公开(公告)号：US20120264039A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：US13501650

申请日：2010-10-07

申请人： Junichi Ito ,  Yuki Mizukawa ,  Yoshiharu Yabuki ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yushi Kaneko ,  Akiyoshi Goto

发明人： Junichi Ito ,  Yuki Mizukawa ,  Yoshiharu Yabuki ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yushi Kaneko ,  Akiyoshi Goto

IPC分类号： C07F3/06 ,  G03F1/54

CPC分类号： C09D11/101 ,  C09B57/10 ,  C09B69/109 ,  C09D11/322 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105 ,  G03F7/40

摘要： The invention provides a colored curable composition including a dipyrromethene compound having a structure in which a polymerizable group and a carboxyl group are introduced in the same molecule, a resist liquid, an ink for inkjet printing, a color filter, a method of producing a color filter, a solid-state image sensor, a liquid crystal display, an organic EL display, an image display device and a colorant compound.

摘要翻译： 本发明提供一种着色固化性组合物，其包含具有将聚合性基团和羧基引入同一分子的结构的二吡咯亚甲基化合物，抗蚀剂液体，喷墨印刷用油墨，滤色器，颜色的制造方法 滤光片，固态图像传感器，液晶显示器，有机EL显示器，图像显示装置和着色剂化合物。

公开(公告)号：US20120187351A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13498885

申请日：2010-09-28

申请人： Junichi Ito ,  Masaru Yoshikawa ,  Yuki Mizukawa ,  Kenta Ushijima ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yoshihiko Fujie ,  Akiyoshi Goto ,  Yushi Kaneko ,  Hiroaki Idei

发明人： Junichi Ito ,  Masaru Yoshikawa ,  Yuki Mizukawa ,  Kenta Ushijima ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yoshihiko Fujie ,  Akiyoshi Goto ,  Yushi Kaneko ,  Hiroaki Idei

IPC分类号： G02B5/23 ,  G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  C07F3/06 ,  G03F7/20

CPC分类号： C08F2/50 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C09B23/04 ,  C09B57/10 ,  C09B69/108 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1408 ,  C09K2211/188 ,  G02B5/22 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105 ,  H01L27/322 ,  H05B33/12

摘要： A colorant multimer includes, as a partial structure of a colorant moiety, a dipyrromethene metal complex compound or tautomer thereof obtained from: (i) a dipyrromethene compound represented by the following Formula (M); and (ii) a metal or a metal compound: wherein in Formula (M), R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.

摘要翻译： 着色剂多聚体包括作为着色剂部分的部分结构的二吡咯亚甲基金属络合物或其互变异构体，其由以下物质获得：（i）由下式（M）表示的二吡咯亚甲基化合物; 和（ii）金属或金属化合物：其中在式（M）中，R 4，R 5，R 6，R 7，R 8，R 9和R 10各自独立地表示氢原子或一价取代基。

公开(公告)号：US08062826B2

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：US12058223

申请日：2008-03-28

申请人： Shinichi Kanna

发明人： Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition includes: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developing solution by the action of an acid, including: (a1) a repeating unit selected from repeating units represented by specific formulae (a1-1) to (a1-3); (a2) a repeating unit represented by a specific formula (a2); and (a3) a repeating unit selected from repeating units represented by specific formulae (a3-1) to (a3-4); (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a resin including: at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and a group selected from specific groups (x) to (z):(x) an alkali-soluble group, (y) a group capable of decomposing by the action of an alkali developing solution to increase the solubility in the alkali developing solution, and (z) a group capable of decomposing by the action of an acid; and (D) a solvent.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影液中的溶解度的树脂，其包括：（a1）选自由特定式（a1-1）至 （a1-3）; （a2）由特定式（a2）表示的重复单元; 和（a3）选自由特定式（a3-1）〜（a3-4）表示的重复单元的重复单元; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（C）含有氟原子和硅原子中的至少一种的树脂; 和选自碱溶性基团（x）〜（z）:( x）中的基团，（y）能够通过碱性显影液的作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的基团， 和（z）能够通过酸的作用分解的基团; 和（D）溶剂。

公开(公告)号：US20070065752A1

公开(公告)日：2007-03-22

申请号：US11523551

申请日：2006-09-20

申请人： Kei Yamamoto ,  Shinichi Kanna

发明人： Kei Yamamoto ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A positive resist composition comprising: at least one compound selected from a compound capable of generating an acid represented by the formula (I) as defined herein upon irradiation with actinic rays or radiation and a compound capable of generating an acid represented by the following formula (II) upon irradiation with actinic rays or radiation; and a compound capable of generating an acid represented by the formula (III) as defined herein upon irradiation with actinic rays or radiation.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：在用光化学射线或辐射照射时，选自能够产生如本文所定义的式（I）表示的酸的化合物的化合物和能够产生由下式表示的酸的化合物 II）用光化射线或辐射照射时; 以及当用光化射线或辐射照射时能够产生如本文所定义的式（III）表示的酸的化合物。

公开(公告)号：US20050048402A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：US10929443

申请日：2004-08-31

申请人： Kazuyoshi Mizutani ,  Tomoya Sasaki ,  Shinichi Kanna

发明人： Kazuyoshi Mizutani ,  Tomoya Sasaki ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03C1/76 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/114

摘要： A positive resist composition comprising (A) a resin that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and includes a specific repeating unit and (B) a compound that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and a pattern formation method using the positive resist composition.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）通过酸的作用而分解以提高在碱性显影液中的溶解度的树脂的树脂，并且包括特定重复单元和（B）在光化射线照射时产生酸的化合物或 辐射和使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US06806023B2

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US09851113

申请日：2001-05-09

申请人： Shinichi Kanna ,  Kunihiko Kodama

发明人： Shinichi Kanna ,  Kunihiko Kodama

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115

摘要： A positive radiation-sensitive composition comprising: (a) a resin whose solubility in an alkali developer increases by the action of an acid; (b) a compound which generates a carboxylic acid having a molecular weight of 100 or less upon irradiation with an actinic ray or a radiant ray; (c) a surfactant; and (d) a solvent.

摘要翻译： 一种正性辐射敏感性组合物，其包含：（a）其在碱性显影剂中的溶解度随着酸的作用而增加的树脂;（b）在光化反应下产生分子量为100以下的羧酸的化合物 射线或辐射线;（c）表面活性剂; 和（d）溶剂。

公开(公告)号：US06756179B2

公开(公告)日：2004-06-29

申请号：US09953888

申请日：2001-09-18

申请人： Toru Fujimori ,  Kunihiko Kodama ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

发明人： Toru Fujimori ,  Kunihiko Kodama ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A positive resist composition comprises (A) a resin capable of decomposing by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, and (B) a compound capable of generating an aromatic sulfonic acid substituted with at least one group containing a fluorine atom upon irradiation with one of an actinic ray and radiation.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含（A）能够通过酸的作用分解以增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，和（B）能够产生被至少一个含氟原子的基团取代的芳族磺酸的化合物 在用光化射线和辐射之一照射时。

公开(公告)号：US06376152B2

公开(公告)日：2002-04-23

申请号：US09775620

申请日：2001-02-05

申请人： Yasumasa Kawabe ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

发明人： Yasumasa Kawabe ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12

摘要： A positive photoresist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin which is insoluble or sparingly soluble in alkali but becomes soluble in alkali by the action of an acid, and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one partial structure represented by formula (I) shown below in its molecule: The positive photoresist composition of the present invention is suitable for exposure to a far ultraviolet ray, particularly a KrF excimer laser beam, improved in line edge roughness and also excellent in sensitivity, resolution, depth of focus and resist profile.

摘要翻译： 正型光致抗蚀剂组合物包含（A）在用光化学射线或辐射照射时产生酸的化合物，（B）不溶于或微溶于碱但通过酸作用而溶于碱的树脂和（ C）在其分子中含有至少一种由式（I）表示的部分结构的含氮化合物：本发明的正性光致抗蚀剂组合物适用于暴露于远紫外线，特别是KrF准分子激光束， 线边缘粗糙度提高，灵敏度，分辨率，聚焦深度和抗蚀剂轮廓优异。

公开(公告)号：US09389347B2

公开(公告)日：2016-07-12

申请号：US13583877

申请日：2011-03-30

申请人： Yoshihiko Fujie ,  Masaru Yoshikawa ,  Shinichi Kanna ,  Kenta Ushijima

发明人： Yoshihiko Fujie ,  Masaru Yoshikawa ,  Shinichi Kanna ,  Kenta Ushijima

IPC分类号： C09B69/10 ,  G02B5/20 ,  C09D11/101 ,  C09D11/328 ,  G03F7/00

CPC分类号： G02B5/201 ,  C09B69/101 ,  C09B69/103 ,  C09B69/106 ,  C09B69/109 ,  C09D11/101 ,  C09D11/328 ,  G03F7/0007

摘要： The invention provides a colored composition including a dye multimer having an alkali-soluble group as a dye, the dye multimer having a weight-average molecular weight (Mw) of from 5,000 to 20,000 and a dispersity (weight-average molecular weight (Mw)/number-average molecular weight (Mn)) of from 1.00 to 2.50.

摘要翻译： 本发明提供了一种着色组合物，其包含具有碱溶性基团作为染料的染料多聚体，所述染料多聚体的重均分子量（Mw）为5,000〜20,000，分散性（重均分子量（Mw） /数均分子量（Mn））为1.00〜2.50。

公开(公告)号：US08603708B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13062281

申请日：2009-09-25

申请人： Yousuke Murakami ,  Shinichi Kanna ,  Kazuhiro Fujimaki

发明人： Yousuke Murakami ,  Shinichi Kanna ,  Kazuhiro Fujimaki

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G02B5/223 ,  C08F220/18 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  C08F220/06 ,  C08F220/34

摘要： The invention provides a dye-containing negative curable composition containing at least: (A) an organic solvent-soluble dye; (B) a photo-polymerization initiator; (C) a photo-polymerizable compound; (D) an amino group-containing alkali-soluble resin having, in a side chain thereof, a structure represented by the following Formula (1); and (E) an organic solvent. In Formula (1), R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R1 and R2 may be linked with each other to form a ring structure.

摘要翻译： 本发明提供含有至少含有（A）有机溶剂可溶性染料的含染料的可固化组合物; （B）光聚合引发剂; （C）光聚合性化合物; （D）含有氨基的碱溶性树脂，其侧链具有由下式（1）表示的结构。 和（E）有机溶剂。 在式（1）中，R 1和R 2各自独立地表示氢原子或一价有机基团，并且R 1和R 2可以彼此连接形成环结构。