公开(公告)号：US20120243956A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：US13070870

申请日：2011-03-24

申请人： KAZUO YAMAZAKI ,  TORU FUJIMORI

发明人： KAZUO YAMAZAKI ,  TORU FUJIMORI

IPC分类号： B23Q15/00

CPC分类号： G05B19/404 ,  B23C1/002 ,  B23C1/06 ,  B23C2250/00 ,  B23C2260/48 ,  B23C2260/76 ,  B23Q17/22 ,  B23Q17/2233 ,  B23Q17/225 ,  B23Q2717/006 ,  G05B2219/37024 ,  G05B2219/42318 ,  Y10T408/175 ,  Y10T409/300896 ,  Y10T409/306888 ,  Y10T409/306944 ,  Y10T409/308064 ,  Y10T409/308288

摘要： A machine tool 1 comprises a bed 11, a column 12, a spindle head 15, a spindle 16, a saddle 17, a table 18, a feed mechanism for moving the spindle head 15, the saddle 17 and the table 18 in Z-axis, Y-axis and X-axis directions respectively, a position detector for detecting the positions of the spindle head 15, saddle 17 and table 18, a controller for feedback controlling the feed mechanism, a position detector 51 for detecting the position of the spindle head 15, a position detector 54 for detecting the position of the spindle head 15, a position detector 57 for detecting the position of the table 18, and a measurement frame 50 which is configured with a different member from the bed 11 and the column 12 and on which readers 53, 56, 59 of the position detectors 51, 54, 57 are disposed.

摘要翻译： 机床1包括床11，柱12，主轴头15，主轴16，鞍座17，工作台18，用于使主轴头15，鞍座17和工作台18在Z轴方向上移动的进给机构， 轴，Y轴和X轴方向的位置检测器，用于检测主轴头15，鞍座17和工作台18的位置的位置检测器，用于反馈控制进给机构的控制器，位置检测器51， 主轴头15，用于检测主轴头15的位置的位置检测器54，用于检测工作台18的位置的位置检测器57以及配置有与床11和列的不同构件的测量框架50 位置检测器51,54,57的读取器53,56,59设置在其上。

公开(公告)号：US07981577B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11848639

申请日：2007-08-31

申请人： Toru Fujimori

发明人： Toru Fujimori

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02B5/223 ,  G03F7/26

摘要： According to an aspect of the invention, there is provided a process for producing a dye-containing negative curable composition, the process including passing a mixture containing a dye, a photopolymerization initiator, and a radical polymerizable monomer through a filter having a pore diameter of from not less than 0.02 μm to less than 0.2 μm.

摘要翻译： 根据本发明的一个方面，提供了一种制备含染料的负极固化性组合物的方法，该方法包括使含有染料，光聚合引发剂和可自由基聚合的单体的混合物通过孔径为 从不小于0.02μm到小于0.2μm。

公开(公告)号：US07977029B2

公开(公告)日：2011-07-12

申请号：US12178493

申请日：2008-07-24

申请人： Toru Fujimori

发明人： Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/118 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121

摘要： A positive photosensitive composition comprising (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, and (C) a specific basic compound.

摘要翻译： 一种正型光敏组合物，其包含（A）在光化射线或辐射照射时产生酸的酸产生剂，（B）具有单环或多环脂环烃结构并通过酸作用而分解以增加溶解度的树脂 在碱性显影液中，和（C）特定的碱性化合物。

公开(公告)号：US20110081612A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：US12895504

申请日：2010-09-30

申请人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

发明人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F214/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/282 ,  C08K5/375 ,  C08K5/42 ,  C08L33/068 ,  C08L51/04 ,  C08L67/02 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/14

摘要： According to one embodiment, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin containing the repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid, wherein each of R1 independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted methyl group, R2 represents a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group, and n is an integer of 0 to 5, provided that when n is 2 or greater, multiple R2s may be identical to or different from each other.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含（A）含有式（I），（II）和（III）的重复单元的树脂，当被酸作用时，其变得易溶于 碱显影剂和（B）当用光化射线或辐射照射时产生含氟酸的化合物，其中R 1各自独立地表示氢原子或任选取代的甲基，R 2表示卤素原子，任选地 取代的烷基，任选取代的环烷基，任选取代的芳基或任选取代的芳烷基，n为0至5的整数，条件是当n为2或更大时，多个R 2可以相同或不同 彼此。

公开(公告)号：US20090246651A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12411457

申请日：2009-03-26

申请人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

发明人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G03F7/031

摘要： A photosensitive resin composition is provided that includes at least (A) titanium black, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator (D) a resin, and (E) an organic solvent, the photopolymerization initiator (C) using in combination two or more types of photopolymerization initiators including at least one type of oxime-based photopolymerization initiator. There are also provided a light-shielding color filter having a pattern formed by using the photosensitive resin composition, a process for producing a light-shielding color filter that includes a step of coating a substrate with the photosensitive resin composition, a step of imagewise exposing, and a step of developing to form a pattern, and an image sensor having the light-shielding color filter.

摘要翻译： 提供至少包含（A）钛黑，（B）可聚合化合物，（C）光聚合引发剂（D）和树脂）和（E）有机溶剂的光敏树脂组合物，所述光聚合引发剂（C）使用 组合两种或更多种类型的光聚合引发剂，其包括至少一种类型的肟基光聚合引发剂。 还提供了一种具有通过使用感光性树脂组合物形成的图案的遮光滤色器，制造遮光滤色器的方法，该遮光滤色器包括用感光性树脂组合物涂布基板的步骤，成像曝光步骤 ，以及形成图案的步骤，以及具有遮光滤色器的图像传感器。

公开(公告)号：US20080226994A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：US12047060

申请日：2008-03-12

申请人： Yosuke MURAKAMI ,  Toru FUJIMORI

发明人： Yosuke MURAKAMI ,  Toru FUJIMORI

IPC分类号： G02B5/23 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G03F7/031

摘要： The invention provides a negative curable composition comprising a colorant, a photopolymerization initiator, a radical polymerizable monomer, a binder, and a monofunctional thiol compound, wherein the content of the radical polymerizable monomer with respect to the total solid content of the composition is from about 10 mass % to about 50 mass %, and the content of the binder with respect to the total solid content of the composition is about 20 mass % or less; a color filter formed by using the composition; and a method of producing the color filter. The negative curable composition has excellent developability at high sensitivity and enables formation of a fine rectangular pattern even in a low-binder content formulation.

摘要翻译： 本发明提供了包含着色剂，光聚合引发剂，可自由基聚合的单体，粘合剂和单官能硫醇化合物的负可固化组合物，其中可自由基聚合单体相对于组合物的总固体含量的含量为约 10质量％至约50质量％，并且粘合剂相对于组合物的总固体含量的含量为约20质量％以下; 通过使用该组合物形成的滤色器; 以及制造滤色器的方法。 负极固化性组合物在高灵敏度下具有优异的显影性，并且即使在低粘合剂含量制剂中也能形成精细的矩形图案。

公开(公告)号：US20080096130A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：US11926479

申请日：2007-10-29

申请人： Koji Shirakawa ,  Toru Fujimori ,  Shoichiro Yasunami

发明人： Koji Shirakawa ,  Toru Fujimori ,  Shoichiro Yasunami

IPC分类号： G03C1/73

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122

摘要： A positive resist composition comprising (a) a resin that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, contains a structural unit having a group represented by formula (X) defined in the specification, has a weight average molecular weight of not more than 5,000, and contains an acid decomposable group in an amount of not more than 40% based on the sum total of a number of the acid decomposable group and a number of an alkali-soluble group not protected with the acid decomposable group, and (b) a compound that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（a）通过酸的作用而分解以增加在碱性显影液中的溶解度的树脂，含有具有本说明书中定义的由式（X）表示的基团的结构单元，其重均分子量 分子量不大于5000，并且基于酸分解基团的数量和未被酸保护的碱可溶性基团的总数，含有不大于40％的酸分解基团 可分解基团，和（b）在光化射线或辐射照射时产生酸的化合物。

公开(公告)号：US20080081268A1

公开(公告)日：2008-04-03

申请号：US11845148

申请日：2007-08-27

申请人： Masuji MOTOKI ,  Yuki MIZUKAWA ,  Toru FUJIMORI ,  Hideki TAKAKUWA

发明人： Masuji MOTOKI ,  Yuki MIZUKAWA ,  Toru FUJIMORI ,  Hideki TAKAKUWA

IPC分类号： G03F3/00 ,  C09B67/00

CPC分类号： G03F7/0007 ,  C09B47/0678 ,  C09B55/009

摘要： Provided is a colored curable composition, comprising at least one tetraazaporphyrin dye represented by the following Formula (C1), a color filter prepared by using the same, and a production method thereof. wherein, R1 represents a substituent group; L represents an aliphatic or aromatic connecting group; Z1 represents a non-metal atom group needed for forming a six-membered ring with carbon atoms; at least one of the multiple groups R1 has —OY, —COOY, —SO3Y, —CON(Y)CO—, —CON(Y)SO2— or —SO2N(Y)CO—; Y represents a hydrogen atom, a metal atom or a conjugate acid; and M represents two hydrogen atoms, a bivalent metal atom, a bivalent metal oxide, a bivalent metal hydroxide or a bivalent metal chloride.

摘要翻译： 提供一种着色固化性组合物，其包含至少一种由下式（C1）表示的四氮杂卟啉染料，使用其制备的滤色剂及其制备方法。 其中R 1表示取代基; L表示脂族或芳族连接基团; Z 1表示形成具有碳原子的六元环所需的非金属原子团; 多个基团R 1中的至少一个具有-OY，-COOY，-SO 3 Y，-CON（Y）CO-，-CON（Y）SO SUB 2 - 或-SO 2 N（Y）CO-; Y表示氢原子，金属原子或共轭酸; M表示2个氢原子，2价金属原子，2价金属氧化物，2价金属氢氧化物或2价金属氯化物。

公开(公告)号：US20080063953A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：US11848639

申请日：2007-08-31

申请人： Toru FUJIMORI

发明人： Toru FUJIMORI

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02B5/223 ,  G03F7/26

摘要： According to an aspect of the invention, there is provided a process for producing a dye-containing negative curable composition, the process including passing a mixture containing a dye, a photopolymerization initiator, and a radical polymerizable monomer through a filter having a pore diameter of from not less than 0.02 μm to less than 0.2 μm.

摘要翻译： 根据本发明的一个方面，提供了一种制备含染料的负极固化性组合物的方法，该方法包括使含有染料，光聚合引发剂和可自由基聚合的单体的混合物通过孔径为 从不小于0.02μm到小于0.2μm。

公开(公告)号：US06927009B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10150967

申请日：2002-05-21

申请人： Kunihiko Kodama ,  Kenichiro Sato ,  Toru Fujimori

发明人： Kunihiko Kodama ,  Kenichiro Sato ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A positive photosensitive composition comprising (A) a specific acid generator that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.

摘要翻译： 一种正型光敏组合物，其包含（A）在光化射线或辐射照射时产生酸的特定酸产生剂，和（B）具有单环或多环脂环烃结构并通过酸作用分解的树脂至 增加在碱性显影液中的溶解度。