公开(公告)号：US08877423B2

公开(公告)日：2014-11-04

申请号：US13378387

申请日：2010-06-30

申请人： Kana Fujii ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0048 ,  C08F8/02 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0397 ,  C08F220/10 ,  C08F2220/1841

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin that contains a repeating unit represented by formula (I) as defined in the specification, a repeating unit represented by formula (II) as defined in the specification and a repeating unit represented by formula (III-a) or (III-b) as defined in the specification; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (C) a solvent, wherein the solvent (C) contains ethyl lactate, and a film and a pattern forming method using the composition are provided.

摘要翻译： 一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）含有本说明书中定义的式（I）表示的重复单元的树脂，由说明书中定义的式（II）表示的重复单元和 由本说明书中定义的式（III-a）或（III-b）表示的重复单元; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; 和（C）溶剂，其中溶剂（C）含有乳酸乙酯，并且提供使用该组合物的膜和图案形成方法。

公开(公告)号：US08741542B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13512633

申请日：2010-11-30

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Takayuki Ito ,  Toru Fujimori ,  Kana Fujii

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Takayuki Ito ,  Toru Fujimori ,  Kana Fujii

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C09B69/101 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a specific compound represented by a general formula, (B) a resin which is alkali-insoluble or sparingly alkali-soluble and becomes easily alkali-soluble in the presence of an acid, and (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; a film formed using the composition; and a pattern forming method using the same.

摘要翻译： 本发明提供一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）由通式表示的特定化合物，（B）在碱存在下碱不溶性或微溶碱性并易于碱溶解的树脂 的酸，和（C）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 使用该组合物形成的膜; 以及使用该图案形成方法的图案形成方法。

公开(公告)号：US08298731B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US12318740

申请日：2009-01-07

申请人： Toru Fujimori

发明人： Toru Fujimori

IPC分类号： G02B5/20 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027

摘要： The present invention provides a dye-containing negative curable composition including a dye that is soluble in an organic solvent, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable compound, and cyclopentanone; a color filter formed from the dye-containing negative curable composition; and a method of producing the color filter.

摘要翻译： 本发明提供含有可溶于有机溶剂的染料，光聚合引发剂，光聚合性化合物和环戊酮的含染料阴性固化性组合物。 由含有染料的可固化组合物形成的滤色器; 以及制造滤色器的方法。

公开(公告)号：US07981577B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11848639

申请日：2007-08-31

申请人： Toru Fujimori

发明人： Toru Fujimori

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02B5/223 ,  G03F7/26

摘要： According to an aspect of the invention, there is provided a process for producing a dye-containing negative curable composition, the process including passing a mixture containing a dye, a photopolymerization initiator, and a radical polymerizable monomer through a filter having a pore diameter of from not less than 0.02 μm to less than 0.2 μm.

摘要翻译： 根据本发明的一个方面，提供了一种制备含染料的负极固化性组合物的方法，该方法包括使含有染料，光聚合引发剂和可自由基聚合的单体的混合物通过孔径为 从不小于0.02μm到小于0.2μm。

公开(公告)号：US07977029B2

公开(公告)日：2011-07-12

申请号：US12178493

申请日：2008-07-24

申请人： Toru Fujimori

发明人： Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/118 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121

摘要： A positive photosensitive composition comprising (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, and (C) a specific basic compound.

摘要翻译： 一种正型光敏组合物，其包含（A）在光化射线或辐射照射时产生酸的酸产生剂，（B）具有单环或多环脂环烃结构并通过酸作用而分解以增加溶解度的树脂 在碱性显影液中，和（C）特定的碱性化合物。

公开(公告)号：US20110081612A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：US12895504

申请日：2010-09-30

申请人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

发明人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F214/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/282 ,  C08K5/375 ,  C08K5/42 ,  C08L33/068 ,  C08L51/04 ,  C08L67/02 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/14

摘要： According to one embodiment, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin containing the repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid, wherein each of R1 independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted methyl group, R2 represents a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group, and n is an integer of 0 to 5, provided that when n is 2 or greater, multiple R2s may be identical to or different from each other.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含（A）含有式（I），（II）和（III）的重复单元的树脂，当被酸作用时，其变得易溶于 碱显影剂和（B）当用光化射线或辐射照射时产生含氟酸的化合物，其中R 1各自独立地表示氢原子或任选取代的甲基，R 2表示卤素原子，任选地 取代的烷基，任选取代的环烷基，任选取代的芳基或任选取代的芳烷基，n为0至5的整数，条件是当n为2或更大时，多个R 2可以相同或不同 彼此。

公开(公告)号：US20090246651A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12411457

申请日：2009-03-26

申请人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

发明人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G03F7/031

摘要： A photosensitive resin composition is provided that includes at least (A) titanium black, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator (D) a resin, and (E) an organic solvent, the photopolymerization initiator (C) using in combination two or more types of photopolymerization initiators including at least one type of oxime-based photopolymerization initiator. There are also provided a light-shielding color filter having a pattern formed by using the photosensitive resin composition, a process for producing a light-shielding color filter that includes a step of coating a substrate with the photosensitive resin composition, a step of imagewise exposing, and a step of developing to form a pattern, and an image sensor having the light-shielding color filter.

摘要翻译： 提供至少包含（A）钛黑，（B）可聚合化合物，（C）光聚合引发剂（D）和树脂）和（E）有机溶剂的光敏树脂组合物，所述光聚合引发剂（C）使用 组合两种或更多种类型的光聚合引发剂，其包括至少一种类型的肟基光聚合引发剂。 还提供了一种具有通过使用感光性树脂组合物形成的图案的遮光滤色器，制造遮光滤色器的方法，该遮光滤色器包括用感光性树脂组合物涂布基板的步骤，成像曝光步骤 ，以及形成图案的步骤，以及具有遮光滤色器的图像传感器。

公开(公告)号：US20080096130A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：US11926479

申请日：2007-10-29

申请人： Koji Shirakawa ,  Toru Fujimori ,  Shoichiro Yasunami

发明人： Koji Shirakawa ,  Toru Fujimori ,  Shoichiro Yasunami

IPC分类号： G03C1/73

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122

摘要： A positive resist composition comprising (a) a resin that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, contains a structural unit having a group represented by formula (X) defined in the specification, has a weight average molecular weight of not more than 5,000, and contains an acid decomposable group in an amount of not more than 40% based on the sum total of a number of the acid decomposable group and a number of an alkali-soluble group not protected with the acid decomposable group, and (b) a compound that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（a）通过酸的作用而分解以增加在碱性显影液中的溶解度的树脂，含有具有本说明书中定义的由式（X）表示的基团的结构单元，其重均分子量 分子量不大于5000，并且基于酸分解基团的数量和未被酸保护的碱可溶性基团的总数，含有不大于40％的酸分解基团 可分解基团，和（b）在光化射线或辐射照射时产生酸的化合物。

公开(公告)号：US06927009B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10150967

申请日：2002-05-21

申请人： Kunihiko Kodama ,  Kenichiro Sato ,  Toru Fujimori

发明人： Kunihiko Kodama ,  Kenichiro Sato ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A positive photosensitive composition comprising (A) a specific acid generator that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.

摘要翻译： 一种正型光敏组合物，其包含（A）在光化射线或辐射照射时产生酸的特定酸产生剂，和（B）具有单环或多环脂环烃结构并通过酸作用分解的树脂至 增加在碱性显影液中的溶解度。

公开(公告)号：US08541161B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US13257069

申请日：2010-03-23

申请人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/375 ,  C08K5/41 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/30

摘要： Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1 and R11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R12 represents a phenyl group which may have a substituent.

摘要翻译： 提供光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，含有式（I）表示的重复单元的树脂，表示的重复单元 通过式（II）表示的重复单元和式（III）表示的重复单元，和（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生含氟原子的酸的化合物：其中R 1和R 11各自独立地表示氢 原子或可以具有取代基的烷基，R12表示可以具有取代基的苯基。