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    Measuring apparatus, exposure apparatus having the same, and device manufacturing method
    1.
    发明申请
    Measuring apparatus, exposure apparatus having the same, and device manufacturing method 审中-公开
    测量装置，具有该装置的曝光装置和装置制造方法

    公开(公告)号：US20050270509A1

    公开(公告)日：2005-12-08

    申请号：US11144319

    申请日：2005-06-03

    申请人： Nobuaki Ogushi ,  Mitsuaki Amemiya

    发明人： Nobuaki Ogushi ,  Mitsuaki Amemiya

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F9/7076

    摘要： A measuring apparatus according for measuring relative positions between a first mark on a movable reticle stage to hold a reticle, and a second mark on a movable object stage to hold an object to be exposed, the apparatus includes a detector for detecting light that has passed the first and second marks, and a processor for calculating the relative positions based on an output of the detector, wherein each of the first and second marks includes plural patterns to direct the light, at least ones of widths and intervals of the plural patterns being non-uniform.

    摘要翻译： 一种测量装置，用于测量可动掩模台上的第一标记以保持掩模版之间的相对位置，以及在可移动物体台上的第二标记以保持待曝光的物体，该装置包括用于检测已经通过的光的检测器 第一和第二标记，以及用于基于检测器的输出来计算相对位置的处理器，其中第一和第二标记中的每一个包括多个图案以引导光，多个图案中的至少一个宽度和间隔是 不均匀

    Synchrotron radiation measurement apparatus, X-ray exposure apparatus, and device manufacturing method
    3.
    发明授权
    Synchrotron radiation measurement apparatus, X-ray exposure apparatus, and device manufacturing method 失效
    同步辐射测量装置，X射线曝光装置和装置制造方法

    公开(公告)号：US06665371B1

    公开(公告)日：2003-12-16

    申请号：US09583979

    申请日：2000-05-31

    申请人： Hideyuki Chinju ,  Yutaka Watanabe ,  Akira Miyake ,  Nobuaki Ogushi

    发明人： Hideyuki Chinju ,  Yutaka Watanabe ,  Akira Miyake ,  Nobuaki Ogushi

    IPC分类号： G21K500

    CPC分类号： H05H1/0025

    摘要： A measurement apparatus has a first detector for measuring an intensity such that a sheet-shaped beam of synchrotron radiation is integrated over the entire range of the beam in the thickness direction thereof; a second detector for measuring the intensity of the beam at two points where positions along the direction are different; and a calculating device for calculating the magnitude of the beam in the direction on the basis of the detections by the first and second detectors.

    摘要翻译： 测量装置具有用于测量强度的第一检测器，使得在波束的厚度方向的整个范围上整合同步加速器辐射的片状波束; 第二检测器，用于在沿着所述方向的位置不同的两个点处测量所述光束的强度; 以及计算装置，用于基于第一和第二检测器的检测来计算沿该方向的光束的幅度。

    Remote maintenance system
    7.
    发明授权
    Remote maintenance system 失效
    远程维护系统

    公开(公告)号：US07062343B2

    公开(公告)日：2006-06-13

    申请号：US11117455

    申请日：2005-04-29

    申请人： Nobuaki Ogushi ,  Hirohisa Ohta ,  Yoshito Yoneyama ,  Masaya Ogura

    发明人： Nobuaki Ogushi ,  Hirohisa Ohta ,  Yoshito Yoneyama ,  Masaya Ogura

    IPC分类号： G06F19/00

    CPC分类号： G03F7/70525 ,  G05B19/4184 ,  G05B23/0213 ,  G05B23/0283 ,  G05B2219/24084 ,  G05B2219/31186 ,  G05B2219/33284 ,  G05B2219/33313 ,  G05B2219/33318 ,  G05B2223/06 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18

    摘要： Factories (102–104) have host computers (107) for monitoring industrial equipment (106). Each host computer (107) is connected to a management host computer (108) on a vendor (101) side through the internet (105). The host computer (107) on the factory side detects occurrence of a trouble of the industrial equipment (106) and notifies the vendor side of status information representing a trouble state. In response to this, the host computer (108) on the vendor side notifies the factory side of response information representing a countermeasure against the trouble state.

    摘要翻译： 工厂（102-104）拥有监控工业设备的主机（107）（106）。 每个主计算机（107）通过互联网（105）连接到供应商（101）侧的管理主机计算机（108）。 工厂侧的主计算机（107）检测工业设备（106）的故障的发生，并通知供应商侧表示故障状态的状态信息。 响应于此，供应方侧的主计算机（108）向工厂通知代表针对故障状态的对策的响应信息。

    Exposure apparatus and alignment discrimination method
    9.
    发明授权
    Exposure apparatus and alignment discrimination method 失效
    曝光装置和对准鉴别方法

    公开(公告)号：US5760878A

    公开(公告)日：1998-06-02

    申请号：US702326

    申请日：1996-08-23

    申请人： Nobuaki Ogushi

    发明人： Nobuaki Ogushi

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G03B27/42 ,  G01B11/00 ,  G03B27/32

    CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/709 ,  G03F9/70

    摘要： A discrimination apparatus and method usable in an exposure apparatus for transferring a pattern of an original onto a substrate includes a device and step for producing information related to the relative positional deviation between the original and the substrate, and a device and step for discriminating an error shot on the basis of the information. The condition for positioning discrimination is changed in accordance with a layer or shot.

    摘要翻译： 可用于将原稿图案转印到基板上的曝光装置中的识别装置和方法包括：用于产生与原稿和基板之间的相对位置偏差相关的信息的装置和步骤;以及用于识别错误的装置和步骤 根据信息拍摄。 用于定位辨别的条件根据层或镜头而改变。