公开(公告)号：US09019596B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13361707

申请日：2012-01-30

申请人： Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Alexander Epple

发明人： Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  G02B17/06

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G02B17/06 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection objective has a first objective part, defining a first part of the optical axis and imaging an object field to form a first real intermediate image. It also has a second, catadioptric objective part forming a second real intermediate image using the radiation from the first objective part. The second objective part has a concave mirror and defines a second part of the optical axis. A third objective part images the second real intermediate image into the image plane and defines a third part of the optical axis. Folding mirrors deflect the radiation from the object plane towards the concave mirror; and deflect the radiation from the concave mirror towards the image plane. The first part of the optical axis defined by the first objective part is laterally offset from and aligned parallel with the third part of the optical axis.

摘要翻译： 反射折射投射物镜具有第一物镜部分，限定光轴的第一部分并对物场进行成像以形成第一实际中间像。 它还具有使用来自第一目标部分的辐射形成第二实际中间图像的第二反射折射物镜部分。 第二目标部分具有凹面镜并且限定光轴的第二部分。 第三目标部分将第二实际中间图像成像到图像平面中并且限定光轴的第三部分。 折叠镜将物体平面上的辐射偏转到凹面镜; 并将来自凹面镜的辐射偏转到图像平面。 由第一目标部分限定的光轴的第一部分与光轴的第三部分横向偏移并与其平行。

公开(公告)号：US20130038929A1

公开(公告)日：2013-02-14

申请号：US13525233

申请日：2012-06-15

申请人： Stephan MUELLENDER ,  Joern WEBER ,  Wilfried CLAUSS ,  Hans-Jochen PAUL ,  Gerhard BRAUN ,  Sascha MIGURA ,  Aurelian DODOC ,  Christoph ZACZEK ,  Gisela VON BLANCKENHAGEN ,  Roland LOERCHER

发明人： Stephan MUELLENDER ,  Joern WEBER ,  Wilfried CLAUSS ,  Hans-Jochen PAUL ,  Gerhard BRAUN ,  Sascha MIGURA ,  Aurelian DODOC ,  Christoph ZACZEK ,  Gisela VON BLANCKENHAGEN ,  Roland LOERCHER

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： G02B5/0891 ,  B82Y30/00 ,  G02B1/10 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B5/0816 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958

摘要： A mirror (1a; 1a′; 1b; 1b′; 1c; 1c′) for the EUV wavelength range and having a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement includes at least one surface layer system (P′″) consisting of a periodic sequence of at least two periods (P3) of individual layers, wherein the periods (P3) include two individual layers composed of different materials for a high refractive index layer (H′″) and a low refractive index layer (L′″), wherein the layer arrangement includes at least one surface protecting layer (SPL, Lp) or at least one surface protecting layer system (SPLS) having a thickness of greater than 20 nm, and preferably greater than 50 nm.

摘要翻译： 用于EUV波长范围的反射镜（1a; 1a'; 1b; 1b'; 1c; 1c'），并具有衬底（S）和层布置，其中层布置包括至少一个表层系统（P' ）由各层的至少两个周期（P3）的周期性序列组成，其中周期（P3）包括由用于高折射率层（H“”）和低折射率层（H“”）的不同材料组成的两个单独层 L“），其中所述层布置包括至少一个表面保护层（SPL，Lp）或至少一个具有大于20nm，优选大于50nm的厚度的表面保护层系统（SPLS）。

公开(公告)号：US20130022345A1

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：US13523232

申请日：2012-06-14

申请人： Aurelian DODOC ,  Christian Bannert ,  Vladan Blahnik ,  Holger Sehr

发明人： Aurelian DODOC ,  Christian Bannert ,  Vladan Blahnik ,  Holger Sehr

IPC分类号： G02B13/08 ,  G03B17/00

CPC分类号： G02B13/08

摘要： An anamorphic objective is provided for imaging an object onto an image acquisition unit. The anamorphic objective has at least one first plane of symmetry and at least one second plane of symmetry. The first plane of symmetry and the second plane of symmetry are oriented perpendicular to one another. The first plane of symmetry and the second plane of symmetry intersect and have a straight line of intersection (intersection line). A first objective section followed by a second objective section are arranged. A diaphragm is arranged between the first objective section and the second objective section. A first anamorphic optical element is arranged in the first objective section. A second anamorphic optical element is arranged in the second objective section. The anamorphic objective fulfills specified conditions and is suitable for generating a stigmatic imaging of the object on the image acquisition unit.

摘要翻译： 提供了一种用于将对象成像到图像获取单元上的变形目标。 变形物镜具有至少一个第一对称平面和至少一个第二对称平面。 第一对称平面和第二对称平面彼此垂直。 第一个对称平面和第二个对称平面交叉并具有一条直线交点（交点）。 第一个目标部分是第二个目标部分。 在第一目标部分和第二目标部分之间布置有隔膜。 第一变形光学元件布置在第一目标部分中。 第二变形光学元件布置在第二目标部分中。 变形目标满足特定条件，适用于在图像采集单元上产生物体的眩晕成像。

公开(公告)号：US20120162625A1

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：US13361707

申请日：2012-01-30

申请人： Aurelian DODOC ,  Wilhelm ULRICH ,  Alexander EPPLE

发明人： Aurelian DODOC ,  Wilhelm ULRICH ,  Alexander EPPLE

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/70 ,  G02B17/08

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G02B17/06 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection objective has a first objective part, defining a first part of the optical axis and imaging an object field to form a first real intermediate image. It also has a second, catadioptric objective part forming a second real intermediate image using the radiation from the first objective part. The second objective part has a concave mirror and defines a second part of the optical axis. A third objective part images the second real intermediate image into the image plane and defines a third part of the optical axis. Folding mirrors deflect the radiation from the object plane towards the concave mirror; and deflect the radiation from the concave mirror towards the image plane. The first part of the optical axis defined by the first objective part is laterally offset from and aligned parallel with the third part of the optical axis.

摘要翻译： 反射折射投射物镜具有第一物镜部分，限定光轴的第一部分并对物场进行成像以形成第一实际中间图像。 它还具有使用来自第一目标部分的辐射形成第二实际中间图像的第二反射折射物镜部分。 第二目标部分具有凹面镜并且限定光轴的第二部分。 第三目标部分将第二实际中间图像成像到图像平面中并且限定光轴的第三部分。 折叠镜将物体平面上的辐射偏转到凹面镜; 并将来自凹面镜的辐射偏转到图像平面。 由第一目标部分限定的光轴的第一部分与光轴的第三部分横向偏移并与其平行。

公开(公告)号：US20120069315A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：US13236873

申请日：2011-09-20

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/70 ,  G02B17/06

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0663 ,  G02B17/0888

摘要： Imaging optics includes a first mirror in the imaging beam path after the object field, a last mirror in the imaging beam path before the image field, and a fourth to last mirror in the imaging beam path before the image field. In an unfolded imaging beam path between the object plane and the image plane, an impingement point of the chief ray on a used region of each of the plurality of mirrors has a mirror spacing from the image plane. The mirror spacing of the first mirror is greater than the mirror spacing of the last mirror. The mirror spacing of the fourth to last mirror is greater than the mirror spacing of the first mirror. Chief rays that emanate from points of the object field that are spaced apart from another have a mutually diverging beam course, giving a negative back focus of the entrance pupil.

摘要翻译： 成像光学器件包括在物场之后的成像光束路径中的第一反射镜，在图像场之前的成像光束路径中的最后一个反射镜，以及在图像场之前的成像光束路径中的第四个至最后一个镜像。 在物平面和图像平面之间的展开成像光束路径中，多个反射镜中的每一个的使用区域上的主光线的冲击点具有与图像平面相反的反射镜间隔。 第一个镜子的镜子间距大于最后一个镜子的反射镜间距。 第四到最后一个镜子的镜子间距大于第一个镜子的镜子间距。 从与物体间隔开的物体点发出的主光线具有相互发散的光束路线，给入射光瞳的负后焦距。

公开(公告)号：US20100265480A1

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：US12756456

申请日：2010-04-08

申请人： Aurelian DODOC

发明人： Aurelian DODOC

IPC分类号： G03B27/70 ,  G02B5/08

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958

摘要： A mirror for the EUV wavelength range (1) having a layer arrangement (P) applied on a substrate (S), the layer arrangement having a periodic sequence of individual layers, where the periodic sequence has at least two individual layers—forming a period—composed respectively of silicon (Si) and ruthenium (Ru). Also disclosed are a projection objective for microlithography (2) including such a mirror, and a projection exposure apparatus for microlithography having such a projection objective (2).

摘要翻译： 用于EUV波长范围（1）的镜子，其具有施加在衬底（S）上的层布置（P），所述层布置具有单独层的周期性序列，其中周期序列具有至少两个单独的层 - 形成周期 分别由硅（Si）和钌（Ru）组成。 还公开了包括这种反射镜的微光刻（2）的投影物镜，以及具有这种投射物镜（2）的微光刻的投影曝光装置。

公开(公告)号：US07697198B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US10576265

申请日：2004-10-15

申请人： David Shafer ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Karl-Heinz Schuster

发明人： David Shafer ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Karl-Heinz Schuster

IPC分类号： G02B17/08

CPC分类号： G02B13/143 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection objective for projecting a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective, having: a first objective part for projecting an object field lying in the object plane into a first real intermediate image; a second objective part for generating a second real intermediate image with the radiation coming from the first objective part; a third objective part for generating a third real intermediate image with the radiation coming from the second objective part; and a fourth objective part for projecting the third real intermediate image into the image plane.

摘要翻译： 一种反折射投射物镜，用于将布置在投影物镜的物平面中的图案投影到投影物镜的像平面中，具有：第一物镜部分，用于将物平面中的物场投影到第一实际中间像中; 第二目标部分，用于利用来自第一目标部分的辐射产生第二实际中间图像; 第三目标部分，用于利用来自第二目标部分的辐射产生第三实际中间图像; 以及用于将第三实际中间图像投影到图像平面中的第四目标部分。

公开(公告)号：US20100073655A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12628294

申请日：2009-12-01

申请人： Aurelian Dodoc ,  Albrecht Ehrmann ,  Sascha Bleidistel

发明人： Aurelian Dodoc ,  Albrecht Ehrmann ,  Sascha Bleidistel

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G02B3/12 ,  G03F7/70341

摘要： An optical system of a microlithographic projection exposure apparatus contains a module, which can be fitted in the optical system and removed from it as a unit. The module contains a cavity which can be completely filled with a liquid and hermetically sealed, and a concavely curved optical surface which bounds the cavity at the top during operation of the projection exposure apparatus. This makes it possible to fill the module outside the optical system. The module can be tilted there so that no air bubble, which prevents complete filling, can form below the concavely curved optical surface.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的光学系统包含可以安装在光学系统中并作为一个单元从其中移除的模块。 该模块包含一个可完全充满液体并密封的空腔，以及在投影曝光设备的操作期间界定顶部空腔的凹曲面的光学表面。 这使得可以将模块填充到光学系统外部。 模块可以在那里倾斜，从而不会形成阻止完全填充的气泡，可以形成在凹曲面的光学表面之下。

公开(公告)号：US20100026978A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：US12539136

申请日：2009-08-11

申请人： Johannes Ruoff ,  Aurelian Dodoc

发明人： Johannes Ruoff ,  Aurelian Dodoc

IPC分类号： G03B27/54 ,  G02B5/30

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70966

摘要： The disclosure relates a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, as well as a related microlithographic projection exposure apparatus and method. The projection objective can include a lens of a cubically crystalline material whose crystal orientation is oriented at an angle of at most 15° relative to the optical axis of the projection objective. The projection objective can also include a polarization correction element which has at least two subelements of birefringent, optically uniaxial material and having at least one respective aspheric surface. During use of the projection objective, the polarization correction element at least partially compensates for an intrinsic birefringence of the lens.

摘要翻译： 本公开涉及微光刻投影曝光装置的投影物镜，以及相关的微光刻投影曝光装置和方法。 投影物镜可包括立方结晶材料的透镜，其晶体取向相对于投影物镜的光轴以至多15°的角度取向。 投影物镜还可以包括偏振校正元件，该偏振校正元件具有至少两个双折射元件，光学单轴材料并具有至少一个相应的非球面表面。 在投影物镜的使用期间，偏振校正元件至少部分地补偿透镜的固有双折射。

公开(公告)号：US07532306B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US10917371

申请日：2004-08-13

申请人： Aurelian Dodoc ,  Karl Heinz Schuster ,  Joerg Mallmann ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

发明人： Aurelian Dodoc ,  Karl Heinz Schuster ,  Joerg Mallmann ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/7015 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983

摘要： A microlithographic projection exposure apparatus contains an illumination system (12) for generating projection light (13) and a projection lens (20; 220; 320; 420; 520; 620; 720; 820; 920; 1020; 1120) with which a reticle (24) that is capable of being arranged in an object plane (22) of the projection lens can be imaged onto a light-sensitive layer (26) that is capable of being arranged in an image plane (28) of the projection lens. The projection lens is designed for immersion mode, in which a final lens element (L5; L205; L605; L705; L805; L905; L1005; L1105) of the projection lens on the image side is immersed in an immersion liquid (34; 334a; 434a; 534a). A terminating element (44; 244; 444; 544; 644; 744; 844; 944; 1044; 1144) that is transparent in respect of the projection light (13) is fastened between the final lens element on the image side and the light-sensitive layer.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置包括用于产生投影光（13）和投影透镜（20; 220; 320; 420; 520; 620; 720; 820; 920; 1020; 1120）的照明系统（12） 能够布置在投影透镜的物平面（22）中的光源（24）可以被成像到能够被布置在投影透镜的像平面（28）中的感光层（26）上。 投影透镜被设计用于浸没模式，其中在像侧的投影透镜的最终透镜元件（L5; L205; L605; L705; L805; L905; L1005; L1105）浸没在浸没液体（34; 334a ; 434a; 534a）。 关于投影光（13）透明的终端元件（44; 244; 444; 544; 644; 744; 844; 944; 1044; 1144）被紧固在图像侧的最终透镜元件与光 敏感层。