公开(公告)号：US08781775B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13018226

申请日：2011-01-31

申请人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G01C17/38

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a stage to hold an object, the stage being moveable relative to a reference structure in a motion range; a magnet structure to provide a spatially varying magnetic field in at least a part of the motion range, the magnet structure being moveable relative to the reference structure and the stage; a first position measurement system to provide a first measurement signal corresponding to a position of the stage and/or the object in a measurement direction relative to the reference structure; a second position measurement system to provide a second measurement signal corresponding to a position of the stage relative to the magnet structure; and a data processor to correct the first measurement signal with a value dependent on the second measurement signal to provide a corrected first measurement signal representative of the position of the stage and/or the object relative to the reference structure in the measurement direction.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持物体的平台，所述平台相对于基准结构在运动范围内可移动; 磁体结构，用于在所述运动范围的至少一部分中提供空间变化的磁场，所述磁体结构可相对于所述参考结构和所述平台移动; 第一位置测量系统，用于相对于参考结构在测量方向上提供对应于舞台和/或物体的位置的第一测量信号; 第二位置测量系统，用于提供对应于舞台相对于磁体结构的位置的第二测量信号; 以及数据处理器，用取决于所述第二测量信号的值来校正所述第一测量信号，以在所述测量方向上提供表示所述平台和/或所述对象相对于所述参考结构的位置的校正的第一测量信号。

公开(公告)号：US08743344B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US12470773

申请日：2009-05-22

申请人： Hans Butler ,  Martinus Van Duijnhoven ,  Johan Hendrik Geerke ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Martinus Van Duijnhoven ,  Johan Hendrik Geerke ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70991

摘要： A cable connection between a first object and a second object includes a cable bundle of one or more cables having a certain length. One end of the cable bundle is fixed to the first object and another end of the bundle is fixed to the second object. A cable bundle holder configured to hold the cable bundle at a certain location along the length of the cable bundle, and a control system configured to control the position of the cable bundle holder with respect to the second object are presented. A control system for cable connection, and a method of reducing the transfer of vibrations from a first object to a second object via a cable connection are presented.

摘要翻译： 第一物体和第二物体之间的电缆连接包括具有一定长度的一根或多根电缆的电缆束。 电缆束的一端固定在第一物体上，另一端固定在第二物体上。 电缆束保持器被配置为沿着电缆束的长度将电缆束保持在特定位置，并且呈现配置为控制电缆束保持器相对于第二对象的位置的控制系统。 提出了一种用于电缆连接的控制系统，以及通过电缆连接减少振动从第一物体传递到第二物体的方法。

公开(公告)号：US08717532B2

公开(公告)日：2014-05-06

申请号：US12969234

申请日：2010-12-15

申请人： Hans Butler ,  Pieter Johannes Gertrudis Meijers ,  Hendrikus Johannes Schellens

发明人： Hans Butler ,  Pieter Johannes Gertrudis Meijers ,  Hendrikus Johannes Schellens

IPC分类号： G03B27/68

CPC分类号： G03F7/70833 ,  F16F15/005 ,  G03F7/70825 ,  H01L41/0825

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The projection system is mounted on a reference structure of the lithographic apparatus by a mount of the lithographic apparatus. The mount includes a first piezoelectric element to exert a force on the projection system, a second piezoelectric element to measure the force, and an interconnection member interposed between the first and second piezoelectric elements, the interconnection member comprising a cut.

摘要翻译： 光刻设备包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束，衬底 被构造成保持衬底的工作台以及配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统。 投影系统通过光刻设备的安装件安装在光刻设备的参考结构上。 支架包括在投影系统上施加力的第一压电元件，用于测量力的第二压电元件，以及插在第一和第二压电元件之间的互连构件，所述互连构件包括切口。

公开(公告)号：US08705004B2

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：US12897355

申请日：2010-10-04

申请人： Hans Butler ,  Remco Jochem Sebastiaan Groenendijk

发明人： Hans Butler ,  Remco Jochem Sebastiaan Groenendijk

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F7/70525

摘要： A method is disclosed. A change in position of a substrate in a direction substantially parallel to a direction of propagation of a radiation beam that is, or is to be, projected on to that substrate is determined, which change in position would result in a lithographic error in the application of a pattern to that substrate using that radiation beam. The change in position of the substrate is used to control a property of the radiation beam when, or as, the radiation beam is projected onto the substrate in order to reduce the lithographic error.

摘要翻译： 公开了一种方法。 确定基板在基本上平行于正在投射到该基板上的辐射束的传播方向的方向上的位置的变化，哪个位置的变化将导致应用中的光刻误差 使用该辐射束的该衬底的图案。 当辐射束投射到基板上时，或者作为辐射束投射到基板上以便减小光刻误差，衬底的位置变化用于控制辐射束的性质。

公开(公告)号：US08554510B2

公开(公告)日：2013-10-08

申请号：US12969289

申请日：2010-12-15

申请人： Frank Staals ,  Hans Van Der Laan ,  Hans Butler ,  Gerardus Carolus Johannus Hofmans ,  Sven Gunnar Krister Magnusson

发明人： Frank Staals ,  Hans Van Der Laan ,  Hans Butler ,  Gerardus Carolus Johannus Hofmans ,  Sven Gunnar Krister Magnusson

IPC分类号： G06F15/00

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70666 ,  G03F7/70725 ,  G03F9/7088

摘要： Movements of a lithographic apparatus include dynamic positioning errors on one or more axes which cause corresponding errors which can be measured in the applied pattern. A test method includes operating the apparatus several times while deliberately imposing a relatively large dynamic positioning error at different specific frequencies and axes. Variations in the error in the applied pattern are measured for different frequencies and amplitudes of the injected error across a frequency band of interest for a given axis or axes. Calculation using said measurements and knowledge of the frequencies injected allows analysis of dynamic positioning error variations in frequency bands correlated with each injected error frequency.

摘要翻译： 光刻设备的运动包括在一个或多个轴上的动态定位误差，其产生可以在所施加的图案中测量的相应误差。 测试方法包括多次操作该设备，同时在不同的特定频率和轴处故意施加相对大的动态定位误差。 对于给定的轴或轴，针对感兴趣的频带的注入误差的不同频率和幅度测量所应用模式中的误差的变化。 使用所述测量和所注入的频率的知识的计算允许分析与每个注入的错误频率相关的频带中的动态定位误差变化。

公开(公告)号：US08248583B2

公开(公告)日：2012-08-21

申请号：US12367193

申请日：2009-02-06

申请人： Marinus Aart Van Den Brink ,  Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Georgo Angelis ,  Renatus Gerardus Klaver ,  Martijn Robert Hamers ,  Boudewijn Theodorus Verhaar ,  Peter Hoekstra

发明人： Marinus Aart Van Den Brink ,  Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Georgo Angelis ,  Renatus Gerardus Klaver ,  Martijn Robert Hamers ,  Boudewijn Theodorus Verhaar ,  Peter Hoekstra

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516

摘要： In an embodiment, a stage system calibration method includes moving the stage relative to an encoder grid in response to a setpoint signal and measuring a position of the stage by a sensor head cooperating with the encoder grid. The position of the stage is controlled by a stage controller. A signal representative of a difference between the setpoint signal and the position of the stage as measured by the sensor head is registered. The stage system is calibrated from the registered signal representative of the difference.

摘要翻译： 在一个实施例中，舞台系统校准方法包括响应于设定点信号相对于编码器网格移动舞台，并通过与编码器网格协作的传感器头测量舞台的位置。 舞台的位置由舞台控制器控制。 记录表示由传感器头测量的设定点信号和台的位置之间的差异的信号。 舞台系统根据代表差异的注册信号进行校准。

公开(公告)号：US20110279800A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：US13194136

申请日：2011-07-29

申请人： Joeri Lof ,  Erik Theodorus Maria Bijlaart ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Aleksey Yurievich Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Joost Jeroen Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

发明人： Joeri Lof ,  Erik Theodorus Maria Bijlaart ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Aleksey Yurievich Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Joost Jeroen Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70883

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which a space between the projection system and a sensor is filled with a liquid.

公开(公告)号：US08059259B2

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：US12268622

申请日：2008-11-11

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon ,  Stijn Boschker

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Joost De Pee ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon ,  Stijn Boschker

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/709 ,  F16F7/1005 ,  F16F15/02

摘要： An active damping system assembly is configured to dampen a vibration of at least part of a structure. The assembly includes a plurality of active dampers each including a sensor configured to measure a position quantity of an interface mass mounted on the structure; and an actuator configured to exert a force on the interface mass in dependency of a signal provided by the sensor, wherein each of the plurality of active damping systems is connected to the interface mass. The structure may be a projection system of a lithographic apparatus.

摘要翻译： 主动阻尼系统组件被配置为抑制结构的至少一部分的振动。 组件包括多个有源阻尼器，每个活动阻尼器包括被配置为测量安装在结构上的接口质量的位置量的传感器; 以及致动器，其被配置为根据由传感器提供的信号对接口质量施加力，其中多个主动阻尼系统中的每一个连接到界面质量块。 该结构可以是光刻设备的投影系统。

公开(公告)号：US07760324B2

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：US11378627

申请日：2006-03-20

申请人： Jozef Petrus Henricus Benschop ,  Hans Butler ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Bartholomeus Hendricus Koek ,  Frits Van Der Meulen ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Jozef Petrus Henricus Benschop ,  Hans Butler ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Bartholomeus Hendricus Koek ,  Frits Van Der Meulen ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic projection apparatus includes a shutter member is employed to block a liquid supply system during substrate swap to ensure that liquid remains in contact with an element of the projection system during substrate swap. The shutter member is connected to a metrology frame which also supports the projection system. In this way the position of the shutter member is always known.

摘要翻译： 浸没式光刻投影装置包括闸板构件，以在衬底交换期间阻挡液体供应系统，以确保在衬底互换期间液体保持与投影系统的元件接触。 挡板构件连接到也支撑投影系统的计量框架。 以这种方式，挡板部件的位置总是已知的。

公开(公告)号：US20100157264A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627118

申请日：2009-11-30

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： F16F15/002 ,  G03F7/709

摘要： A method for damping an object in two or more degrees of freedom, including measuring a position quantity at each of the two or more measurement locations; extracting from the measured position quantities a measurement signal for each dynamic mode; feeding the measurement signal of a dynamic mode to a controller unit associated with the respective dynamic mode, the controller unit providing for each dynamic mode an output signal on the basis of the respective measurement signal; and providing a control signal to each of the two or more actuators, the control signal for each actuator being based on output signals of one or more controller units.

摘要翻译： 一种用于在两个或多个自由度中阻尼物体的方法，包括测量两个或更多个测量位置中的每一个处的位置量; 从测量位置数量提取每个动态模式的测量信号; 将动态模式的测量信号馈送到与相应动态模式相关联的控制器单元，所述控制器单元基于相应的测量信号为每个动态模式提供输出信号; 并且向所述两个或更多个致动器中的每一个提供控制信号，每个致动器的控制信号基于一个或多个控制器单元的输出信号。