公开(公告)号：US20080107971A1

公开(公告)日：2008-05-08

申请号：US11795521

申请日：2005-10-25

申请人： Yasushi Fujii ,  Mitsuo Hagihara ,  Yoshinori Sakamoto ,  Naoki Yamashita

发明人： Yasushi Fujii ,  Mitsuo Hagihara ,  Yoshinori Sakamoto ,  Naoki Yamashita

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08L83/16 ,  C09D183/16 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/32137 ,  H01L21/32139

摘要： A composition for forming an intermediate layer is provided, having improved etching resistance and prevention of reflection of short-wavelength light (ability to absorb short-wavelength light). The composition for forming an intermediate layer (hard mask) is constituted to include at least (A) a silylphenylene-based polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1), and (B) a solvent. In the formula, R1 and R2 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; and m and n are integers representing the number of repeating units.

摘要翻译： 提供了一种用于形成中间层的组合物，具有改善的耐蚀刻性和防止短波长光的反射（吸收短波长光的能力）。 用于形成中间层（硬掩模）的组合物至少包括（A）具有由以下通式（1）表示的重复单元的甲硅烷基亚苯基系聚合物和（B）溶剂。 在该式中，R 1和R 2各自独立地为氢或具有1至20个碳原子的烷基; m和n是表示重复单元数的整数。

公开(公告)号：US06680155B2

公开(公告)日：2004-01-20

申请号：US10328014

申请日：2002-12-26

申请人： Mitsuo Hagihara ,  Toshiaki Tachi ,  Kenji Maruyama

发明人： Mitsuo Hagihara ,  Toshiaki Tachi ,  Kenji Maruyama

IPC分类号： G03F7023

CPC分类号： G03F7/022

摘要： A composition includes (A) an alkali-soluble resin; and (B) (b-1) a compound of Formula (I): wherein Ds are each a hydrogen atom or a naphthoquinonediazidosulfonyl group; and (b2) a quinonediazide ester of, for example, bis(2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl)-3,4-dihydroxyphenylmethane.

摘要翻译： 组合物包括（A）碱溶性树脂; 和（B）（b-1）式（I）的化合物：其中Ds各自为氢原子或萘醌二叠氮基磺酰基; 和（b2）例如双（2-甲基-4-羟基-5-环己基苯基）-3,4-二羟基苯基甲烷的醌二叠氮化物酯。

公开(公告)号：US6120969A

公开(公告)日：2000-09-19

申请号：US269881

申请日：1999-04-02

申请人： Mitsuo Hagihara ,  Kousuke Doi ,  Hidekatsu Kohara ,  Toshimasa Nakayama ,  Tetsuya Nakajima

发明人： Mitsuo Hagihara ,  Kousuke Doi ,  Hidekatsu Kohara ,  Toshimasa Nakayama ,  Tetsuya Nakajima

IPC分类号： C07C39/15 ,  C07C309/71 ,  C07C309/74 ,  C07C309/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027 ,  G03F7/023

CPC分类号： G03F7/022

摘要： Disclosed is, for example, bis(2,5-dimethyl-3-(2-hydroxy-5-ethylbenzyl)-4-hydroxyphenyl)methane and quinonediazide ester thereof. These are used for positive photoresist compositions. According to the invention, positive photoresist compositions having a high definition, a high sensitivity and a large exposure margin can be provided.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP99 / 03472 Sec。 一九九九年四月二日 102（e）1999年4月2日PCT 1998年8月4日提交的PCT是例如双（2,5-二甲基-3-（2-羟基-5-乙基苄基）-4-羟基苯基）甲烷和醌二叠氮化物 其中。 这些用于正性光致抗蚀剂组合物。 根据本发明，可以提供具有高清晰度，高灵敏度和大曝光裕度的正性光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20060251986A1

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：US10540056

申请日：2003-12-18

申请人： Kazufumi Sato ,  Mitsuo Hagihara ,  Daisuke Kawana

发明人： Kazufumi Sato ,  Mitsuo Hagihara ,  Daisuke Kawana

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition including a resin component (A) containing an acid dissociable dissolution inhibiting group whose alkali solubility increases under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid on exposure, wherein the resin component (A) is a copolymer comprising a first structural unit (a1) derived from a hydroxystyrene and a second structural unit (a2) derived from a (meth)acrylate ester containing an alcoholic hydroxyl group, in which 10 mol % or more and 25 mol % or less of a combined total of hydroxyl groups within the structural units (a1) and alcoholic hydroxyl groups within the structural units (a2) are protected with the acid dissociable dissolution inhibiting groups, and a weight average molecular weight of the copolymer prior to protection with the acid dissociable dissolution inhibiting groups is 2,000 or more and 8,500 or less.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下碱溶解度增加的酸解离溶解抑制基团和在曝光时产生酸的酸产生剂组分（B）的树脂组分（A），其中树脂组分（A）是共聚物 包含衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元（a1）和衍生自含有醇羟基的（甲基）丙烯酸酯的第二结构单元（a2），其中10摩尔％以上且25摩尔％以下的组合 结构单元（a1）中的羟基和结构单元（a2）中的醇羟基的总数被酸解离溶解抑制基团保护，并且在用酸解离溶解抑制之前保护共聚物的重均分子量 组别为2,000以上至8,500以下。

公开(公告)号：US20050042541A1

公开(公告)日：2005-02-24

申请号：US10865040

申请日：2004-06-10

申请人： Mitsuo Hagihara ,  Taku Nakao ,  Kazuyuki Nitta

发明人： Mitsuo Hagihara ,  Taku Nakao ,  Kazuyuki Nitta

IPC分类号： C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  G03C1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition includes a resin (A) that increases alkali solubility due to action of an acid, wherein the resin comprises a copolymer containing a first structural unit (a1) derived from hydroxystyrene, and a second structural unit (a2) derived from a (meth)acrylate with an alcoholic hydroxyl group, and a weight average molecular weight of the copolymer is within a range from 2000 to 8500, and 10 mol % to 25 mol % of a combined total of hydroxyl groups within the structural units (a1) and alcoholic hydroxyl groups within the structural units (a2) are protected with acid dissociable, dissolution inhibiting groups, an acid generator (B) that generates an acid on exposure to light, and polypropylene glycol (C).

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括由于酸的作用而增加碱溶性的树脂（A），其中树脂包含含有源自羟基苯乙烯的第一结构单元（a1）的共聚物和衍生自羟基苯乙烯的第二结构单元（a2） 具有醇羟基的（甲基）丙烯酸酯，共聚物的重均分子量在2000〜8500的范围内，结构单元（a1）中的羟基的总计为10〜25摩尔％ 结构单元（a2）中的醇羟基被酸解离，溶解抑制基团，在暴露于光下产生酸的酸产生剂（B）和聚丙二醇（C）保护。

公开(公告)号：US20050042540A1

公开(公告)日：2005-02-24

申请号：US10859904

申请日：2004-06-02

申请人： Waki Okubo ,  Mitsuo Hagihara ,  Kazuyuki Nitta

发明人： Waki Okubo ,  Mitsuo Hagihara ,  Kazuyuki Nitta

IPC分类号： G03F7/027 ,  C08F212/08 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03C1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0397

摘要： A positive resist composition capable of improving the occurrence of standing waves on the side walls of a resist pattern, and a method of forming a resist pattern that uses such a positive resist composition. The positive resist composition comprises a resin component (A) that displays improved alkali solubility under the action of acid, and a photoacid generator component (B) that generates acid on exposure, wherein the component (A) comprises a structural unit (a1) derived from hydroxystyrene, and a structural unit (a2) derived from a (meth)acrylate ester represented by a general formula (I) shown below, and the component (B) comprises a diazomethane based photoacid generator as the primary component.

摘要翻译： 能够改善抗蚀剂图案的侧壁上的驻波的发生的正性抗蚀剂组合物，以及使用这种正性抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法。 正型抗蚀剂组合物包含在酸的作用下显示改善的碱溶性的树脂组分（A）和暴露时产生酸的光酸产生剂组分（B），其中组分（A）包含衍生的结构单元（a1） 和由下述通式（I）表示的（甲基）丙烯酸酯衍生的结构单元（a2），组分（B）包含重氮甲烷系光酸产生剂作为主要成分。

公开(公告)号：US07402372B2

公开(公告)日：2008-07-22

申请号：US10865040

申请日：2004-06-10

申请人： Mitsuo Hagihara ,  Taku Nakao ,  Kazuyuki Nitta

发明人： Mitsuo Hagihara ,  Taku Nakao ,  Kazuyuki Nitta

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition includes a resin (A) that increases alkali solubility due to action of an acid, wherein the resin comprises a copolymer containing a first structural unit (a1) derived from hydroxystyrene, and a second structural unit (a2) derived from a (meth)acrylate with an alcoholic hydroxyl group, and a weight average molecular weight of the copolymer is within a range from 2000 to 8500, and 10 mol % to 25 mol % of a combined total of hydroxyl groups within the structural units (a1) and alcoholic hydroxyl groups within the structural units (a2) are protected with acid dissociable, dissolution inhibiting groups, an acid generator (B) that generates an acid on exposure to light, and polypropylene glycol (C).

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括由于酸的作用而增加碱溶性的树脂（A），其中树脂包含含有源自羟基苯乙烯的第一结构单元（a1）的共聚物和衍生自羟基苯乙烯的第二结构单元（a2） 具有醇羟基的（甲基）丙烯酸酯，共聚物的重均分子量在2000〜8500的范围内，结构单元（a1）中的羟基的总计为10〜25摩尔％ 结构单元（a2）中的醇羟基被酸解离，溶解抑制基团，在暴露于光下产生酸的酸产生剂（B）和聚丙二醇（C）保护。

公开(公告)号：US06730769B2

公开(公告)日：2004-05-04

申请号：US10135769

申请日：2002-05-01

申请人： Akira Katano ,  Mitsuo Hagihara ,  Ken Miyagi ,  Toshiaki Tachi

发明人： Akira Katano ,  Mitsuo Hagihara ,  Ken Miyagi ,  Toshiaki Tachi

IPC分类号： C08G1404

CPC分类号： C08L61/14 ,  C08G8/04 ,  C08G8/28 ,  C08L61/06

摘要： (i) As a primary reaction, m-cresol is allowed to react with propionaldehyde in the presence of an acid catalyst and thereby yields a polymer having a weight average molecular weight Mw of 200 to 500 and a molecular weight distribution Mw/Mn of 1.7 or less, and (ii) as a secondary reaction, the polymer is allowed to react with 3,4-xylenol and formaldehyde and thereby yields a novolak resin having an Mw of 1000 to 20000. By adding a specific photosensitizer, the novolak resin yields a positive photoresist composition.

摘要翻译： （i）作为主要反应，使间甲酚在酸催化剂存在下与丙醛反应，由此得到重均分子量Mw为200〜500，分子量分布Mw / Mn为1.7的聚合物 或更少，和（ii）作为二次反应，使聚合物与3,4-二甲苯酚和甲醛反应，从而得到Mw为1000-20000的酚醛清漆树脂。通过加入特定的光敏剂，酚醛清漆树脂产生 正性光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06630279B2

公开(公告)日：2003-10-07

申请号：US10327361

申请日：2002-12-26

申请人： Mitsuo Hagihara ,  Toshiaki Tachi ,  Kenji Maruyama

发明人： Mitsuo Hagihara ,  Toshiaki Tachi ,  Kenji Maruyama

IPC分类号： G03F7023

CPC分类号： G03F7/022

摘要： A composition includes (A) an alkali-soluble resin; and (B) (b-1) a compound of Formula (I): wherein Ds are each a hydrogen atom or a naphthoquinonediazidosulfonyl group; and (b2) a quinonediazide ester of, for example, methyl gallate.

摘要翻译： 组合物包括（A）碱溶性树脂; 和（B）（b-1）式（I）的化合物：其中Ds各自为氢原子或萘醌二叠氮基磺酰基; 和（b2）例如没食子酸甲酯的醌二叠氮化物酯。

公开(公告)号：US07666569B2

公开(公告)日：2010-02-23

申请号：US10540056

申请日：2003-12-18

申请人： Kazufumi Sato ,  Mitsuo Hagihara ,  Daisuke Kawana

发明人： Kazufumi Sato ,  Mitsuo Hagihara ,  Daisuke Kawana

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition including a resin component (A) containing an acid dissociable dissolution inhibiting group whose alkali solubility increases under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid on exposure, wherein the resin component (A) is a copolymer comprising a first structural unit (a1) derived from a hydroxystyrene and a second structural unit (a2) derived from a (meth)acrylate ester containing an alcoholic hydroxyl group, in which 10 mol % or more and 25 mol % or less of a combined total of hydroxyl groups within the structural units (a1) and alcoholic hydroxyl groups within the structural units (a2) are protected with the acid dissociable dissolution inhibiting groups, and a weight average molecular weight of the copolymer prior to protection with the acid dissociable dissolution inhibiting groups is 2,000 or more and 8,500 or less.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下碱溶解度增加的酸解离溶解抑制基团和在曝光时产生酸的酸产生剂组分（B）的树脂组分（A），其中树脂组分（A）是共聚物 包含衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元（a1）和衍生自含有醇羟基的（甲基）丙烯酸酯的第二结构单元（a2），其中10摩尔％以上且25摩尔％以下的组合 结构单元（a1）中的羟基和结构单元（a2）中的醇羟基的总数被酸解离溶解抑制基团保护，并且在用酸解离溶解抑制之前保护共聚物的重均分子量 组别为2,000以上至8,500以下。