewer

发明人： Tony D. Flaim ,  James Lamb, III ,  Terry Brewer

IPC分类号： G03F7/16 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  B05D5/12 ,  G03C5/00

CPC分类号： H01L21/02046 ,  G03F7/168 ,  G03F7/422

摘要： THFA (tetrahydrofurfuryl alcohol) is employed as the active component of edge bead removal compositions negating the need for N-methylpyrrolidone and providing unexpected effectiveness for multilayer microelectronic edge beads having at least one highly polar aromatic polymer layer, particularly when such layer is adjacent to an acid-catalyzed photoresist.

摘要翻译： 使用THFA（四氢糠醇）作为边缘珠去除组合物的活性组分，不需要N-甲基吡咯烷酮，并且具有至少具有一个高极性芳族聚合物层的多层微电子边缘珠粒的意想不到的效果，特别是当这种层邻近 酸催化的光致抗蚀剂。

公开(公告)号：US09127126B2

公开(公告)日：2015-09-08

申请号：US13460372

申请日：2012-04-30

申请人： Wenbin Hong ,  Tony D. Flaim ,  Rama Puligadda ,  Susan Bailey

发明人： Wenbin Hong ,  Tony D. Flaim ,  Rama Puligadda ,  Susan Bailey

IPC分类号： H01L21/00 ,  B31B1/60 ,  C08G73/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/20 ,  C09J5/00 ,  B32B15/08

CPC分类号： C08G73/0233 ,  B32B15/08 ,  C08G18/3215 ,  C08G18/4837 ,  C08G18/4841 ,  C08G18/7621 ,  C08G18/7671 ,  C08G69/44 ,  C08G2170/40 ,  C09J4/00 ,  C09J5/00 ,  C09J133/00 ,  C09J175/02 ,  C09J175/08 ,  C09J177/12 ,  C09J2203/326 ,  C09J2205/302 ,  H01L21/2007 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381 ,  H01L2221/68386 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/31515 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31725 ,  Y10T428/31786 ,  C08G18/10 ,  C08G18/48

摘要： New compositions and methods of using those compositions as bonding compositions for temporary wafer bonding are provided. The compositions are used to temporarily bond an active wafer to a carrier wafer or substrate in microelectronic fabrication using an in situ polymerization reaction of the components of the bonding composition to yield the bonding layer. The compositions form polymerized bonding layers that are mechanically strong and thermally resistant, but allow the wafers to be separated at the appropriate stage in the fabrication process. The bonding layer also retains its solubility so that residue can be cleaned from the debonded wafers using simple wet methods rather than etching or other harsh treatments.

摘要翻译： 提供了使用这些组合物作为临时晶片接合的粘合组合物的新组合物和方法。 组合物用于在微电子制造中使用粘合组合物的组分的原位聚合反应将活性晶片临时粘合到载体晶片或基底上，以产生粘合层。 组合物形成机械强度和耐热性，但允许晶片在制造过程中的适当阶段分离的聚合粘合层。 粘合层还保留其溶解度，使得可以使用简单的湿法而不是蚀刻或其它苛刻的处理从脱粘的晶片清洗残留物。

公开(公告)号：US08771927B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US12718516

申请日：2010-03-05

申请人： Tingji Tang ,  Gu Xu ,  Xing-Fu Zhong ,  Wenbin Hong ,  Tony D. Flaim ,  Kimberly Yess ,  Ramachandran K. Trichur

发明人： Tingji Tang ,  Gu Xu ,  Xing-Fu Zhong ,  Wenbin Hong ,  Tony D. Flaim ,  Kimberly Yess ,  Ramachandran K. Trichur

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： B81C1/00801 ,  B81C2201/053 ,  C08G61/08 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/418 ,  G03F7/033 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3081 ,  Y10T428/31645 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31692 ,  Y10T428/31855 ,  Y10T428/31909

摘要： New compositions and methods of using those compositions as protective layers during the production of semiconductor and MEMS devices are provided. The compositions comprise a cycloolefin copolymer dispersed or dissolved in a solvent system, and can be used to form layers that protect a substrate during acid etching and other processing and handling. The protective layer can be photosensitive or non-photosensitive, and can be used with or without a primer layer beneath the protective layer. Preferred primer layers comprise a basic polymer in a solvent system.

摘要翻译： 提供了在制造半导体和MEMS器件期间使用这些组合物作为保护层的新组合物和方法。 组合物包含分散或溶解在溶剂体系中的环烯烃共聚物，并且可以用于在酸蚀刻和其它加工和处理期间形成保护基材的层。 保护层可以是光敏的或非感光的，并且可以在保护层下面使用或不使用底漆层。 优选的底漆层在溶剂体系中包含碱性聚合物。