公开(公告)号：US20130280441A1

公开(公告)日：2013-10-24

申请号：US13923186

申请日：2013-06-20

申请人： Hye-Yeon Shim ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

发明人： Hye-Yeon Shim ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

IPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/30 ,  C23C14/26

CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： A deposition source with uniform deposition characteristics includes a crucible in which a deposition material is disposed; a heat transfer member disposed on upper portions of the deposition material in the crucible; and an accommodation member for accommodating the heat transfer member and including a mesh plate.

摘要翻译： 具有均匀沉积特性的沉积源包括其中设置沉积材料的坩埚; 设置在所述坩埚中的所述沉积材料的上部的传热构件; 以及用于容纳传热构件并包括网板的容纳构件。

公开(公告)号：US20110143473A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US12962910

申请日：2010-12-08

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： H01L51/52 ,  B05C17/10

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US20110076399A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12857665

申请日：2010-08-17

申请人： Hye-Yeon SHIM ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

发明人： Hye-Yeon SHIM ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

IPC分类号： C23C16/448 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： A deposition source with uniform deposition characteristics includes a crucible in which a deposition material is disposed; a heat transfer member disposed on upper portions of the deposition material in the crucible; and an accommodation member for accommodating the heat transfer member and including a mesh plate.

摘要翻译： 具有均匀沉积特性的沉积源包括其中设置沉积材料的坩埚; 设置在所述坩埚中的所述沉积材料的上部的传热构件; 以及用于容纳传热构件并包括网板的容纳构件。

公开(公告)号：US20100275841A1

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：US12769879

申请日：2010-04-29

申请人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

发明人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

IPC分类号： B05C11/00 ,  C23C14/24 ,  F27D11/00

CPC分类号： C23C14/243 ,  F27B17/0016 ,  F27B17/0075

摘要： A deposition source capable of uniformly producing a deposition film. The deposition source includes a furnace, a first heating unit surrounding the furnace to heat the furnace and a second heating unit spaced-apart from the first heating unit by an interval and surrounding the furnace to heat the furnace, wherein the second heating unit comprises a plurality of separate sub-heating units that surround the furnace.

摘要翻译： 能够均匀地产生沉积膜的沉积源。 沉积源包括炉子，围绕炉子加热炉子的第一加热单元和与第一加热单元间隔开并且围绕炉子加热炉子的第二加热单元，其中第二加热单元包括 围绕炉子的多个单独的次加热单元。

公开(公告)号：US08482422B2

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：US13437848

申请日：2012-04-02

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： G08B21/00

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US20120186517A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13437848

申请日：2012-04-02

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： B05C13/00

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US08173481B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12962910

申请日：2010-12-08

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L51/40

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US20100282709A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：US12774846

申请日：2010-05-06

申请人： Tae-Wook KANG ,  Ou-Hyon KIM ,  Chang-Soon JI ,  Hyun-Lae CHO ,  Chang-Guo AN ,  Jeong-Yeol LEE ,  Jae-Mork PARK

发明人： Tae-Wook KANG ,  Ou-Hyon KIM ,  Chang-Soon JI ,  Hyun-Lae CHO ,  Chang-Guo AN ,  Jeong-Yeol LEE ,  Jae-Mork PARK

IPC分类号： B44C1/22 ,  C23F1/08

CPC分类号： H01L51/0029 ,  H01J37/20 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/20235

摘要： A substrate plasma-processing apparatus for plasma-processing a surface of an electrode of an organic light emitting device. The substrate plasma-processing apparatus may adjust the distance between a first electrode and a substrate and adjust the distance between a second electrode and the substrate.

摘要翻译： 一种用于等离子体处理有机发光器件的电极表面的衬底等离子体处理设备。 衬底等离子体处理设备可以调节第一电极和衬底之间的距离并且调整第二电极和衬底之间的距离。

公开(公告)号：US08557046B2

公开(公告)日：2013-10-15

申请号：US12769879

申请日：2010-04-29

申请人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

发明人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/243 ,  F27B17/0016 ,  F27B17/0075

摘要： A deposition source capable of uniformly producing a deposition film. The deposition source includes a furnace, a first heating unit surrounding the furnace to heat the furnace and a second heating unit spaced-apart from the first heating unit by an interval and surrounding the furnace to heat the furnace, wherein the second heating unit comprises a plurality of separate sub-heating units that surround the furnace.

摘要翻译： 能够均匀地产生沉积膜的沉积源。 沉积源包括炉子，围绕炉子加热炉子的第一加热单元和与第一加热单元间隔开并且围绕炉子加热炉子的第二加热单元，其中第二加热单元包括 围绕炉子的多个单独的次加热单元。

公开(公告)号：US08025733B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US10619512

申请日：2003-07-16

申请人： Ji Hwan Keum ,  Chang Soon Ji ,  Hyung Min Kim ,  Sung Tae Namgoong

发明人： Ji Hwan Keum ,  Chang Soon Ji ,  Hyung Min Kim ,  Sung Tae Namgoong

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243

摘要： A deposition apparatus includes a vacuum chamber and a heating crucible. A substrate, on which deposition films are formed, is installed in the vacuum chamber. The heating crucible is installed opposite to the substrate so as to vaporize an organic compound. The heating crucible includes a main body and an inner plate. The main body includes a space which contains the organic compound and a nozzle through which the organic compound that is vaporized is discharged. The inner plate is installed within the main body and includes at least one opening formed around an edge of an area facing the nozzle, so as to transmit the vaporized organic compound.

摘要翻译： 沉积设备包括真空室和加热坩埚。 在其上形成有沉积膜的基板安装在真空室中。 加热坩埚与基板相对地安装以使有机化合物汽化。 加热坩埚包括主体和内板。 主体包括含有有机化合物的空间和排出有机化合物的喷嘴。 内板安装在主体内，并且包括围绕面向喷嘴的区域的边缘形成的至少一个开口，以便透过蒸发的有机化合物。