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    PHOTOCATALYTIC COATINGS HAVING IMPROVED LOW-MAINTENANCE PROPERTIES
    1.
    发明申请
    PHOTOCATALYTIC COATINGS HAVING IMPROVED LOW-MAINTENANCE PROPERTIES 有权
    具有改进的低维护性能的光催化涂料

    公开(公告)号：US20070264494A1

    公开(公告)日：2007-11-15

    申请号：US11733979

    申请日：2007-04-11

    申请人： Annette Krisko ,  Kari Myli ,  Keith Burrows

    发明人： Annette Krisko ,  Kari Myli ,  Keith Burrows

    IPC分类号： B32B9/00 ,  B05D1/36

    CPC分类号： C03C17/3417 ,  B01J23/30 ,  B01J35/004 ,  B01J37/0244 ,  C03C17/3435 ,  C03C2217/71 ,  C23C14/08 ,  C23C14/083 ,  Y10T428/265

    摘要： The invention provides a substrate bearing a photocatalytic coating. In some embodiments, the coating includes a photocatalytic film comprising titania deposited over a layer comprising tungsten oxide, aluminum oxide, niobium oxide or zirconium oxide. Additionally or alternatively, the photocatalytic film can include both titania and a material selected from the group consisting of nitrogen, tantalum, copper and silica. The invention also provides methods of depositing such coatings.

    摘要翻译： 本发明提供一种带有光催化涂层的基底。 在一些实施方案中，涂层包括包含沉积在包含氧化钨，氧化铝，氧化铌或氧化锆的层上的二氧化钛的光催化膜。 另外或替代地，光催化膜可以包括二氧化钛和选自氮，钽，铜和二氧化硅的材料。 本发明还提供沉积这种涂层的方法。

    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
    3.
    发明申请
    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films 有权
    用于沉积亲水涂层的方法和设备，以及用于薄膜的沉积技术

    公开(公告)号：US20060118408A1

    公开(公告)日：2006-06-08

    申请号：US11129820

    申请日：2005-05-16

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/00

    CPC分类号： C23C14/568 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/36 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/352

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
    4.
    发明申请
    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films 有权
    亲水性涂料，沉积亲水性涂料的方法和改进的薄膜沉积技术

    公开(公告)号：US20060121315A1

    公开(公告)日：2006-06-08

    申请号：US11293032

    申请日：2005-12-02

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B18/00 ,  B32B19/00

    CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/3464 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/266

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
    5.
    发明授权
    Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films 有权
    用于沉积亲水涂层的方法和设备，以及用于薄膜的沉积技术

    公开(公告)号：US08092660B2

    公开(公告)日：2012-01-10

    申请号：US11129820

    申请日：2005-05-16

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： C23C14/00

    CPC分类号： C23C14/568 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/71 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/36 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/352

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
    7.
    发明授权
    Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films 有权
    亲水性涂料，沉积亲水性涂料的方法和改进的薄膜沉积技术

    公开(公告)号：US07923114B2

    公开(公告)日：2011-04-12

    申请号：US11293032

    申请日：2005-12-02

    申请人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    发明人： Kari Myli ,  Gary Pfaff ,  James Brownlee ,  John German ,  Annette Krisko ,  Klaus Hartig

    IPC分类号： B32B9/00

    CPC分类号： C23C14/08 ,  C03C17/36 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/75 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/365 ,  C23C14/3464 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/266

    摘要： The invention provides certain embodiments that involve sputtering techniques for applying a mixed oxide film comprising silica and titania. In these embodiments, the techniques involve sputtering at least two targets in a common chamber (e.g., in a shared gaseous atmosphere). A first of these targets includes silicon, while a second of the targets includes titanium. Further, the invention provides embodiments involving a substrate bearing a hydrophilic coating, which can be deposited by sputtering or any other suitable thin film deposition technique. The invention also provides techniques and apparatuses useful for depositing a wide variety of coating types. For example, the invention provides thin film deposition technologies in which sputtering apparatuses or other thin film deposition apparatuses are employed.

    摘要翻译： 本发明提供了涉及用于施加包含二氧化硅和二氧化钛的混合氧化物膜的溅射技术的某些实施方案。 在这些实施例中，这些技术涉及在公共室中（例如，在共享气体气氛中）溅射至少两个靶。 这些目标中的第一个包括硅，而第二个目标包括钛。 此外，本发明提供了涉及具有亲水涂层的基底的实施例，其可以通过溅射或任何其它合适的薄膜沉积技术进行沉积。 本发明还提供了用于沉积各种涂层类型的技术和装置。 例如，本发明提供了使用溅射装置或其它薄膜沉积装置的薄膜沉积技术。

    PHOTOVOLTAIC DEVICE
    8.
    发明申请
    PHOTOVOLTAIC DEVICE 审中-公开
    光电器件

    公开(公告)号：US20120060891A1

    公开(公告)日：2012-03-15

    申请号：US13209753

    申请日：2011-08-15

    申请人： Benyamin Buller ,  Douglas Dauson ,  Chungho Lee ,  Scott Mills ,  Dale Roberts ,  Rui Shao ,  Zhibo Zhao ,  Keith Burrows ,  Annette Krisko

    发明人： Benyamin Buller ,  Douglas Dauson ,  Chungho Lee ,  Scott Mills ,  Dale Roberts ,  Rui Shao ,  Zhibo Zhao ,  Keith Burrows ,  Annette Krisko

    IPC分类号： H01L31/0224 ,  H01L31/042 ,  H01L31/18

    CPC分类号： H01L31/03925 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022466 ,  H01L31/073 ,  H01L31/1836 ,  Y02E10/543 ,  Y02P70/521

    摘要： A multilayered structure including a first barrier layer adjacent to a substrate, a barrier bi-layer adjacent to the first barrier layer, the barrier bi-layer comprising a second barrier layer and a third barrier layer, a transparent conductive oxide layer adjacent to the barrier bi-layer, and a buffer layer adjacent to the transparent conductive oxide layer and method of forming the same. A multilayered substrate including a barrier layer structure having a plurality of barrier layers being alternating layers of low refractive index material and high refractive index material, a transparent conductive oxide layer adjacent to the barrier bi-layer and a buffer layer adjacent to the transparent conductive oxide layer. The multilayered structure may serve as a front contact for photovoltaic devices.

    摘要翻译： 包括与衬底相邻的第一阻挡层，与第一阻挡层相邻的势垒双层的多层结构，包含第二阻挡层和第三势垒层的阻挡双层，与阻挡层相邻的透明导电氧化物层 双层和与透明导电氧化物层相邻的缓冲层及其形成方法。 一种多层基板，包括具有多个阻挡层的阻挡层结构，所述阻挡层是低折射率材料和高折射率材料的交替层，与所述阻挡双层相邻的透明导电氧化物层和与所述透明导电氧化物相邻的缓冲层 层。 多层结构可以用作光伏器件的前触点。