公开(公告)号：US20030064877A1

公开(公告)日：2003-04-03

申请号：US10255731

申请日：2002-09-25

Inventor： Jeffrey J. Domey ,  Michael R. Heslin ,  Julie L. Ladison ,  Michael W. Linder ,  John E. Maxon ,  Johannes Moll ,  Robert S. Pavlik JR. ,  Daniel R. Sempolinski

IPC: C03C003/06

CPC classification number: G03F7/70966 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  G03F7/70958

Abstract: Fused silica members having high internal transmission and low birefringence are disclosed. Methods of making such fused silica members are also disclosed. According to the present invention, fused silica members having an internal transmission equal to or greater than 99.65%/cm at 193 nm and having an absolute maximum birefringence along the use axis of less than or equal to 0.75 nm/cm are provided.

Abstract translation: 公开了具有高内部透射率和低双折射率的熔融二氧化硅构件。 还公开了制造这种熔融二氧化硅构件的方法。 根据本发明，提供了在193nm处具有等于或大于99.65％/ cm的内部透光率并且沿着使用轴具有小于或等于0.75nm / cm的绝对最大双折射的熔融二氧化硅构件。

公开(公告)号：US20020170320A1

公开(公告)日：2002-11-21

申请号：US10154511

申请日：2002-05-23

Inventor： Gerhard Schotz ,  Jan Vydra

IPC: C03B037/018

CPC classification number: C03C13/045 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C25/002 ,  C03C25/607 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23

Abstract: A core glass for making a preform for an optical fiber particularly useful for the transmission of ultraviolet radiation and methods for making the core glass are disclosed. The core glass is obtained by the flame hydrolysis of a silicon compound, deposition of finely granular SiO2 on a substrate with direct vitrification and formation of a synthetic quartz glass. The quartz glass has a hydrogen content of less than 1null1018 molecules/cm3.

Abstract translation: 公开了一种用于制造用于传输紫外线辐射的特别有用的光纤预制棒的芯玻璃和用于制造芯玻璃的方法。 核心玻璃通过硅化合物的火焰水解获得，通过直接玻璃化沉积细颗粒SiO 2并形成合成石英玻璃。 石英玻璃的氢含量小于1×1018分子/ cm3。

公开(公告)号：US06442973B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09235409

申请日：1999-01-22

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B1906

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52

Abstract: A method is provided for manufacturing a synthetic silica glass. The method includes the steps of maintaining a silica glass member, which is formed using a flame hydrolysis method and having an OH group concentration of about 500 ppm to about 1300 ppm, at a predetermined holding temperature for a predetermined period of time so as to substantially relax the structure of the silica glass member. The method further includes the step of subsequently cooling the silica glass member to a first predetermined temperature at a cooling rate of about 10 K/hour or less, and thereafter, cooling the silica glass member to a second predetermined temperature at a cooling rate of about 1 K/hour or less. The method further includes the step of further cooling the silica glass member to a third predetermined temperature at a cooling rate of about 10 K/hour or less.

Abstract translation: 提供了一种制造合成石英玻璃的方法。 该方法包括以下步骤：在预定的保持温度下，使用火焰水解法形成并具有约500ppm至约1300ppm的OH基浓度的二氧化硅玻璃构件， 放松石英玻璃构件的结构。 该方法还包括以约10K /小时以下的冷却速度随后将石英玻璃构件冷却至第一预定温度的步骤，然后以大约的冷却速度将石英玻璃构件冷却至第二预定温度 1 K /小时以下。 该方法还包括以约10K /小时或更低的冷却速度将石英玻璃构件进一步冷却至第三预定温度的步骤。

公开(公告)号：US06380109B1

公开(公告)日：2002-04-30

申请号：US09511716

申请日：2000-02-23

Applicant: Jun Abe ,  Seiki Ejima ,  Akira J. Ikushima ,  Takumi Fujiwara

Inventor： Jun Abe ,  Seiki Ejima ,  Akira J. Ikushima ,  Takumi Fujiwara

IPC: C03C1304

CPC classification number: C03C23/009 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/26 ,  C03C3/06 ,  C03C23/002 ,  C03C23/007 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/31 ,  C03C2203/54 ,  G02F1/3555 ,  G02F1/3558

Abstract: There is disclosed second-order nonlinear glass material wherein a part having second-order nonlinearity contain Ge, H and OH and second-order nonlinear optical constant d of 1 pm/V or more, and a method for producing second-order nonliner glass material comprising treating a porous class material containing Ge with hydrohen, sintering it and subjecting it to a ultraviolet poling treatment. There can be provided second-order nonlinger glass material having second-order nonlinearity which is a sufficiently high and has a sufficiently long lifetime for a practical purpose, in use of the glass material for optical elements or the like.

Abstract translation: 公开了二次非线性玻璃材料，其中具有二次非线性的部分包含Ge，H和OH以及二阶非线性光学常数d为1μm/ V以上，以及二阶非线性玻璃材料的制造方法 包括用氢氧化物处理含有Ge的多孔类材料，烧结并对其进行紫外线极化处理。 在使用光学元件等的玻璃材料时，可以提供具有二次非线性的二阶非线性玻璃材料，该二阶非线性度足够高并且在实际应用中具有足够长的使用寿命。

公开(公告)号：US06374639B2

公开(公告)日：2002-04-23

申请号：US09933749

申请日：2001-08-22

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B1914

CPC classification number: C03B19/14 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1484 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  G03F7/2004 ,  Y10S65/90

Abstract: A method is provided for manufacturing a silica glass that is substantially free of chlorine. The method includes the step of separately expelling a silicon tetrafluoride gas, a combustion gas, and a combustible gas from a burner made of silica glass, the flow velocity of the silicon tetrafluoride gas being within the range of about 9 slm/cm2 to about 20 slm/cm2. The method further includes the steps of producing minute silica glass particles by reacting the silicon tetrafluoride gas with water produced by a reaction of the combustion gas with the combustible gas, depositing the minute silica glass particles on a target, and producing the silica glass by fusing and vitrifying the minute silica glass particles deposited on the target.

Abstract translation: 提供了一种制造基本上不含氯的石英玻璃的方法。 该方法包括从由石英玻璃制成的燃烧器分别排出四氟化硅气体，燃烧气体和可燃气体的步骤，四氟化硅气体的流速在约9slm / cm 2至约20的范围内 slm / cm2。 该方法还包括以下步骤：通过使四氟化硅气体与通过燃烧气体与可燃气体的反应产生的水反应生成微小的二氧化硅玻璃颗粒，将微小二氧化硅玻璃颗粒沉积在靶材上，并通过熔融制备石英玻璃 并使沉积在靶上的微小二氧化硅玻璃颗粒玻璃化。

公开(公告)号：US20020018942A1

公开(公告)日：2002-02-14

申请号：US09841517

申请日：2001-04-24

Inventor： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Lisa A. Moore ,  Susan L. Schiefelbein ,  Robert S. Pavlik JR.

IPC: B32B015/00 ,  B32B009/00 ,  B32B017/06 ,  G03G016/00 ,  G03F009/00 ,  C03B037/10 ,  C03B037/018 ,  G02B006/18 ,  C03B037/075 ,  C03C013/00 ,  C03B019/06 ,  C03B019/00 ,  G02B006/00

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01202 ,  C03B37/01406 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03B2207/40 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/54 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: High purity direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a dry direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1null1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

Abstract translation: 公开了适用于在190nm以下的VUV波长区域中用于光刻应用的光掩模基板的高纯度直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃。 本发明的直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃在157nm波长附近是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是在真空紫外（VUV）波长区域中显示非常高的透射率的干直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃，同时保持通常与高纯度熔融二氧化硅相关的优异的热和物理性能。 除了含氟且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适用于157nm的光掩模衬底的直接沉积玻璃化氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：US20020005051A1

公开(公告)日：2002-01-17

申请号：US09833540

申请日：2001-04-11

Inventor： John T. Brown ,  Gerald E. Burke ,  Lisa C. Chacon ,  Steven B. Dawes ,  Adam J. Ellison ,  Daniel W. Hawtof ,  Anthony P. Luppino ,  V. Srikant ,  Pushkar Tandon ,  Christine L. Tennent ,  James P. Terrell JR. ,  Joseph M. Whalen

IPC: C03B037/018

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01202 ,  C03B37/01406 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/12 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/02 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/38 ,  C03B2207/40 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/54 ,  C03B2207/70 ,  C03B2207/81 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  F23D14/22 ,  F23D14/32 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

Abstract: Methods, apparatus and precursors for producing substantially water-free silica soot, preforms and glass. The methods and apparatus make substantially water-free fused silica preforms or glass by removing water as a reaction product, removing water from the atmosphere, removing water from the transport process, or combinations thereof. In a first embodiment, substantially water-free soot, preforms or glass are achieved by using a hydrogen-free fuel, such as carbon monoxide, in the deposition process. In another embodiment, a soot producing burner has parameters that enable operation on a substantially hydrogen-free fuel. End burners, which minimize water production, are also described. Such water-free methods are useful in depositing fluorine-doped soot because of the low water present and the efficiency in which fluorine is incorporated. In another embodiment, glassy barrier layer methods and apparatus are described for minimizing dopant migration, especially fluorine. Laser and induction methods and apparatus for forming the barrier layer are depicted. A chlorine, fluorine and silica precursor, such as chlorofluorosilane, may be utilized to form fluorinated soot. Other methods and apparatus are directed to combinations of conventional and substantially water-free processes. One embodiment is directed to combustion enhancing additives for addition to the substantially hydrogen-free fuels. The methods and apparatus in accordance with the invention are particularly useful for producing photomask substrates and optical fiber preforms.

Abstract translation: 用于生产基本上无水的二氧化硅烟灰，预成型件和玻璃的方法，装置和前体。 该方法和装置通过除去水作为反应产物，从大气中除去水分，从运输过程中除去水或其组合，从而使基本上无水的熔融二氧化硅预制件或玻璃。 在第一实施方案中，在沉积工艺中通过使用无氢燃料如一氧化碳来实现基本上无水的烟灰，预型体或玻璃。 在另一个实施方案中，产生烟灰的燃烧器具有能够在基本上无氢燃料上操作的参数。 还描述了最小化水的生产的终端燃烧器。 这种无水方法由于存在低的水和掺入氟的效率而用于沉积氟掺杂烟灰。 在另一个实施例中，描述了用于最小化掺杂剂迁移，特别是氟的玻璃状阻挡层方法和装置。 描述了用于形成阻挡层的激光和感应方法和装置。 可以使用氯，氟和二氧化硅前体，例如氯氟硅烷来形成氟化烟灰。 其它方法和装置涉及常规和基本无水方法的组合。 一个实施方案涉及用于加入基本上无氢燃料的燃烧增强添加剂。 根据本发明的方法和装置特别适用于制造光掩模基片和光纤预制棒。

公开(公告)号：US06333283B1

公开(公告)日：2001-12-25

申请号：US09369425

申请日：1999-08-06

Applicant: Akira Urano ,  Toshio Danzuka ,  Tatsuhiko Saito ,  Yasuhiko Shishido ,  Masaharu Mogi ,  Michihisa Kyoto

Inventor： Akira Urano ,  Toshio Danzuka ,  Tatsuhiko Saito ,  Yasuhiko Shishido ,  Masaharu Mogi ,  Michihisa Kyoto

IPC: C03C306

CPC classification number: G02B6/102 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/14 ,  C03B37/15 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C13/045 ,  C03C23/002 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/003 ,  C03C23/0035 ,  C03C23/0095 ,  C03C25/6208 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/905

Abstract: A process of manufacturing a silica glass article comprising the steps of: (1) irradiating a silica glass article with electromagnetic waves to generate defects therein; and (2) immersing the thus irradiated silica glass article in an atmosphere comprising a hydrogen gas, thereby providing the resulting silica glass article with a characteristic that is effective for preventing it substantially from increasing its absorption within an ultraviolet region due to ultraviolet ray irradiation. Also disclosed are a silica glass article or a glass fiber produced according to the manufacturing process.

Abstract translation: 一种制造石英玻璃制品的方法，包括以下步骤：（1）用电磁波照射石英玻璃制品以在其中产生缺陷; 和（2）将这样照射的二氧化硅玻璃制品浸入包括氢气的气氛中，从而使得到的石英玻璃制品具有有效地防止紫外线辐射在紫外线区域内大幅吸收的特征。 还公开了根据制造方法制造的石英玻璃制品或玻璃纤维。

公开(公告)号：US06291377B1

公开(公告)日：2001-09-18

申请号：US09150613

申请日：1998-09-10

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03C306

CPC classification number: C03B19/14 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1484 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  G03F7/2004 ,  Y10S65/90

Abstract: A method is provided for manufacturing a silica glass that is substantially free of chlorine. The method includes the step of separately expelling a silicon tetrafluoride gas, a combustion gas, and a combustible gas from a burner made of silica glass, the flow velocity of the silicon tetrafluoride gas being within the range of about 9 slm/cm2 to about 20 slm/cm2. The method further includes the steps of producing minute silica glass particles by reacting the silicon tetrafluoride gas with water produced by a reaction of the combustion gas with the combustible gas, depositing the minute silica glass particles on a target, and producing the silica glass by fusing and vitrifying the minute silica glass particles deposited on the target.

Abstract translation: 提供了一种制造基本上不含氯的石英玻璃的方法。 该方法包括从由石英玻璃制成的燃烧器分别排出四氟化硅气体，燃烧气体和可燃气体的步骤，四氟化硅气体的流速在约9slm / cm 2至约20的范围内 slm / cm2。 该方法还包括以下步骤：通过使四氟化硅气体与通过燃烧气体与可燃气体的反应产生的水反应生成微小的二氧化硅玻璃颗粒，将微小二氧化硅玻璃颗粒沉积在靶材上，并通过熔融制备石英玻璃 并使沉积在靶上的微小二氧化硅玻璃颗粒玻璃化。

公开(公告)号：US06289161B1

公开(公告)日：2001-09-11

申请号：US09198883

申请日：1998-11-23

Applicant: Gerhard Schötz ,  Jan Vydra

Inventor： Gerhard Schötz ,  Jan Vydra

IPC: G02B600

CPC classification number: C03C13/045 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  G02B6/02 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/443

Abstract: In a known optical component a cylindrical glass core of synthetic quartz glass contains hydroxyl groups, a maximum 200 wt.-ppm of chlorine, and no dopant in the form of a metal oxide. The glass core is axially enveloped by a glass mantle of doped quartz glass which has a lower refractive index than the glass core. Setting out from this, in order to offer an optical component of quartz glass for broad-band transmission, especially for broad-band spectroscopy, which is characterized by low attenuation over a broad range of wavelengths, it is proposed by the invention that the core glass contain less than 5 wt.-ppm of hydroxyl groups.

Abstract translation: 在已知的光学组件中，合成石英玻璃的圆柱形玻璃芯包含羟基，最大为200重量ppm的氯，并且不含金属氧化物形式的掺杂剂。 玻璃芯由掺杂石英玻璃的玻璃罩轴向包围，折射率比玻璃芯低。 从此出发，为了提供用于宽带传输的石英玻璃的光学部件，特别是对于在宽波长范围内具有低衰减特征的宽带光谱，本发明提出了核心 玻璃含有小于5重量ppm的羟基。